에너지 저장장치

기능성 재료

첨가제 제조

광전자공학

생명과학

저희에게 맡겨주세요.저희 ALD Nano는 비용 효율적이고 정밀한 코팅을 이용한 첨단재료로 산업계를 변화시키고 있습니다. 저희는 파우더 및 기타재료에 대한 원자층/분자층 증착(ALD) 분야를 세계시장에서 선도하고 있으며, 광범위한 지적재산권(IP) 포트폴리오를 보유하고 있습니다.

파우더ALD 의 세계적인 선도기업전세계의 소비자에게 혜택을 주는 혁신적 제품의 개발을 위해서, 저희 회사는 세계적인 선도기업들과의 협력을 통해 재료설계과 반응장비 시스템 기술을 극대화하고 있습니다.

ALD 첨단재료 솔루션저희 회사는 세계적 수준의 과학자와 엔지니어로 이루어진 내부팀과 외부의 파트너 연구기관에서 개발된 ALD기술을 10년 넘게 상용화해 왔습니다.

파우더ALD를 통한 재료 솔루션원자 및 분자층 증착(ALD)은 비용효율적으로 양산될수 있습니다. 하루에

수톤의 파우더, 수킬로미터 넘는 길이의 폴리머, 그리고 수천개의 특수한

물체를 코팅할 수 있습니다. ALD는 1990년대에 실리콘 웨이퍼 기판에

다양한 화학 물질을 코팅하기 위해서 반도체 산업에 도입되어 상용화

되었습니다. 현재 반도체 산업의 시장 규모는 수십억 달러에 달합니다.

이제 대다수의 회사들이 파우더 및 기타 신재료 기판에 정밀하게 제어된

초박막 코팅을 위해 ALD 기술을 사용하고 있습니다.

ALD Nano는 고객이 파우더 재료 문제를 해결하는데 필요한

다양한ALD 코팅물질, 공정 조건 및 제조 장비 시스템을

완성하도록 도와드립니다. 저희는 파티클ALD로도 알려진,

파우더ALD에 있어서 세계적인 선도 기업입니다. 저희의 고객

및 공급채널 파트너 다수가 Fortune지 선정 500대 기업입니다.

파우더 ALD에는 다음과 같은 많은 이점이 있습니다.

• 화학 기상 증착(CVD) 및 기타 기술에 비해 우월한 정밀도와

비용 효율성을 갖고 있습니다. 따라서 ALD 를 적용하면

개선된 최종 디바이스 성능, 수명, 비용 및 안전성을 얻을 수

있습니다.

• 재료공급사, 고객사, 그리고 최종 제품생산사 모두에게 중요한

가치를 지닌 새로운 원자 규모의 재료 설계가 가능합니다.

• 증가된(또는 감소된) 화학적 안정성, 유동성, 부식, 산화,

전도성, 친수성, 광학 특성, 재료 적합성, 분산, 소결 제어,

장벽 및 질량 감소와 같은 입자의 물리적 특성을 변경함으로써

기판의 기능을 향상할 수 있습니다.

• 적절한 ALD 공정 조건에서는 입자의 크기, 모양이나 형태에

관계없이 파우더의 응집 현상이 발생하지 않습니다.

반도체 산업에 적용된 실리콘 웨이퍼상의 ALD와 비교하면,

파우더ALD는 새로운 전구체, 프로세스, 화학반응 및 제조

장비 시스템을 필요로 하므로 코팅 증착에 있어서 독특한

도전과 기회를 제시합니다.

파우더ALD의 장점 및 기판 코팅 사례

균일한 크기의 실리콘 웨이퍼

웨이퍼간의 상호작용 없음

파티클이 없는 환경

최소한의 전구체 사용

좁은 공정 조건

좁은 표면적

웨이퍼 용 장비

적은 종류의 화학반응이 적용됨

입자크기의 분포

입자간의 상호작용

파티클이 있는 환경

1000배 많은 전구체

넓은 공정조건

넓은 표면적

신규장비 및 재료 제작

넓은 범위의 다양한 화학반응

열적 충전재

재료 적합성

분산된 촉매

새로운 구조

전기적 절연

재료 안정성

분산 강화

표면 변화

비교항목 ALD 타 증착방법 (PVD, CVD, PECVD)

Line of sight 를 요구하지 않음 예 아니오

막과 기판의 화학결합 예 아니오

잔류물 및 입상구조의 막형성 방지 예 아니오

나노미터 두께의 제어 예 아니오

증착기술의 비교

위에 인용된 이미지에 대한 논문정보는 ALD Nano 에 연락해 주세요.

