Embed Size (px)
Citation preview
有害事業廢棄物認定標準修正草案總說明
「有害事業廢棄物認定標準」(以下簡稱本標準)訂定於七十六
年五月十二日，嗣後歷經十次修正，現行規定係於九十八年六月五
日修正發布。本次修正係進行實務調整，與國際有害事業廢棄物管
制方式接軌，同時配合國內廢棄物處理及再利用產業之提升，將部
分有害事業廢棄物改列一般事業廢棄物，以促進廢棄物資源再生利
用，並落實國家永續發展政策。其修正要點如次：
一、明定本標準適用對象。(修正條文第二條)
二、修正附表一製程有害事業廢棄物，增列「製造二氯乙烯或氯乙
烯單體之廢水處理污泥」。刪除附表二混合五金廢料之規定，
並配合將原附表二第十三項含鈹、銻、碲、鉈金屬廢料、第十
四項發光二極體晶圓廢料及粉屑移列至附表一製程有害事業廢
棄物，其餘十二個廢棄物項目，回歸一般事業廢棄物管制。(修正條文第三條)
三、 將原生物醫療廢棄物用詞修正為醫療有害廢棄物，以資明確。
(修正條文第三條)
四、將現行第四條之戴奧辛、多氯聯苯、石綿等有害事業廢棄物，
移列至新增之第五條其他有害事業廢棄物。另修正附表三毒性
特性溶出程序(TCLP)溶出標準三(九)，增列「混合五金廢料處
理後之殘餘物」為管制對象。(修正條文第四條、新增條文第五
條)
五、刪除現行第五條規定之「表列排除判定程序與排除標準值」，
並明定「製程有害事業廢棄物排除認定申請書」及切結聲明，
由事業向所在地主管機關申請排除認定。(修正條文第六條)
1
有害事業廢棄物認定標準修正草案條文對照表 修 正 條 文 現 行 條 文 說 明
第一條 本標準依廢棄物清理法
(以下簡稱本法)第二條第二項
規定訂定之。
第一條 本標準依廢棄物清理法
(以下簡稱本法)第二條第二項
規定訂定之。
本條未修正。
第二條 事業所產生之廢棄物應
依所定方式，認定是否為有害
事業廢棄物。 有害事業廢棄物以下列方
式依序認定： 一、第三條所訂列表之有害事
業廢棄物。 二、第四條之特性認定有害事
業廢棄物。 三、第五條之其他有害事業廢
棄物。 四、其他經中央主管機關公告
者。
第二條 有害事業廢棄物以下列
方式依序判定： 一、列表之有害事業廢棄物。 二、有害特性認定之有害事業
廢棄物。 三、其他經中央主管機關公告
者。
一、明定本標準適用對象為事業
廢棄物。 二、配合本標準第三條至第五條
之修正，予以調整款次。
第三條 列表之有害事業廢棄種
類如下： 一、製程有害事業廢棄物：指附
表一所列製程產生之廢棄
物，且含有表列成分者。 二、醫療有害廢棄物：指醫療機
構、醫事檢驗所、醫學實驗
室、工業及研究機構生物安
全等級第二級以上之實驗
室、從事基因或生物科技研
究之實驗室、生物科技工廠
及製藥工廠，於醫療、醫事
檢驗、驗屍、檢疫、研究、
藥品或生物材料製造過程
中產生附表二所列之廢棄
物。
第三條 列表之有害事業廢棄物
種類如下： 一、製程有害事業廢棄物：指附
表一所列製程產生之廢棄
物。 二、混合五金廢料：依貯存、清
除、處理及輸出入等清理階
段危害特性判定，其認定方
式如附表二。 三、生物醫療廢棄物：指醫療機
構、醫事檢驗所、醫學實驗
室、工業及研究機構生物安
全等級第二級以上之實驗
