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低電圧CMOSディジタル集積回路のためのPVTバラツキ補償技術 1 北海道大学大学院 情報科学研究科 情報エレクトロニクス専攻 次田 祐輔 1 , 上野 憲一 1 , 廣瀬 哲也 2 , 浅井 哲也 1 , 雨宮 好仁 1 2 神戸大学 工学研究科 電気電子工学専攻 -Process, supply voltage, and temperature compensation circuit for low-voltage CMOS digital circuits- [email protected] http://lalsie.ist.hokudai.ac.jp/jp/

低電圧CMOSディジタル集積回路のためのPVTバラ …lalsie.ist.hokudai.ac.jp/publication/dlcenter.php?fn=dom...低電圧CMOSディジタル集積回路のためのPVTバラツキ補償技術

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低電圧CMOSディジタル集積回路のためのPVTバラツキ補償技術

1北海道大学大学院 情報科学研究科 情報エレクトロニクス専攻

次田 祐輔1, 上野 憲一1, 廣瀬 哲也2, 浅井 哲也1, 雨宮 好仁1

2神戸大学 工学研究科 電気電子工学専攻

-Process, supply voltage, and temperature compensation circuit for low-voltage CMOS digital circuits-

[email protected] http://lalsie.ist.hokudai.ac.jp/jp/

背景

ポータブルアプリケーション

1. VDDの低減    2. 高Vthトランジスタ

ディジタル回路の動作速度バラツキの増大

2

プロセス・温度

Vthバラツキ

・歩留まりの低下

・設計が最適化できない

背景ーバラツキ

(die-to-die) (within-die)

! !"

2.D2Dバラツキ 1.WIDバラツキ

!Vth , !µ , !Cox , !L , !W ,

parameter x

P(x)

"Vth , "µ , "Cox , "L , "W ,

均一分布を想定 ガウス分布を想定

P(x)

parameter x

3.温度バラツキ

絶対値が変化 相対精度が変化

プロセス誤差 温度変化

Vthとµ が変化

!

µ ~ µ0

T0

+ "T

T0

#

$ %

&

' (

)m

!

Vth

~ Vth 0

"# T0

+ $T( )

Vth0!絶対零度(0K)でのVth

m!1.5

µ0! 室温(300K)でのµ

,

” ”

” ”

3

背景ー1.WIDバラツキ

【インバータチェーン遅延時間バラツキの段数依存性】

ランダムバラツキのみを考慮したモンテカルロシミュレーション(100回)

Dela

y v

ariation :!

/µ (%

)

0.0

1.0

2.0

3.0

4.0

5.0

6.0

7.0

ランダム成分の平均化 ”

The number of stage

0 20 40 60 80 100

4

背景ー2.D2Dバラツキ

!Vthp (V)

!L (µm)

!#/#

2.0

1.0

0.0

-1.0

0.0 0.1

-0.1 -0.05

0.0

0.05

VDD=2 V

【インバータチェーン遅延時間バラツキの電源電圧依存性】

数値計算解析

!

" =C

loadV

DD

Ion

!

Ion

~W

LµC

oxV

DD"V

th( )#

!

Cload

~ Cox

LW!次段のゲート容量

!

( !トランジスタの飽和式

!

"#

#~

!

"

VDD#V

th

$Vth

%

& ' f

!

2"L

L

#

$ %

!

µ, ,

低電圧ではVthバラツキにより動作速度バラツキが増大 ”

動作速度: 動作速度バラツキ

!Vthp (V)

!L (µm)

!#/#

2.0

1.0

0.0

-1.0

0.0 -0.1 -0.05

0.0

0.05

VDD=1 V

5

背景ー3.温度バラツキ

!

"#

#~

m

T0

$%&

VDD$V

th 0+ &T

0

'

( )

*

+ , "T

Norm

aliz

es tem

pera

ture

     

Coeffic

ient (%

/!)

Supply voltage (V)

1.0 1.5 2.0 2.5 3.0 -0.5

-0.4

-0.3

-0.2

-0.1

0.0

0.1

0.2

0.3

低電圧ではVthバラツキにより動作速度バラツキが増大

!

" =C

loadV

DD

Ion

動作速度:

動作速度バラツキ

【インバータチェーン遅延時間バラツキ温度係数の電源電圧依存性】

SPICEシミュレーション

6 ”

Ion,n

Ion,p

プロセスバラツキ

温度変化

オン電流

Vthがばらつくと

!

