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サブミクロン CMOS を用いた 低位相雑音 電圧制御発振器 (VCO) の研究 小林由佳 伊藤浩之 石原 昇 益 一哉 東京工業大学 統合研究院 背景 チップと測定結果 まとめ 本発表では低位相雑音を満たすために支配的なトランジスタの雑音を 抑制するVCO回路を提案した.提案回路は1.91GHz-134dBc/Hz@1MHz offsetの低位相雑音動作を達成した. Si CMOSプロセスの微細化 On-chip CMOS RF 回路が実現 ユビキタス社会の実現 様々な周波数帯の無線通信方式が存在(400MHz-6GHz) 複数の通信方式を満たす多機能端末が実現 1チップで複数の通信方式に対応可能な マルチバンド CMOS RF フロントエンドの要求 電圧制御発振器(VCO): チャネルを選択に必要 [要求される性能] ・広帯域動作 (400MHz-6GHz) ・低位相雑音 (GSM規格) ・低消費電力動作 ・小面積 ・電源,基板ノイズの高い耐性 submicron CMOS process,etc. Mobile phone(WCDMA ,GSM) WLAN(802.11a/n/b/g , Bluetooth, Zigbee, WiMAX) GPS, DTV, EDGE, etc. 低消費電力 小面積 低コスト LOの位相雑音 チャネル1 所望波 周波数 位相雑音: 隣接チャネルで干渉 理想的なLO チャネル2 所望波 PA LNA LO LPF DAC AGC ADC I Q LPF 1/N VCO MIX MIX LPF Baseband LSI RF Front - End PLL PFD DUP 本発表ではサブミクロンCMOSを用いた 低位相雑音VCOについて検討する 提案 VCO の回路トポロジー L(∆ω):位相雑音 F:ノイズファクタ Q tank :共振器のQ値≒Q L P osc :発振出力パワー[W] f o :発振周波数[Hz] f c :コーナー周波数[Hz] f:オフセット周波数[Hz] 微細化に伴い,位相雑音は悪化の可能性 位相雑音で支配的なノイズ源 トランジスタのフリッカ雑音 トランジスタの熱雑音 インダクタの熱雑音 ,etc. 支配的なトランジスタ の雑音を抑制する 回路トポロジーを検討 位相雑音のモデル式(Leesonの式) 提案回路 低位相雑音化のための回路技術 1, pMOS電流源 2, CMOS3, 容量結合 4, フィルタリング 5, High-Q インダクタ Cross-coupled pair 4kTγg d0 1/WL チャネル熱雑音 フリッカ雑音 低消費電流と大振幅 が位相雑音抑制に望まれる 容量結合 バラクタのAM-FM変調に より位相雑音が悪化 V ctrl bias gnd 低周波のインピーダンス を高める Vctrl [V] 0 1.8 1.2 0.6 C bias C a Capacitance bias AM noise V ctrl bias フィルタリング 実質的なQ tank の劣化, mixingによるノイズの重畳 →位相雑音が悪化 f o 2f o f o, 3f o コモンモードのfo2次の インピーダンスを高める High-Qインダクタ Wafer Level Package (WLP) 技術[2] 5µm以上の厚い配線膜と10µm以上の絶縁膜 1.9GHz40程度の高Qインダクタを実現可能 [2] K. Itoi, et al., IEEE MTT-S IMS, pp. 197-200, 2004. 600µm 1000µm Joint pads Filtering WLP inductor 180nm CMOS process *FoM(Figure of Merit) -130 -110 -170 -150 -50 -30 -90 -70 1k 10k 100k 1M 10M Offset frequency [Hz] Phase noise [dBc/Hz] with on-chip inductor with WLP inductor 6dB 提案VCO On-chip VCO Process 180nm CMOS 180nm CMOS + WLP 電源電圧 1.8V 1.8V 発振周波数 1.91GHz 1.92GHz 消費電力 5.7mW 5.7mW Tuning range 40MHz 42MHz 位相雑音 -134dBc/Hz -128dBc/Hz @1MHz offset FoM* -193dBc/Hz -186dBc/Hz 提案回路は 低位相雑音, 性能向上 を達成 { } + = m P f f f L FoM DC offset o offset 1 log 10 log 20 謝辞:WLP技術はフジクラ(株)の協力を得た.また回路開発において,大橋一磨(現 松下 電器産業)、岡田健一(現 東京工業大学 電子物理専攻 准教授)に感謝する 1+ P osc L(∆ω)= 2 2kTF 2Q tank f f o 1+ f f c [dBc/Hz] 消費電流 フリッカ雑音 振幅 nMOS 種類 Good Good[1] * pMOS CMOS Poor Good Good Poor Poor Medium Medium CMOS型を採用 同じg m をもつとすると… *Symmetry [1] H. Wang, JSSC, vol. 35, no. 2. pp. 286-287, Feb.,2000 V ctrl V dd V bias f o f o

サブミクロンCMOSを用いた低位相雑音電圧制御発振器(VCO)masu- · 回路トポロジーを検討 位相雑音のモデル式(Leesonの式) 提案回路 低位相雑音化のための回路技術

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サブミクロンCMOSを用いた低位相雑音電圧制御発振器(VCO)の研究

小林由佳 伊藤浩之 石原 昇 益 一哉

東京工業大学 統合研究院

背景

チップと測定結果

まとめ. 本発表では低位相雑音を満たすために支配的なトランジスタの雑音を抑制するVCO回路を提案した.提案回路は1.91GHzで-134dBc/Hz@1MHzoffsetの低位相雑音動作を達成した.