ALD Nano가 다음과 같이 도와드립니다ALD Nano 는 ALD 화학반응, 공정조건 그리고 제조 장비 시스템을 제공함으로써, ALD재료 솔루션을 고객들에게

제공하는 것을 전문으로 하고 있습니다. 저희 엔지니어링 팀은 ALD 반응장비를 설계하여 자체적인 연구 및 생산에

사용합니다. 이러한 ALD 반응장비 설계는 고객사에 ALD재료 솔루션을 위해 제공되기도 합니다. 저희는 또한 선도적인

화학 전구체 개발자 및 공급 업체와 협력하여 세계 최고의 ALD 코팅 화학반응을 보장합니다.

ALD Nano 제품 개발팀은 3 단계 게이트 프로세스를 통해서 고객과 협력하여 개념 단계에서 ALD재료의 양산 단계로

이동합니다. 기술검증 단계에서는 저희가 재료의 문제점을 정의하고 해결합니다. 기판 조건, 재료 성능 요구 사항 그리고

성공을 정의하는 데 사용되는 기타 측정 기준은 ALD Nano와 고객 간의 작업 계획에 기초합니다. 이 단계는 원하는 재료

및 ALD 화학반응 및 공정레시피에 대한 개념 증명(Proof-of Concept) 샘플을 생산하기 위한 것입니다.

벤치 규모에서 성공적인 샘플을 생산한 다음에는, 공동 개발 협약(JDA)을 통해 파일럿 규모의 재료 솔루션을 개발하는

데 중점을 둡니다. 최종 단계인 양산에서의 ALD 재료의 출시를 위해서, 저희는 ALD 화학반응, 공정 레시피와 독점적인

반응장비 시스템 설계를 고객의 재료 제조 시설에 도입합니다. 또한 저희 회사 시설을 이용하여 고객을 위해 ALD재료를

유료로 생산해 드릴 수도 있습니다.

ALD 코팅 경험각각의 코팅재료를 적용하는 방법은 다양합니다. 2001

년 이래로 ALD Nano는 100 개 이상의 상업 고객을

대상으로 ALD재료 코팅 문제를 해결함으로써 광범위하고

깊은 경험을 쌓아 왔습니다. 저희는 수많은 종류의 파우더

기판을 다루어왔고, 새로운 ALD 코팅 화학반응 및 공정을

만들어 냈습니다(오른쪽 표 참고).

저희는 기존의CVD 가 적용된 기판에, 우수하면서도

저비용의 ALD 프로세스 개발을 위한 프로젝트를 수행한

바 있습니다. 또다른 프로젝트에서는 CVD와 같은 모든

기존 증착 방법의 적용이 어려워, ALD를 통한 혁신이

요구되었습니다.

3단계에 걸쳐 생산량은 증가하고, 완제품의 비용은 감소합니다. 벤치 규모 공정은 수십 또는 수백 그램의 코팅된 파우더를

생산할 수 있는 반면, 양산 규모의 반응장비는 하루에 수톤의 코팅된 파우더를 생산할 수 있습니다. ALD Nano는 이러한

모든 범위를 포괄하는 능력과 경험을 갖추고 있습니다.

저희 고객을 위해 만들어진 ALD 재료는 제품 및 서비스의 번들 입니다 화학반응 및 공정레시피 • 반응장비 시스템 • IP 라이센스 • 사용료 공정작업

1단계고객의 과제 설명서고객은 새로운 재료의 문제점 또는 현재의 증착 문제점에 대한 조사를ALD Nano 에게 의뢰합니다.

2단계기판 세부항목고객은 재료 수용서 (MAF) 와 안전 데이터 시트 (SDS) 를 작성하여 ALD Nano 에게 기판에 대해 알려줍니다.

3단계실험계획서 (DOE)ALD Nano는 코팅 화학반응, 분석 테스트, 취급 기준 및 기타 사항을 제안합니다.

4단계작업범위서 (SOW)고객의 승인을 위해 공식 가격 견적, SOW 및 작업범위서가 제출됩니다.

5단계결과 평가

고객과 ALD Nano 는 결과를 검토합니다. 실험이 성공적인 경우 파일럿 규모로 이동하고, 그 이외에는 문제가 해결될 때까지 3~5 단계를 반복합니다.

