2013 수처리장치 소개서

주식회사 이 지 스 본사 및 공장 : 경기도 화성시 삼성1로 4길 21번지(석우동 19-11번지) 전화 번호 : 031 221 1690. 팩스번호 : 031 221 1689 홈 페이지 : www.hi-aegis.com

ISO 9001 특 허 연구소 벤처기업

이온결정화 촉매

수처리 장치 기술

목 차

www.hi-aegis,com 2/22

1. 인 사 말

2. 회사 연혁

3. 회사 현황

4. 기술 소개

5. 제품 개요

6. 시험 및 검증

7. 제품

2005년도에 설립된 이지스 ( ) 는 반도체 및 디스플레이 공정에 사용되는 고온 및 냉각수 배관

의 수질 제어 및 안정화를 위한 수처리 장치를 제작 공급하여 왔습니다.

이지스는 제품의 설계, 생산 및 시험에 이르는 기술력과 검증된 장비 및 인력을 지닌 반도체 및 디스플레이

산업의 선도적인 System, 특수장비 및 부품전문 제조 기업으로서, 최신식 설비에 의해 생산된 제품들은 고객의

요구 사항인 규격 및 기준에 만족하는 품질을 지속적으로 공급 및 발전시켜 왔습니다 .

우리, 이지스는 반도체 및 디스플레이 공정에 사용되는 고온 및 냉각수 배관의 수질 제어 및 안정화 수처리

장치 및 기술에 대하여 세계적인 기업이 되고자 고객 감동을 실현을 위해 경쟁력 있는 가격과 투명한

공정관리를 통한 고품질의 제품을 고객이 만족할 때까지 지속적인 개발을 통해 끊임없이 공급토록 노력

하겠읍니다 .

주식회사 이지스 대표이사 명 달 호

1. 인사말


2005 02 세원엔지니어링 설립

2005 05 반도체 Pump Rack 설치 (Through 장비업체)

2005 12 설비 확장 및 이전 (경기도 화성시 반월동 31-5)

2006 02 한국 ULVAC 가스 라인 및 배관 공사

2007 01 삼성반도체 (반도체, LCD) 납품업체(아이마켓) 등록

2007 04 기술신용기금 벤처기업 인증

2007 05 이지스 법인 전환

2007 06 엘티베큠 업체 등록

2008 03 삼성전자 세라믹 히타 수리업체 등록

2009 10 냉각수 배관에 영구 자석이 장착된 반도체 제조장치 특허 기술등록

2009 10 진공 배관에 영구 자석이 장착된 반도체 제조장치 특허 기술등록

2008 12 자본금 1억 5천만 원 증자

2009 07 ISO 9001 품질 보증 시스템 인증

2009 11 한국산업기술진흥협회 기업부설 연구소 인증

2009 12 포항제철(POSCO) 리스트 티타늄 생성 진공 Project 참여

2010 06 울산 홍인 화학 Gas Room 설계 및 시공


2. 회사 연혁


2. 회사 연혁

2010 08 향남 제 2공장 증설

2011 09 GES 증설라인 배관공사

2012 01 GST Scrubber 조립 및 부품 공급

2012 03 제 1.2 공장 통합 이전 (경기도 화성시 삼성1로4길 21번지 / 석우동 19-11번지 -현 주소)

2012 05 가스 분사관 연결장치 특허 기술 등록

2012 07 이온결정화 촉매장치를 이용한 수처리 장치 특허기술 등록

2013 04 러시아 KORUND 특수 보온 및 단열 도료 한국 총판 계약

2013 05 반응관을 이용한 수처리 장치 특허기술 등록

2013. 06 수질 안정화를 위한 회전형 수처리 장치 특허기술 출원

2013. 07 ISO 14001 환경 경영 시스템 인증

3-1. 회사 개요

회 사 명 : 주식회사 이 지 스

설립 년도 : 2005년 (대표이사 명 달 호)

AEGIS : 이지스(AEGIS)는 그리스 신화에 존재하는 제우스의 방패의 영어식 표현으로서

주변 요소로부터의 반도체 시스템 및 장비의 완벽한 보호 기술 개발을 뜻한다.

