Upload
risa-arnold
View
13
Download
0
Embed Size (px)
DESCRIPTION
Óbudai Egyetem Kandó Kálmán Villamosmérnöki Kar Mikroelektronikai és Technológia Intézet. - PowerPoint PPT Presentation
Citation preview
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
Nanokristályos memóriaelemek számítógépes modellezéséhez alkalmazott számítási algoritmusok
összehasonlításaMolnár Károly Zsolt and Horváth Zsolt József
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
TARTALOM
1. Nanokristályos memóriaelemek számítógépes modellezésének áttekintése
2. Számítási eljárás
3. Alkalmazott algoritmusok tesztelése
4. Megállapítások
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
1. Nanokristályos memóriaelemek számítógépes modellezésének
áttekintése
Rétegszerkezet Potenciál eloszlás
Si
~5.1 eV
Si3N4 Al
~3.1 eV ~1.05 eV
Si NC
~9 eV
SiO2
nanocrystal gap
q·Voxide
q·Vnitride
0 xoxide xnitride
x
Si nanocrystals
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
1. Nanokristályos memóriaelemek számítógépes modellezésének
áttekintése
Si nanocrystals J2 – töltéshordozók kiáramlása
nanokristályokban tárolt töltésmennyiség:
σ3 =Δt .(J1 – J2)
J1 – töltéshordozók beáramlása
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Számítási eljárás
1. A térerősségek – és ezzel együtt a potenciál-eloszlás – meghatározása az
egyes rétegekben.
2. A térerősségek alapján a be- ill. kifolyó áramok számítása.
3. A be- ill. kifolyó áram különbségéből a szerkezetben tárolt töltésmennyiség
számítása.
4. A tárolt töltésmennyiségből a flat-band feszültség számítása.
5. Az iteráció ismétlése az első lépéstől.
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Számítási eljárás
Töltésbeviteli és töltéstárolási tulajdonságok értékelési lehetőségei:
(1) memória-hiszterézis
(2) memóriaablak(3) betöltődés és retenció vizsgálat
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Számítási eljárás
Alkalmazott összefüggések2211sp dEdEV
2
3
2
112 EE
T
b
T
b
T
s
T
bs
s
Tisss U
chU
shUU
chUnq
signE 0
)(2)(
1s
1s EE
iTb n
nlnU
q
TkUT
22
3 dVFB
dtJJd 213
Bemeneti változók:
VP , dox , dn1 , dn2 , εox , εn , εn1 , εn2
(1)
(2)
(3)
(4)
(5)
(6)
(7)
(8)
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Számítási eljárás
Sávelhajlás számítása
(9)
(10)
(11)
T
b
T
b
T
s
T
bs
s
Tis
SS U
chU
shUU
chUnq
signE
011 )(2
0)(2 101
ST
b
T
b
T
s
T
bs
s
Tis
S EU
chU
shUU
chUnq
sign
2
121
2
32
1
dd
dV
ESP
S
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Számítási eljárás
Sávelhajlás számítása
1.Zérushely keresése belső MATLAB függvénnyel
2.Zérushely keresése Newton-módszerrel
3.ΦS keresése táblázatból
fis=fzero(@(FiS) func_E1FiS_211 (változók), 0)
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Algoritmusok tesztelése
Vizsgált rétegszerkezet
SiO2 vastagsága: 2 nm
Si3N4 vastagsága: 40 nm
Töltéshordozók súlypontja a SiO2 / Si3N4 határfelülettől: 5 nm
Lassú potenciál eloszlás változás
Közepes potenciál eloszlás változás
Gyors potenciál eloszlás változás
VP [V] -15 +7 +15
VFB [V] -8,1537 -7,0233 -10
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Algoritmusok tesztelése
Iterációs lépésszámIterációs
lépésszámLassú potenciál eloszlás változás Közepes potenciál eloszlás változás Gyors potenciál eloszlás változás
futási idő [sec] VFB értéke [V] futási idő [sec] VFB értéke [V] futási idő [sec] VFB értéke [V]
10 0,0014 -8,1526 0,0015 -6,7775 0,0014 nem számítható
100 0,0035 -8,1526 0,0035 -6,7829 0,0037 nem számítható
500 0,013 -8,1526 0,012 -6,7834 0,014 nem számítható
1000 0,026 -8,1526 0,022 -6,7834 0,027 nem számítható
10000 0,239 -8,1526 0,212 -6,7835 0,2223 6,0868
20000 0,0011 -8,1537 0,430 -6,7835 0,4240 0,9131
50000 0,0011 -8,1537 1,213 -6,7835 1,0570 0,9117
100000 0,0011 -8,1537 2,105 -6,7835 2,1100 0,9117
200000 0,0011 -8,1537 4,216 -6,7835 4,2030 0,9116
500000 0,0011 -8,1537 10,573 -6,7835 10,5400 0,9116
1000000 0,0011 -8,1537 21,333 -6,7835 21,0330 0,9116
2000000 0,0011 -8,1537 42,543 -6,7835 42,2700 0,9116
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
2. Algoritmusok tesztelése
Sávelhajlás számítása
Sávelhajlás számítása
Lassú potenciál eloszlás változás
Közepes potenciál eloszlás változás
Gyors potenciál eloszlás változás
futási idő [sec]
VFB értéke
[V]
futási idő [sec]
VFB értéke
[V]
futási idő [sec]
VFB értéke
[V]
Nincs 0,0011 -8,1537 4,216 -6,7835 4,203 0,9116
Táblázattal 0,0135 -8,1537 30,29 -7,0042 22,33 -0,0697
Newton-módszerrel 0,0168 -8,1537 238,12 -7,0042 236,34 -0,0691
MATLAB függvénnyel 0,0187 -8,1537 464,68 -7,0042 461,92 -0,0688
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
3. Megállapítások
1. Az iterációk során alkalmazott lépésszám lineárisan befolyásolja a program futási idejét, és hatással van a számítási eredmények pontosságára. A gyakorlatban előforduló térerősségek tartományában az iterációs lépésszámot nem célszerű 200000 alatti értékre választani, ugyanakkor – bizonyos feltételek esetén – a futási idő csökkenthető a be- ill. kifolyó áramok különbségét vizsgáló szubrutinnal és indokolt esetben az iterációból való kilépéssel.
2. A sávelhajlás számításának nem minden esetben van jelentősége. Amennyiben a sávelhajlás számítása indokolt, akkor viszont célszerű azt az algoritmust alkalmazni, ami a számításhoz szükséges ΦS értékét táblázatból keresi ki. Ezzel a futási idő jelentősen csökkenthető.
Óbudai EgyetemKandó Kálmán Villamosmérnöki KarMikroelektronikai és Technológia Intézet
Köszönöm a megtisztelő figyelmet!