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超高純度ガス精製器「ファインピュアラー」
酸素用
複数の触媒及び吸着剤の組み合わせにより、簡単・低コストでppbレベルの超高純度ガスが得られます。
特 長
製品ラインナップ
ご採用先様
■不活性ガス、水素、酸素に対応■経済的(再生可能)
●微量分析計用キャリアガス、ゼロガス●溶接用シールドガス
●各種半導体製造装置、CVD装置など、高純度を 要求される雰囲気ガス、パージガス
●各種メーカー様(半導体、光ファイバー、自動車、分析計、精密装置) ●大学、各種研究機関様
高純度ガス( >99.999vol.% )
※寸法は裏面の寸法図をご参照願います
■入口ガス純度条件
(単位ppb)
不純物成分
精製ガス
分析計
H2 COCH4 CO2 H2O
<10 <10<10 <10 <10(D.P.-100℃)
RGA GCGC GC 露点計
■精製保証値
■超高純度・長寿命・コンパクト
■適用ガス ■適用ガス
新開発の化学吸着剤を採用し、長寿命化・コンパクト化を実現。また構造のシンプル化により、コンタミネーション防止性を向上。
■入口ガス純度条件高純度ガス( >99.999vol.% )
■精製保証値 (単位ppb)
不純物成分
精製ガス
分析計
O2 CO CO2 H2O
<1 <1 <1 <1(D.P.-110℃)
API-MS API-MSGCAPI-MSor
露点計
当該技術の適用先(用途)
MFP-1/MFP-2~3.0/~5.0(L/min)
FPI-1/FPH-1~15/~30(NL/min)
FPI-2/FPH-2~30/~60(NL/min)
FPI-3/FPH-3~50/~100(NL/min)
FPI-4/FPH-4~300(NL/min)
近日リリース予定
FPI-W-3/FPH-W-3~100/~200(NL/min)(省スペースタイプ)
FPO-1~20(NL/min)
■超高純度高活性クリーン触媒により、不純物除去性能が飛躍的に向上。シンプルな構造なので、コンタミネーション防止性を向上。反応管の断熱に真空断熱法を採用することで、クリーンルーム内に設置してもダストの発生無し(FPO-1,2型)
FPI型・FPH型 N2 FPO型 O2Ar He Ne Xe Kr H2
〒541-0041 大阪市中央区北浜四丁目7番19号(住友ビルディング第3号館5F)TEL:06-4706-2701産業ガス営業部 営業チーム
https://www.liquidgas.co.jp/
不活性ガス用 水素用
※電源:AC100V 300W
ラインナップ
b
bb
a
a
a
バルブ付
バルブなし
バルブ付
型 式
470(612) 652.8(805.2)
27.2φ 34φ 48.6φ 76.3φ
③ FPI(H)-1 ④ FPI(H)-2 ⑤ FPI(H)-3 ⑦ FPI(H)-4
寸法(mm)
a
b
型 式
84.0(226.2)
34.0φ 42.7φ
① MFPI(H)-1 ② MFPI(H)-2
寸法(mm)
a
b
a FPO-2
b
型 式
544
726
⑥ FPI(H)-W-3
寸法(mm)
a
b
※電源: AC100V 300W
対象ガス種
不活性ガスN2ArHeNeXeKr
SUS316L EP
0.0098~0.971
常 温 0.0098MPaG未満
350℃/常温(反応筒/吸着筒)
0.049MPaG未満
0.003μmSUS316L
高純度ガス(純度99.999vol%以上)
1/4VCRオス(メス)
1/4VCRメス
1/4VCRオス(メス)
1/2 VCRオス(メス)
1/2 VCRオス(メス)
3/8VCRオス(メス)
3/8VCRオス(メス)
有
有
有
4,380
1,460
45
35.6
25.6
2.6
~ 20.0
~ 20.0
~ 0.5
③ FPO-2
② FPO-1
① FPO-M
有 10,200 102,000 8.6~ 200.0 ⑥ FPH-W-3
有/無 1,867 18,670 1.6(2.2)~100.0 ⑤ FPH-3
~ 300.0 ⑦ FPH-4
有/無 833 8,330 1.0(1.6)~60.0 ④ FPH-2
有/無 531 5,310 0.7(1.3)~30.0 ③ FPH-1
有/無 56 560 0.3(0.9)~5.0 ② MFPH-2
有/無 33 330 0.2(0.8)~3.0 ① MFPH-1
有/無 2,054 20,540 1.6(2.2)~50.0 ⑤ FPI-3
~ 300.0 ⑦ FPI-4
有/無 916 9,165 1.0(1.6)~30.0 ④ FPI-2
有/無 585 5,850 0.7(1.3)~15.0 ③ FPI-1
有/無 56 560 0.3(0.9)~5.0 ② MFPI-2
有/無 33 330 0.2(0.8)~3.0 ① MFPI-1
水素H2
酸素※
O2
流量NL/min 型 式 バルブ弁 本体材質 使用圧
MPaG 温 度 圧 損 内蔵フィルタ
入口ガス純度条件 5N
寿命(精製量 約Nm3)
6N
重量 kg接 続
0.098~0.971
【寸法図】
b
a
バルブなし
FPO-M FPO-1
有~100.0 ⑥ FPI-W-3 11,200 112,000 8.6
3,888 38,880 4.2(4.8)
3,888 38,880 4.2(4.8)
型 式
250
589
① FPO-M
寸法(mm)
a
b
469
1,049
② FPO-1
855
1,055
③ FPO-2
a
b
a
b
a
b
最大流量 10NL/min
寸法 W600 × L600 × H1,800(mm)重量 約100kg
電源(消費電力) AC100V(150W)接続 1/4inVCR (オス)計装空気 0.5MPaG
HPHe-10ヘリウム精製装置■コスト削減■純度4Nの工業用ヘリウムを6N以上の高純度ヘリウムに精製可能
適用ガス
精製保証値
入口ガス純度条件
除去対象不純物
He
トータル 100ppm(4N)以下
トータル 6ppb(8N4)以下
N2 , CH4 , O2 , CO , CO2 , H2O
ハイピュアラー■自動再生型 超高純度ガス精製器
適用ガス
流 量
ユーティリティー
不活性ガス、水素、酸素、空気
3~10Nm3/h
LN2 10L/週
電力(単相100Vまたは単相200V)計装空気水素(不活性ガス用のみ、 純度99.999%、2NL/min)
新製品 ファインピュアラー FPI-1GTR ■電源BOX一体型 ■ヘリウム不足対策に!
適用ガス He , Ne , Ar , Kr , Xe
入口ガス純度条件 トータル 10ppm(5N)以下
精製保証値 トータル 10ppb(8N)以下
除去対象不純物 H2 , N2 , CH4 , O2 , CO , CO2 , H2O
最大流量 1.0NL/min
寸法 φ114× H472(mm)
重量 7.8kg
電源(消費電力) AC100V(55W)
接続 1/16in Swagelok(メス)
不活性ガス用 水素用 酸素用
( )はバルブ付きの場合
有/無
有/無
():バルブ付寸法 ():バルブ付寸法
※消費電力及び計装空気の流量・圧力はモデルにより異なりますので 各モデルの取扱説明書をご参照下さい。