회사 심벌 :

3-2. 본사 및 공장

주 소 : 경기도 화성시 삼성1로 4길 21번지(석우동 19-11번지)

전화 번호 : 031-221-1690. 팩스 번호 : 031-221-1689

홈 페이지 : www.hi-aegis.com, E-mail : [email protected]

3-3. 해외 지사 : 러시아. 중국. 대만

3-4. 자 본 금 : 150,000,000 원

생산 능력 : 20,000,000,000 원

3-5. 회사 경영 방침 : 고객사랑을 실천하는 믿음 있는 기업이 되자


3. 회사 현황

mailto:[email protected]




1. 이온결정화 수처리 기술이란?

4. 기술 소개

상수도 , 반도체 및 화학 및 산업 플랜트 설비에 사용하는 고온 및 냉각수 계통의 각종 배관의 노후의

근본원인으로 작용하는 배관의 부식 및 스케일에 대한 방지 및 제거를 하기 위해 개발된 장치로서,

아연의 희생 양극원리와 전기석을 지닌 천연 광물질의 하이드록실 전자 이온의 원리를 주 핵심기술로

사용하고 있다.

이온결정화 촉매 기술을 이용한 수처리 장치는 몸통과 반응관의 2개의 구조로 형성되며, 몸통은

알루미늄 합금 소재를 사용하면서, 외부는 아노다이징(Anodizing), 내부는 신소재 특수 코팅 처리가

이루어 졌으며, 이온결정화 및 촉매반응이 이루어지는 반응관은 Zn, 테프론 및 세라믹을 주성분으로 한

원통형의 구조로 이루어 졌으며, 반응관을 이용한 유체에 의한 이온 및 전자의 활성화에 의해 부식 및

스케일의 제거와 방지가 이루어 진다.

2-1. 부식

금속이 주어진 환경의 성분과 화합하여 스케일 및 녹과 같은 금속 또는 비금속산화물을 만들어 금속으로의 성질과

성능을 잃고 소모되어 가는 현상을 부식이라 한다.

2-2. 녹

철이 공기중의 산소분자들과 반응해서 적갈색의 산화철로 변화된 것을 말한다.

1) 녹의 생성원리

Fe(철) 분자에서 빠져 나온 전자가 H₂O (물)과 O₂(산소)와의 결합을 촉진시켜 OH⁻(수 산화이온)을 발생시키는데 OH⁻(수산화이온)이 Fe⁺⁺ (철)이온과 결합하여 산화철인Fe₂O ₃로 형성되는 것을 말함 <화학식> Fe → Fe⁺⁺ +2e⁻ 2H₂O + O₂+ 4e⁻ → 4OH⁻ 2Fe + 2H₂O + O₂→ 2Fe⁺⁺ +4e⁻ +2H₂O + O₂→ 2Fe²⁺ +4OH⁻ → 2Fe(OH)₂ 4Fe(OH)₂ + O₂+2H2O → 4Fe²⁺ + 8OH⁻ + O₂+2H2O → 4Fe³⁺ + 4e⁻ + O₂+2H2O + 8OH⁻ → 4Fe³⁺ + 12OH⁻ → 4Fe(OH)₃ 2Fe(OH)₃ → 2Fe³⁺ + 6OH⁻ → Fe₂O ₃ + 3 H2O

철은 이온화 되면서 전자를 방출하고 이 전자가 배관 내에 있는 물과 산소와 결합하여 수산화 이온(4OH⁻)을 발생 시킨다. 이온화된 철(Fe⁺⁺)은 수산화이온(4OH⁻)과 결합하여 Fe(OH)₂ 이 되고 Fe(OH)₂은 또 다시 배관 내에 있는 물과 산소와 반응하여 Fe²⁺가 전자를 방출하게 되어 Fe(OH)₃이 된다. Fe(OH)₃가 물을 잃으면 붉은색의 녹인 Fe₂O₃ (x 3 H2O) 가 된다. 여기서 H₂O 는 물이므로 Fe₂O ₃만 남게 된다.


2. 부식 및 스케일이란 ?

