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0.00
elec
tron e
ner
gy d
istr
ibuti
on
4035302520151050electron energy [eV]
SSHOS
0.14
0.12
0.10
0.08
0.06
0.04
0.02
0.00
elec
tron e
ner
gy d
istr
ibuti
on
4035302520151050
electron energy [eV]
SSHOSsample value
average value
2-1. 高次のサンプリング(Higher Order Sampling:HOS)
これらの技術を適切に制御して使用するためには,放電の性質の理解が必要
気体放電プラズマの応用分野
ガスレーザ,プラズマディスプレイ,プラズマCVD,半導体プラズマプロセシング,有害化学物質の除去など
背景
気体放電プラズマ中には様々な種類の粒子が存在し,これらの粒子によって放電が維持されるが,特に,電子群の性質が放電の性質を決定付ける
放電の性質
理由① 電子は気体放電プラズマを構成する粒子(中性気体分子(原子),励起分子,
正イオン,ラジカル,光子等)の中で最も質量が小さく,電界によって容易に加速され高エネルギー状態になり,他の粒子に大きな影響を及ぼすため
理由② 気体放電プラズマを構成する各粒子は,中性気体分子(原子)に電子が衝突することによって生成されるため
気体放電プラズマ中の電子群の性質は,電子スオームパラメータによって表され,これは電子エネルギー分布から計算される
電子群の性質
電子エネルギー分布を知ることは放電の性質を知ることに等しい
コンピュータを用いたシミュレーション方法の一つであるモンテカルロシミュレーションによって,電子のエネルギーをサンプリングし,電子エネルギー分布を得る
電子エネルギー分布の計算方法
エネルギーの範囲を微小区間(bin)に区切り,各bin内のエネルギー
を持った電子数をカウントし,そのヒストグラムを作成して電子エネルギー分布を表現する
詳細な電子エネルギー分布を求めるためには,binを密にしなければならない
統計変動を低減させるには追跡電子数の増加が必要となる
高次のサンプリングと平滑化スプライン[2]を用い,オーバーラップサンプリングを行わずに計算時間の増加を抑えつつ,詳細な電子エネルギー分布を求める方法を開発した
本研究で開発した方法は,高次のサンプリングと平滑化スプラインとの2つの部分から構成される
ここでは,第9項目までを考慮したLegendre多項式を用いて電子の密度勾配を表現している
Legendre多項式
221100 )()()( fPfPfPfi
10 P 1P 2/)13( 22 P
2/)(
2/)(
1
1
ii
ii
iN
j
Pf
1
002
1
iN
j
Pf
1
112
3
iN
j
Pf
1
222
5
iはbinの番号を表す
Niは区間i ~i+1 に含まれる電子数を表す
平滑化スプラインを用いて,全てのbinに対する電子エネルギー分布が連続性を持つようにつなぐ
HOSでは,bin毎に独立して多項式を求めるため,binの境界では電子エネルギー分布の連続性が保証されない
データ点の補間を行う関数式
n点のデータ点に対する(2m-1)次の平滑化スプライン
mn
i
iim xNbxpxf
1
1 )()()(
mi
ij jji
mj
ixP
xxxN
)(
)()(
,
12
Pm-1(x)はm-1次以下の多項式を表す
biはデータ点の座標および優先度の設定によって定まる係数
)()(
)(0)(
12
12
jm
j
jmj
xxxx
xxxx
)()(
)())(()(
1
11,
mjjj
jjijijjji
xxxx
xxxxxxxP
本シミュレーションは下記の条件を用いて行い,SST(steady state Townsent)実験の平衡条件における電子エネルギー分布を求めた
対象ガス CF4 (0 ℃, 1 Torr)
換算電界E/p 400 Td
初期電子数n0 103 個および106 個
電極 2.0 cm間隔, 電子の完全吸収壁
サンプリングのbin幅D HOS → 10 eV, SS → 0.02 eV
サンプリングのエネルギー範囲 0~40 eV
HOSによって得られた電子エネルギー分布は,SSによって得られた
電子エネルギー分布の存在する範囲から大きく外れることがないため,矛盾しない値であることがわかる
多数の点に対して平滑化スプラインを求めることは難しいので,各bin当り20点の標本値(sample value)
を抽出して平滑化スプラインを求める