Ion

~ K VDD"V

th( )

低電圧CMOSディジタル回路の動作速度バラツキ補正

±0.1 V

0.1 V

CMOS digital circuit

$

目的

7

Iref

Compensation

circuit Iref

Iref

CMOS digital circuit

ディジタル回路のオン電流バラツキの補正

バラツキ補正アーキテクチャ

8

PVTバラツキに

強い電流源

電流源①

Vbattery

Vth0n :絶対零度でのしきい値電圧

Iref

プロセスのVthバラツキをモニタ

Threshould voltage monitoring circuit Reference current source

Vth0n

9 Ueno K., Hirose T., Asai T., and Amemiya Y., "A 0.3-"W, 7 ppm/°C CMOS voltage reference circuit for on-chip process monitoring in

analog circuits," ESSCIRC, pp. 398-401, (Sep. 15-19, 2008).

Vth0n Iref

ZTCバイアス

R1 = 9 k#, R2 = 50 k#,

R1/R2 = 0.18

電流源②

Vbattery

Threshould voltage monitoring circuit Reference current source

ZTCバイアスの生成

10 Ueno K., Hirose T., Asai T., and Amemiya Y., "A 300 nW, 7 ppm/°C CMOS voltage reference circuit based on subthreshold MOSFETs,"

ASSCC, pp. 95-96, (Jan. 19-22, 2009).

Vbattery

Vth0n

Iref

ZTCバイアス ・Temp. Coefficient

!

Iref

= K VTH0

1+R

1

R2

"

# $

%

& ' (V

TH

) * +

, - .

/

・R1/R2 for TC=0

電流源③

R1

R2

PVTバラツキに強い電流源 Process, Supply Voltage, Temperature

Th

res

ho

uld

vo

ltag

e

Mo

nit

ori

ng

cir

cu

it

11

Vbattery

Ion,n Ion,p Iref

Th

res

ho

uld

vo

ltag

e

Mo

nit

ori

ng

cir

cu

it

オン電流バラツキ補正回路①

12

ディジタル回路トランジスタのバラツキをモニタ

Vbattery

Ion,n Ion,p Iref

Th

res

ho

uld

vo

ltag

e

Mo

nit

ori

ng

cir

cu

it

電源電圧 ”

基板電位 ”

nMOSFET pMOSFET 13

オン電流バラツキ補正回路②

DC/DC converter

Th

resh

ou

ld v

olt

ag

e

Mo

nit

ori

ng

cir

cu

it

Vbattery

VDD

【INV】 【NOR】 【NAND】

(=3.6 V)

(=1.0 V)

Current reference

circuit

Process monitoring

circuit CMOS digital circuit Buffer circuit

14

オン電流バラツキ補正回路③

桁上げ先見型加算器

【4bit桁上げ先見加算器】

X0 Y0 X1 Y1 X2 Y2 X3 Y3 C0

S0

S3

S2

S1

C4

Vin Vout

Critical pass:Delay

4bit adder 4bit adder

15

【8bit加算器】

シミュレーション結果

Delay (nsec)

Occu

rre

nces

WID&D2Dバラツキを考慮したモンテカルロシミュレーション(200回)

補正なし:

補正あり:

VDD=1 V

!/µ=34.8%

!/µ=12.8%

0

20

40

60

80

100

12 20 28 36 44 52 60

64%の改善 ”

Process:0.35 µm 2P-4M CMOS

8bit桁上げ先見加算器の遅延時間バラツキ

16

8bit桁上げ先見加算器の遅延時間バラツキ

Temperature (!) 電源:Vbattery (V)

Dela

y (

nsec)

Dela

y v

ariatio

n (

%)

2.6 2.8 3.0 3.2 3.4 3.6 -20 40 60 80 100 0 20

25

20

30

35

40

0.0

-0.2

-0.4

-0.6

0.2

0.4

0.6

・温度依存性 ・電源:Vbattery依存性

補正なし

補正あり

0.055 %/! ”

0.94 %/V ”

” シミュレーション結果

Process:0.35 µm 2P-4M CMOS

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まとめ

プロセスバラツキ

温度変化

電源変動

64 %改善

0.94 %/V

0.055 %/!

18

今後   最先端プロセスへの応用

・定電流源を用いたバラツキ補正回路を提案

……