4. 기술 소개

2) 녹의 제거원리 철보다 이온화 경향이 큰 아연이 지속적으로 이온화 되면서 아연전자가 배관 내 형성된 녹(Fe2O3. )과 반응하여 검정 색의 자철석(Fe3O4, Magnetite)로 변환시키며, 또한 영구적인 전기를 띠는 천연광물질이 주원료인 세라믹에서(최대 0.3u 100만V)에 이르는 전기가 발생하여 강한 전자를 방출하여 철은 더 이상 부식되지 않는 검정색의 자철석으로 변환된다. <화학식> 3Fe₂O ₃(녹) + H₂O + 2 e⁻(아연전자) → 6Fe³⁺ + 9O²⁻ + H₂O + 2 e⁻ → 2(3Fe³⁺ + 4O²⁻) + O²⁻ + H₂O + 2 e⁻ → 2Fe₃O ₄(자철석) +¹ / ₂O₂+ H₂O

변화된 자철석은 계속적으로 아연으로부터 전자를 공급받아 철(Fe)로 환원하여 순수한 철만 남는다. <화학식> Fe₃O ₄(자철석) + ⁵ / ₂e ⁻ (아연전자)→ Fe(철)로 환원

3) 녹의 방지원리 희생양극법에 의한 아연(Zn)이 끊임없이 이온화되어 아연이 산소와 먼저 결합함으로써 철과 산소가 더 이상 반응 할수 없으므로 부식이 방지되며, 반응관 내부의 영구적인 전기를 띠는 천연광물질이 주 원료인 세라믹에서 최대 0.3u 100만V에 이르는 전기가 발생하여 강한 전자를 방출하여 철은 더 이상 부식되지 않는 검정색의 자철석 (Fe3O4, Magnetite) 으로 변화된다. <화학식> Zn → Zn²⁺ + 2e⁻


4. 기술 소개

2-3. 스케일 배수관중에 무기질 염류인 칼슘, 마그네슘 등의 화합물 또는 규산염[硅酸鹽)등이 입자를 형성하여 침상구조의 형태로 배관에 부착되어 형성된 입자를 말한다.

1) 스케일 생성원리 배관내의 용수에는 무기물 및 염류성분이 녹아져 있는데 이것이 Ca²⁺, Mg²⁺, Na²⁺ 등과 같은 양이온과 HCO₃⁻ , SO₄⁻, CI⁻과 같은 음이온으로 존재하며 온도변화에 따라 양이온과 음이온이 결합하여 스케일을 형성하고 주로 CaCO₃, MgSO, SiO₂로 배관 내에 7의 침상구조로 붙어 있다 <화학식> Ca²⁺ +2HCO₃⁻ → CaCO₃+ CO2 + H2O Mg²⁺ +2HCO₃⁻ → MgCO₃+ CO2 + H2O

2) 스케일 방지원리 무기물 입자(+)들이 반자성체인 알루미늄 케이스와 아연 반응관 사이를 지나면서 알루미늄 케이스와 아연 반응 관은 극성(-)을 띠어 대전되는데, 반응관을 채우고 있는 전기적 성질을 가진 세라믹에 의해 물분자(H2O)는 수소 이온(H+) 이온과 수산화 이온(OH-)로 분리되며 주변의 물분자와 결합하여 히드록실(H3O2)음이온이라고 하는 계면활성 물질이 된다. 계면활성물질은 물과 기름을 결합하기 쉽게 하여 같이 씻겨 나가게 하는 물질로써 히드록실 음이온이 스케일 원인 물질과 결합 하여 스케일의 형성을 제거 및 방지하고, 알루미늄 케이스와 아연반응 관사이에서 유체 순환하는 구조 를 통해 이온화를 촉진시켜 양이온과 음이온의 결합을 분리시키면서 스케일 조직을 허물게 한다.


4. 기술 소개

3) 스케일 제거원리

갈바닉 (Galvanic Effect)효과에 의해 15배가량 커진 평균 110 원반 모양의 구상구조로 변환된 스케일은 더 이상 배관에 달라 붙는 성질을 상실하고, 배관내벽의 스케일을 끊임없이 두드려서 기존의 스케일을 제거해 나간다. 이때 스케일 입자들이 고체상태인 탄산칼슘(CaCO3)의 형태로 제거되는 것이 아니라, 물에 잘 녹는 중탄산칼슘 (Ca(HCO3)2)으로 변한것임. <화학식> CaCO₃+ CO2 + H2O → Ca(HCO₃) 2(중탄산칼슘)