1 기술 타당성

2 파일럿 규모 3 양산규모

코팅될 파우더

금속 : 니켈, 철, 텅스텐, 다양한

합금

탄소 : 탄소나노튜브

(다중벽, 이중벽 및 단일벽),

그래핀, 카본블랙, 다이아몬드

금속산화물 : 산화지르코늄,

산화티타늄, 산화아연, 리튬

혼합금속산화물, 이트륨 안정화

산화 지르코늄, 다양한 혼합

금속 산화물

금속질화물 : 질화붕소,

질화알루미늄

기타 : 황화아연, 다양한 폴리머

20 nm~1mm의 크기

코팅 화학반응

금속산화물 : 산화알루미늄,

산화티타늄, 산화아연,

산화지르코늄, 산화실리콘,

산화텅스텐, 산화루테늄

금속불화물 : 불화알루미늄

금속 : 백금, 루테늄

혼합금속산화물 : 알루미늄

도핑된 산화아연, 기타물질

알콕사이트 폴리머 박막 : 알루콘, 티탄콘, 다양한

분자층증착(MLD) 박막

ALD 반응장비 시스템 및 공정제어ALD를 사용하여 파우더를 처리하려면

강력하고 새로운 엔지니어링 솔루션 및

반응장비 설계가 필요합니다. 재료 코팅

솔루션을 개발하기 위해서 ALD Nano

는 최선의 파우더ALD 반응장비 시스템의

제품군을 설계해 왔습니다. 저희 회사는 기술

검증 단계에서 고객을 위한 개념 증명 샘플

자료를 제공하는 수많은 시스템을 보유하고

있습니다. 또한 ISO를 포함한 엄격한

QA/QC 요건을 준수하여 재료를 생산하는

파일럿 및 상업용 생산 시스템을 보유하고

있습니다. 또한 전체 시설 운영에는 최첨단

안전 프로그램이 포함됩니다.

ALD Nano의 파우더 반응장비 시스템은

크기, 작동 조건 및 처리 용량 면에서

융통성이 있습니다. 오른쪽 표는 저희

시설에서 사용중인 ALD 반응장비에 대한

사양입니다. 이는 고객에게 ALD재료

솔루션을 위해 제공하는 제품 및 서비스

번들의 일부로 제공됩니다. 저희는 다양한

기판 및 코팅 화학반응의 관리를 위한

광범위한 능력을 보유하고 있습니다.

IP 포트폴리오 및 폴리머 특수물체의 ALD ALD Nano의 IP 포트폴리오는 미국, 유럽, 일본 및 기타 지역에서 50건 이상의 출원 또는 등록된 특허와 다양한

노하우를 포함하고 있습니다. 이 IP의 대부분은 저희의 주요 연구 파트너인 콜로라도 주립대학(University of

Colorado, Boulder)에 의해 개발되었습니다. 콜로라도 주립대학은 20년 전부터 시작된 세계적인 파우더 ALD 연구

프로그램을 보유하고 있습니다.

ALD 파우더 코팅의 문제점을 해결하는 과정에서, 폴리머 및 특수 물체 코팅을 위한 IP 및 재료 솔루션이

개발되었습니다.

저희는 콜로라도 주립대학의 IP 독점 라이센스를 주계약 하에 획득하였으며, 매년 자체 개발한 IP를 포트폴리오에

추가하고 있습니다. 고객사가 ALD 첨단 재료를 통해 산업계를 변화시킬 수 있도록, 저희가 보유한 IP 포트폴리오의

다양한 기술을 라이센스로 제공합니다.

ALD첨단재료 솔루션에 관하여 문의해주세요.

info@aldnanosolutions.com • +1 (303) 318-4145 • 580 Burbank Street, Unit 100, Broomfield, CO 80020 USA www.aldnanosolutions.com

ALD 반응장비 시스템

유동상 반응장비 (FBR)

회전식 반응장비 (Rotary)

연속식 진동 반응장비 (CVR)

기판의 부피 배치당 75mL~10L

10mL~40L 시간당15L~150L

기판의 질량 (밀도에 따라서)

배치당 75g~12.5kg

배치당 10g~50kg

시간당15kg~150kg

증기흡입구 기본 2(최대 8) 기본 2(최대 8) 기본 2(최대 8)

규정준수 요청시 CE, GMP 및 ISO 규정준수

무게 150kg~ 500kg

150kg~ 2,000kg

250kg~ 4,000kg

배기 배출 및 경감장치

반응장비는 지역의 관할 구역 규제와 규정을 준수하도록 설계될수 있습니다.

전기 요구조건 프로젝트에 따름, 맞춤형. 요청시 더 자세한 내용이 제공될 수 있습니다.

입증된 파우더 직경

10nm~ 500 μm

10nm~ 200 μm

5nm~ 50 μm

잠재적 파우더 직경

2nm~1mm 2nm~10cm 10nm~1cm

다른 특징 최고의 전구체 사용 효율

플라즈마 ALD 와 호환

대기압에서의 작업

KOR