Si CMOSプロセスの微細化 On-chip CMOS RF回路が実現

ユビキタス社会の実現 様々な周波数帯の無線通信方式が存在(400MHz-6GHz) 複数の通信方式を満たす多機能端末が実現

 1チップで複数の通信方式に対応可能なマルチバンドCMOS RF フロントエンドの要求

電圧制御発振器(VCO): チャネルを選択に必要[要求される性能]

 ・広帯域動作 (400MHz-6GHz) ・低位相雑音 (GSM規格) ・低消費電力動作

 ・小面積

・電源,基板ノイズの高い耐性

 ・submicron CMOS process,etc.

Mobile phone(WCDMA ,GSM) WLAN(802.11a/n/b/g , Bluetooth, Zigbee, WiMAX)GPS,DTV,EDGE, etc.

低消費電力小面積低コスト

LOの位相雑音

チャネル1

所望波 周波数

位相雑音: 隣接チャネルで干渉

理想的なLOチャネル2

所望波

PA

LNA

LO

LPF DAC

AGC ADC

I QLPF

1/NVCO

MIX

MIX LPF

Bas

eban

d LS

I

RF Front - End

PLLPFDDUP

本発表ではサブミクロンCMOSを用いた低位相雑音VCOについて検討する

提案VCOの回路トポロジー

L(∆ω):位相雑音 F:ノイズファクタ

Qtank:共振器のQ値≒QL Posc:発振出力パワー[W]fo:発振周波数[Hz] fc:コーナー周波数[Hz]∆f:オフセット周波数[Hz]

微細化に伴い,位相雑音は悪化の可能性

位相雑音で支配的なノイズ源 トランジスタのフリッカ雑音

 トランジスタの熱雑音

 インダクタの熱雑音 ,etc.

支配的なトランジスタ

の雑音を抑制する

回路トポロジーを検討

位相雑音のモデル式(Leesonの式)

提案回路

低位相雑音化のための回路技術

1, pMOS電流源

2, CMOS型3, 容量結合

4, フィルタリング

5, High-Q インダクタ

Cross-coupled pair4kTγgd0

∝∝

1/WLチャネル熱雑音フリッカ雑音

低消費電流と大振幅が位相雑音抑制に望まれる

容量結合バラクタのAM-FM変調により位相雑音が悪化

Vctrl

bias gnd

低周波のインピーダンスを高める

Vctrl [V]0 1.81.20.6

CbiasCa

Cap

acita

nce

bias

AM noise

Vctrlbias

フィルタリング実質的なQtankの劣化,mixingによるノイズの重畳→位相雑音が悪化

fo

2fo

fo,3foコモンモードのfoの2次のインピーダンスを高める

High-QインダクタWafer Level Package (WLP) 技術[2]5µm以上の厚い配線膜と10µm以上の絶縁膜

1.9GHzで40程度の高Qインダクタを実現可能[2] K. Itoi, et al., IEEE MTT-S IMS, pp. 197-200, 2004.

600µm

1000µm

Joint pads

FilteringWLP inductor 180nm CMOS process

*FoM(Figure of Merit)

-130

-110

-170

-150

-50

-30

-90

-70

1k 10k 100k 1M 10MOffset frequency [Hz]

Phas

e no

ise

[dB

c/H

z]

with on-chipinductor

with WLPinductor 6dB

提案VCO On-chip VCOProcess 180nm CMOS 180nm CMOS + WLP電源電圧 1.8V 1.8V発振周波数 1.91GHz 1.92GHz消費電力   5.7mW 5.7mWTuning range 40MHz 42MHz位相雑音 -134dBc/Hz -128dBc/Hz@1MHz offsetFoM* -193dBc/Hz -186dBc/Hz

提案回路は低位相雑音,性能向上を達成

{ }

+

−=

mP

fffLFoM DC

offset

ooffset

1log10log20

謝辞:WLP技術はフジクラ(株)の協力を得た.また回路開発において,大橋一磨(現 松下電器産業)、岡田健一(現 東京工業大学 電子物理専攻 准教授)に感謝する

1+Posc

L(∆ω)=2

2kTF2Qtank∆f

fo 1+∆ffc [dBc/Hz]

消費電流 フリッカ雑音振幅

nMOS種類

Good Good[1]*pMOSCMOS

PoorGood

GoodPoorPoorMedium Medium

CMOS型を採用

同じgmをもつとすると…

*Symmetry [1] H. Wang, JSSC, vol. 35, no. 2. pp. 286-287, Feb.,2000

Vctrl

VddVbias

fo fo