** 이온결정화 촉매 수처리 장치는 부식 및 스케일 제거 방지 효과 외에 ㆍ 물이 유분의 유화, 침투, 분산, 가용화 작용으로 인한 연수작용 ㆍ 산화된 물질을 알카리로 환원 작용 ㆍ 청균, 항균, 제균과 같은 살균 작용 ㆍ 수질속의 무기질 및 중금속 분해 . 수소이온 농도(Ph)의 안정화 이온 및 전자 순환구조


4. 기술 소개


5-1. 이온결정화 촉매 수처리 장치

제조 회사명 이지스 부설 기술연구소

제품명 이온 결정화 촉매 수처리 장치

제품구조 몸체와 반응관(Reactor)으로 나누어져 있으며, By-pass 및 On-Line 방식으로 설치

기능 잔류이온 결정화, 수소이온 농도(Ph) 안정화,녹 방지 및 제거, 살균, 스케일 제거 및 방지

재질 몸통 : 알루미늄 + 내외부 특수 코팅, 반응관 : 아연 + 테프론 + 세라믹

설치위치 물 및 유체가 이송되는 배관에 설치

유효거리 없음 (유량에 비례)

유속 0.2m/sec 이상

유지관리조건 매월 1 회 정도 반응관 (Reactor)표면을 세척하여 이온 발생을 원활토록 한다

제품수명 유체의 상태에 따라 매년 반응관 (Reactor)의 교체 또는 촉매제를 충전을 하여야 한다.

특징 주기적인 사후 유지관리로 인한 관로 내부의 부식 방지 및 제거 효과 및 상태 확인 가능

5. 제품 개요


5-2. 이온결정화 수처리 장치 기본 원리

고농도 세라믹을 이용 이온 및 정전기 발생 효과를 가짐

핵심원리의 구현을 위한 0.06mA 전류가 발생 (0.3μ당 백만V의 전위차 발생)

히드록실 음이온 발생( 682 ION/cc 발생 )

강력한 침투 및 세척력의 원적외선 방사

스케일 및 부식 제거를 위

한 원인인 무기질물질을

일정크기의 구상구조의 변

환을 위한 수처리 장치 내

부에서 유체의 와류와 정

체를 위한 공간 확보

아연소재를 이용한 반응관의

사용으로 희생 양극원리에

의한 부식 및 스케일 방지와

다공판 형태의 반응관을 통해

유체와의 접촉 면적을 최대로

하여 정전기를 지닌 아연 이온의

효과를 극대화 시킴

정전기를 가지는 천연광물질을 소재로 한 세라믹의 지속적인 음이온 발생과 아연 반응관과 알루미늄 케이스의 전기적(전위차) 반응에 의한 스케일 원인 물질의 입자구조의 변환과 산화피막의 형성을 통한 부식 및 스케일 제거

및 방지가 핵심원리.

5. 제품 개요


5-3. 이온결정화 수처리 장치 사양

MODEL 호칭경 (mm) 호칭경 (Inch) 유량(m3/h)

AG-015 15 1/2" 1.9

AG-020 20 3/4" 3.3

AG-025 25 1" 5.2

AG-032 32 1 1/4" 8.6

AG-040 40 1 1/2" 13

AG-050 50 2" 21

AG-065 65 2 1/2" 35

AG-075 75 3" 47

AG-100 100 4" 84

AG-125 125 5" 132

AG-150 150 6" 190

AG-200 200 8" 330

5. 제품 개요


• 보일러의 효율 증대로 보일러 연료비 절감

• 열교환기의 열효율 증대로 스팀 손실을 감소시켜 보일러 연료비 절감

• 고온 및 냉각수대한 수질 안정화에 소요되는 약품 및 수질 교체 비용 절감

• 배관 및 유체수송시스템의 스케일의 축적 및 생성을 방지함으로써,

- 스케일로 인한 설비 고장 감소 및 설비의 수명 연장

- 설비 고장시, 설비의 운전 정지로 인한 설비관리 손실비용 절감

- 수질유지 괸리 시스템의 안정화(화학적 처리)를 위한 관리비용 절감

에너지절감

비용절감

• 배관 내 스케일의 생성 및 기존 스케일을 제거함으로써 수질의 연속적 보장

• 스케일, 이끼와 같은 미생물, 박테리아 서식지 제거와 생물학적 안정성 확보

• 잔류이온 결정화, 수소이온 농도(Ph) 안정화 및 산성-> 알칼리성 환원화 수질관리

5. 제품 개요

5-4. 제품 적용 분야


시험결과

1. 칼날의 시험결과 : 일반부식보다 부식현상이 약 85%이상 격감

2. 1차 부식이 붉게 형성된 칼날의 시험결과: 칼날표면이 검게

부동태로 변화되어 부식이 더 이상 진행되지 않음

3. 부천시 지하수를 수처리 장치를 통과시키어 분석한 결과 :