室、從事基因或生物科技研
究之實驗室、生物科技工廠
及製藥工廠，於醫療、醫事
檢驗、驗屍、檢疫、研究、
藥品或生物材料製造過程
中產生附表三所列之廢棄
物。
一、明確定義製程產生之廢棄物
含有附表一所列成分者，屬
製程有害事業廢棄物。 二、為與國際管制方式接軌，並
促進廢棄物資源再生利用，
爰刪除第二款混合五金廢料
之列管。 三、第三款生物醫療廢棄物所稱
「生物」，有致誤解為所有
生物之虞，爰酌作文字修正。 四、附表表次變更。
第四條 特性認定有害事業廢棄
物種類如下： 一、含毒性化學物質之有害事
業廢棄物：
第四條 有害特性認定之有害事
業廢棄物種類如下： 一、毒性有害事業廢棄物：
(一)依毒性化學物質管理法
一、酌修文字如下，以資明確： (一)第一項修正「有害特性認定
之有害事業廢棄物」為「特
性認定有害事業廢棄物」。
2
(一)依毒性化學物質管理法
公告之第一類、第二類及
第三類毒性化學物質之
固體或液體廢棄物。 (二)直接接觸前目毒性化學
物質之廢棄盛裝容器。 二、溶出毒性有害事業廢棄
物：指事業廢棄物依使用
原物料、製程及廢棄物成
分特性之相關性選定分析
項目，以毒性特性溶出程
序(以下簡稱 TCLP)檢測，
其成分濃度超過附表三之
標準者。 三、腐蝕性有害事業廢棄物：
指事業廢棄物具有下列性
質之一者： (一)廢液氫離子濃度指數(pH
值)大於等於十二．五或
小於等於二．○；或在攝
氏溫度五十五度時對鋼
(中華民國國家標準鋼材
Ｓ二○Ｃ)之腐蝕速率每
年超過六．三五毫米者。 (二)固體廢棄物於溶液狀態
下氫離子濃度指數 (pH值)大於等於十二．五或
小於等於二．○；或在攝
氏溫度五十五度時對鋼
(中華民國國家標準鋼材
Ｓ二○Ｃ)之腐蝕速率每
年超過六．三五毫米者。 四、易燃性有害事業廢棄物：
指事業廢棄物具有下列性
質之一者： (一)廢液閃火點小於攝氏溫
度六十度者。但不包括乙
醇體積濃度小於百分之
二十四之酒類廢棄物。 (二)固體廢棄物於攝氏溫度
二十五度加減二度、一大
氣壓下(以下簡稱常溫常
壓)可因摩擦、吸水或自
發性化學反應而起火燃
公告之第一類、第二類及
第三類毒性化學物質之
固體或液體廢棄物。 (二)直接接觸前目毒性化學
物質之廢棄盛裝容器。 二、溶出毒性事業廢棄物：指
事業廢棄物依使用原物
料、製程及廢棄物成分特
性之相關性選定分析項
目，以毒性特性溶出程序
(以下簡稱TCLP)直接判定
或先經萃取處理再判定之
萃出液，其成分濃度超過
附表四之標準者。 三、戴奧辛有害事業廢棄物：指
事業廢棄物中含 2,3,7,8-氯化戴奧辛及呋喃同源物等
十七種化合物之總毒性當
量濃度 超過一．○ ng I-TEQ/g 者。
四、多氯聯苯有害事業廢棄物：
指多氯聯苯重量含量在百
萬分之五十以上之廢電容
器(以絕緣油重量計)、廢變
壓器(以變壓器油重量計)或其他事業廢棄物。
五、腐蝕性事業廢棄物：指事業
廢棄物具有下列性質之一
者： (一)廢液氫離子濃度指數(pH
值)大於等於十二．五或
小於等於二．○；或在攝
氏溫度五十五度時對鋼
(中華民國國家標準鋼材
Ｓ二○Ｃ)之腐蝕速率每
年超過六．三五毫米者。 (二)固體廢棄物於溶液狀態