拡大図から,binの境界においては,不連続になっていることがわかる
今回得られた結果を,n0 =106に増加させたときのSSによって得られた電
子エネルギー分布(統計変動が十分小さい)と併せて示す
両者の曲線が非常に良く一致していることがわかる
HOSとスプライン関数を用いることにより,計算時間の増加を抑えつつ,詳細な電子エネルギー分布が得られることがわかった
binの境界においては,各binでサ
ンプリングされる電子数の重みをつけて平均した値(average value)を境界での標本値としている
全エネルギーにわたって連続した電子エネルギー分布が得られることがわかる
HOSと平滑化スプラインの組合わせによる電子エネルギー分布の新しいサンプリング技法を開発した
Legendre多項式を用いることによって,各binにおける電子数の密度勾配を詳細に表現することができた
各bin毎に20点の電子エネルギー分布の値を標本値として抽出し,この標本値に対して平滑化スプラインを適用することで,全エネルギー範囲にわたって連続した電子エネルギー分布が得られた
今回の方法によって得られた結果を,追跡電子数を増加させ統計変動が十分小さい場合のSSによって得られた電子エネルギー分布と比較すると,非常に良く一致することがわかった
( はHOSにおけるbin幅(D =10
eV))
1. はじめに
目的
2. 計算方法
3. 計算条件
2-2. 平滑化スプライン
SSと異なり,bin内における電子エネルギー分布の詳細な変化を表現できるので,bin幅を広げることが可能
bin幅を広く設定することができるので,1つのbin当りにサンプリングされる電子数が減尐せず,統計変動は増加しない
4. 計算結果
4-1. HOSおよびSSで得られた電子エネルギー分布
4-2. HOSの標本値抽出
滑らかさを考慮しているため,全ての標本値を忠実に通過しているわけではないことがわかる
4-3. 標本値に対する平滑化スプライン(present)の適用
4-4. SSとの比較
5. まとめ
0.14
0.12
0.10
0.08
0.06
0.04
0.02
0.00
elec
tron e
ner
gy d
istr
ibuti
on
4035302520151050electron energy [eV]
present
SS (D=0.02eV n0=106 )
[2] 吉村和美他:「パソコンによるスプライン関数」,東京電機大学出版局 (1988)[1] Peter L. G. Ventzek et al. : J. Appl. Phys. 75. 15. 3785 (1994)
0.14
0.12
0.10
0.08
0.06
0.04
0.02
0.00
elec
tron
ener
gy d
istr
ibut
ion
4035302520151050
electron energy [eV]
sample value
average value
present
統計変動が増加する 計算時間が増加する
問題点
従来のサンプリング技法(Standard Sampling:SS)
Ventzek[1]らが提案したサンプリング技法であり,高次のサンプリングとそのオーバーラップサンプリングによって,計算時間の増加を抑えつつ詳細な電子エネルギー分布を求める方法
LPWS(Legendre Polynomial Weighted Sampling)法
高次のサンプリングを使用することで,計算時間の増加を抑えることができるが,binの境界で電子エネルギー分布が不連続になるので,binを
オーバーラップさせながらサンプリングして重ね合わせることにより,全エネルギー範囲にわたって連続した電子エネルギー分布を得る
したがって,追跡電子数を増やす必要がなくなるため,計算時間の増加を抑えることができる
高次のサンプリングとスプラインを用いた電子エネルギー分布のサンプリングDevelopment of novel sampling technique of electron energy distribution using higher order sampling and spline
木村 太朗* ,佐藤 孝 紀,伊藤 秀 範 (室蘭工業大学)
オーバーラップさせることによって,計算に無駄が生じること サンプリングされる電子数の差によって,bin毎に電子エネルギー分布の信頼性が異なるの
だが,その点が考慮されていないこと
問題点
多項式を用いて各bin内における電子数の密度勾配を表現する方法
「データ点を忠実に通過すること」および「得られる関数が滑らかであること」のうち,どちらを優先するかについて,自由に設定することができるという特徴をもつ