물질의 변화의 원인인 입자 및 결정체인 원인인 무기질의 수치가

대단히 낮은 수치로의 변환 ( 침상구조 --- >구상구조 )

(수처리 장치 시험 상태) (부식된 시편 / 시험후1개월 경과 상태) 2 1 3

1. 3일 경과후 일반 수돗물

에서의 일반 부식 상태

2. 유사 수처리 장치로 인한

처리결과

3. 당사 수처리 장치로 인한

처리결과

6-1. 스케일 필터 부식방지 시험



6-2. 보일러실 스케일제거 시험


에너지

손실( ) %

스케일 두께(mm)

1 3 6 9 12

10% 20%

35%

45%

55%

출처 : 에너지관리공단

※ 보일러급수, 급탕 보급수, 냉.난방 순환수, 산업용 냉각순환수 부문에서 효과 입증.


2008.07 OOO 반도체 냉각순환수 테스트 시행 (30일 경과)

6-3. 반도체 수질정화 시험 (Sample )

OOO반도체 생산라인 (CVD공정)에서 사용되고 있는

냉각순환수 시료

이온결정화 촉매 장치를 이용한 시험결과


⇒ 왼 쪽 : 현재 O O 반도체에서 사용되는 냉각수 샘플 ⇒오른쪽 : 이온결정화 수처리 장치 를 이용한 시험 결과 오염물질 침전 및 분해됨


6-4. 수소이온 농도 환원 시험 (Sample)



6-5. 성능 검증 OOO반도체 생산라인 냉각순환수 장착 [CVD공정-HARP-USG설비]

평가결과 (00동 CVD공정 Coolant 2차 수질분석 자료)

항목 외관 pH EC ORP SS* TS**

단위 - - / mV mg/L

A 흑갈색 4.57 363 +245 31.2 1049.1

B 황갈색 취기 6.5 202 +360 202 269

C 백색 에멀전 6.5 3 +278 0.4 151,916

항목 Ni Se Fe Zn Al Si T-Cr

Cu

단위 mg/L

A 4.6 31.7 31.4

1.1 23.4

2.4 21.4

4.46

B 0 0 0 0.3 0 0 0 0.3

C 0.4 0.1 1.7 40 86.9

0.1 0.5 0.7

시험및 측정방법

- EC : Orion 152, 전기전도도 측정기

- 금속류 : ICP-OES(JOVIN ULTMA2)

- TOC : SHIMADZU TOC-5000A, 측정기

- 기타 : 수질공정시험방법

시 험 결 과

1) 금속성분 제거

Fe 100% , Cu 67.2%

2) PH 상승 및 안정화

4.57 ⇒ 6.5

3) 비저항 1.4MΩ 으로 지속상승.

4) 수질 향상 (탁도 외)

A : 장착 전

B : 수처리 장치 부착

C : 장착 후 45일 경과

수 질 분 석 결 과

금속성분 분석결과



6-6. 성능 검증 OOO반도체 생산라인 냉각순환수 장착 [CVD공정-HARP-USG설비]

평가결과 (8,9동 CVD공정 Coolant 2차 수질분석 자료)

A : 장착 전 / B : 수처리 장치장착 / C : 장착 후 45일 경과

0.007

4.747

8.487

12.227

15.967

비저항 Ph EC /

ORP mV

※ 개선 효과 ※

1) 기료비 절감. SUM:2.71억원/년(07년6월~08년 6월 HARP 기준)

- Head-Shower : 1.8억원/년 절감.

- Manifold : 0.45억원/년 절감.

- GasBox : 0.46억원/년 절감.

2) 정지 Loss 감소.

- 15.1% → 10.1%(5.0%감소)


맺 음 말


우리, 는 고객이 만족할때까지 최선을 다하는 선도적인

서비스 기업이 되도록 노력 하겠습니다

Documents

2013 수처리장치 소개서