下氫離子濃度指數 (pH值)大於等於十二．五或
小於等於二．○；或在攝
氏溫度五十五度時對鋼
(中華民國國家標準鋼材
Ｓ二○Ｃ)之腐蝕速率每
年超過六．三五毫米者。
(二)第一款修正「毒性有害事業
廢棄物」為「含毒性化學物
質之有害事業廢棄物」。 (三)第二款修正「溶出毒性事業
廢棄物」為「溶出毒性有害
事業廢棄物」，並予明確定
義。 (四)第五款修正「腐蝕性事業廢
棄物」為「腐蝕性有害事業
廢棄物」。 (五)第六款修正「易燃性事業廢
棄物」為「易燃性有害事業
廢棄物」 (六)第七款修正「反應性事業廢
棄物」為「反應性有害事業
廢棄物」。 三、第三款、第四款及第八款戴
奧辛、多氯聯苯、石綿等有
害事業廢棄物，移列至第五
條。
3
燒引起危害者。 (三)可直接釋出氧、激發物質
燃燒之廢強氧化劑。 五、反應性有害事業廢棄物：
指事業廢棄物具有下列性
質之一者： (一)常溫常壓下易產生爆炸
者。 (二)與水混合會產生劇烈反
應或爆炸之物質或其混
合物。 (三)含氰化物且其氫離子濃
度指數(pH 值)於二．○
至十二．五間，會產生二
五○ mg HCN/kg 以上
之有毒氣體者。 (四)含硫化物且其氫離子濃
度指數(pH 值)於二．○
至十二．五間，會產生五
○○ mg H2S/kg 以上之
有毒氣體者。
六、易燃性事業廢棄物：指事業
廢棄物具有下列性質之一
者： (一)廢液閃火點小於攝氏溫
度六十度者。但不包括乙
醇體積濃度小於百分之
二十四之酒類廢棄物。 (二)固體廢棄物於攝氏溫度
二十五度加減二度、一大
氣壓下(以下簡稱常溫常
壓)可因摩擦、吸水或自
發性化學反應而起火燃
燒引起危害者。 (三)可直接釋出氧、激發物質
燃燒之廢強氧化劑。 七、反應性事業廢棄物：指事
業廢棄物具有下列性質之
一者： (一)常溫常壓下易產生爆炸
者。 (二)與水混合會產生劇烈反
應或爆炸之物質或其混
合物。 (三)含氰化物且其氫離子濃
度指數(pH 值)於二．○
至十二．五間，會產生二
五○ mg HCN/kg 以上
之有毒氣體者。 (四)含硫化物且其氫離子濃
度指數(pH 值)於二．○
至十二．五間，會產生五
○○ mg H2S/kg 以上之
有毒氣體者。 八、石綿及其製品廢棄物：指事
業廢棄物具有下列性質之
一者： (一)製造含石綿之防火、隔
熱、保溫材料及煞車來令
片等磨擦材料研磨、修
邊、鑽孔等加工過程中產
生易飛散性之廢棄物。 (二)施工過程中吹噴石綿所
產生之廢棄物。 (三)更新或移除使用含石綿
4
之防火、隔熱、保溫材料
及煞車來令片等過程
中，所產生易飛散性之廢
棄物。 (四)盛裝石綿原料袋。 (五)其他含有百分之一以上
石綿且具有易飛散性質
之廢棄物。 第五條 其他有害事業廢棄物種
類如下： 一、戴奧辛有害事業廢棄物：
指事業廢棄物中含 2,3,7,8-氯化戴奧辛及呋喃同源物
等十七種化合物之總毒性
當量濃度超過一．○ ng I-TEQ/g 者。
二、多氯聯苯有害事業廢棄
物：指多氯聯苯重量含量
在百萬分之五十以上之廢
電容器 ( 以絕緣油重量
計)、廢變壓器(以變壓器油
重量計 )或其他事業廢棄
物。 三、石綿有害事業廢棄物：指
下列具易飛散性質之石綿
纖維或粉塵之廢棄物： (一)製造含石綿之防火、隔
