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Quantum Design 中国子公司
Durham 公司荣誉出品
Quantum Design Chinawww.qd-china.com
获取更多信息请垂询中国区独家代理：
MicroWriter ML®3
无掩模直写光刻系统
Quantum Design 中国子公司
无 掩 模 直 写 光 刻 系 统 是 英 国 Durham
Magneto Optics公司专为实验室设计开发，为微
流控、SAW、半导体、自旋电子学等研究领域提
供方便高效的微加工方案。Microwriter ML 3 是
一款多功能激光直写光刻系统，具有结构小巧紧
凑(70X70X70cm3)，无掩模直写光刻系统的灵活
性，还拥有高直写速度，高分辨率的特点。采用
集成化设计，全自动控制，可靠性高，操作简便。
适用于各种实验室桌面。
为了更好满足客户需求，同时节省客户采购
成本，第三代Microwriter分为三个型号，基本型，
增强型，旗舰型：
MicroWriter ML3
Durham Magneto Optics
电子/半导体器件
微机电系统
微流控
传感器
应用领域 自旋电子学
材料科学
生物实验芯片设计
维纳光子学
Microwriter ML3 基本型 增强型 旗舰型
最大样品尺寸 155mm×155mm×7mm 155mm×155mm×7mm 230mm×230mm×15mm
最大直写面积 149mm x 149mm 149mm x 149mm 195mm x 195mm
曝光光源 405 nm LED 1.5W 405 nm LED 1.5W385 nm LED 可用于SU-8
（365+405nm双光源可选）
直写分辨率 1μm (0.6 um*) 1μm and 5 μm 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm
直写速度 20mm2/min @1μm
(10mm2/min @0.6μm)*
20mm2/min @1μm
120mm2/min @5μm
25mm2/min @0.6μm
50mm2/min @1μm
100mm2/min @2 μm
180mm2/min @5μm
对准显微镜镜头 x10 x3 and x10 自动切换 x3, x5, x10, x20 自动切换
多层套刻精度 ±1μm ±1μm ±0.5μm
最小栅格精度 200nm 200nm 100nm
样品台最小步长 100nm 100nm 50nm
温控样品腔室 无 (可升级) 无 (可升级) 有
光学轮廓探测 无 (可升级) 有(Z分辨率200nm) 有(Z分辨率100nm)
注：标星* 为可选件，不包含在标准价格内
Quantum Design 中国子公司
产品特点
Clewin 软件掩模图形设计软件 简单的直写软件 直写前预检查
• 可以读取多种标准图形的设计文
件（DXF, CIF, GDSII, Gerber）
• 可以直接读取TIFF, BMP 等图片
格式
• 书写范围只由基片尺寸决定
MicroWriter 由 一 个 简 单 直 观 的
Windows界面软件控制。工具栏会
引导使用者进行简单的布局设计、
基片对准和曝光的基本操作。该软
件在Windows10系统下运行。
软件可以实时显微观测基体
表面，并显示预直写图形位
置。通过实时调整位置、角
度，直到设计图形按要求与
已有结构重合，保证直写准
确。
MicroWriter ML Series
Microwriter ML3 配备光学轮廓探测工具，用于
匀胶后沉积层，蚀刻层，MEMS等前道结构的形貌探
测与套刻。Z向最高精度100 nm，方便快捷。
Focus lock
技术是利用自动
对焦功能对样品
表面高度进行探
测，并通过Z向调
整和补偿，以保
证曝光分辨率。
Focus Lock自动对焦功能 光学轮廓探测
样品盘上放置多个基片，每片基片定义不同的:• 偏移量• 起始位置• 坐标• 图形• 大小
多任务设置
点击“Bulls-Eye”按
钮，系统自动在显微
镜图像中识别光刻标
记。标记物被识别后，
将自动将其移动到显
微镜中心位置。
标记物自动识别
Quantum Design 中国子公司
Quantum Design China www.qd-china.com [email protected]
北京市朝阳区霄云路36号
国航大厦0306-0308室
邮编：100027
电话：010-85120280
上海市静安区威海路511号
上海国际集团大厦1405室
邮编：200041
电话：021-52280980
广州市天河区珠江新城华强路2号
富力盈丰大厦1712室
邮编：510623
电话：020-89202739
微电极制备
微结构制备
微流通道制备
加工案例展示