熱、保溫材料及煞車來令
片等磨擦材料研磨、修
邊、鑽孔等加工過程中產
生易飛散性之廢棄物。 (二)施工過程中吹噴石綿所
產生之廢棄物。 (三)更新或移除使用含石綿
之防火、隔熱、保溫材料
及煞車來令片等過程
中，所產生易飛散性之廢
棄物。 (四)盛裝石綿原料袋。 (五)其他含有百分之一以上
石綿且具有易飛散性質
之廢棄物。
第五條 有害事業廢棄物符合下
列規定者，得改列或認定為一
般事業廢棄物： 一、第三條第一款附表一所列
之有害事業廢棄物，事業
得檢具下列文件，向所在
地主管機關申請表列排除
核准後，得改列為一般事
業廢棄物。表列排除判定
程序與排除標準值，由中
央主管機關公告之： (一)事業之公司登記證明文
件或商業登記證明文件。 (二)有害事業廢棄物表列排
除申請書。 (三)廢棄物採樣計畫書。 (四)廢棄物特性、組成及成分
分析之檢測報告。 (五)其他經主管機關指定之
文件。 二、第三條及前條之有害事業
廢棄物依事業廢棄物貯存
清除處理方法及設施標準
之中間處理方式處理，其
有害性質消失者，得認定
為一般事業廢棄物。 三、前條第六款第一目之廢液
不具下列性質且採焚化或
熱處理者，得認定為一般
事業廢棄物。但處理前之
貯存、清除，應符合有害
事業廢棄物相關規定： (一)製程有害事業廢棄物。 (二)毒性有害事業廢棄物。 (三)溶出毒性事業廢棄物。 (四)戴奧辛有害事業廢棄物。
一、原第四條第三款、第四款及
第八款戴奧辛、多氯聯苯、
石綿等有害事業廢棄物，移
列至本條。原第五條移列至
第六條。 二、第一款修正「戴奧辛有害事
業廢棄物」用語為「戴奧辛
有害事業廢棄物」。 三、第二款修正「多氯聯苯有害
事業廢棄物」用語為「多氯
聯苯有害事業廢棄物」。 四、第三款修正「石綿及其製品
廢棄物」用語為「石綿有害
事業廢棄物」。
5
(五)多氯聯苯有害事業廢棄
物。 (六)腐蝕性事業廢棄物。 (七)反應性事業廢棄物。 (八)其他經中央主管機關指
定者。 第六條 有害事業廢棄物符合下
列規定者，得改認定為一般事
業廢棄物： 一、第三條第一款附表一所列
之有害事業廢棄物，事業
得檢具製程有害事業廢棄
物排除認定申請書 (如附
件)，送所在地主管機關審
查核准。 二、前三條之有害事業廢棄物
依事業廢棄物貯存清除處
理方法及設施標準之處理
方式處理，其有害性質消
失者。 三、第四條第四款第一目之廢
液不具下列性質且採焚化
或熱處理。但處理前之貯
存、清除，應符合有害事
業廢棄物相關規定： (一)製程有害事業廢棄物。 (二)含毒性化學物質之有害
事業廢棄物。 (三)溶出毒性有害事業廢棄
物。 (四)戴奧辛有害事業廢棄物。 (五)多氯聯苯有害事業廢棄
物。 (六)腐蝕性有害事業廢棄物。 (七)反應性有害事業廢棄物。
(八)其他經中央主管機關指
定者。
第六條 本標準修正前已審查核
准之事業廢棄物清理計畫書或
依本法取得之事業廢棄物清
除、處理、清理或再利用之相
關許可，其審查核准或許可內
容於本標準修正施行後應辦理
變更或異動者，應於本標準發
布施行後一年內完成變更或異
動。 因本標準修正而須增設之
相關設施，於本標準發布後一
年內應完成設置。
一、原第六條相關異動回歸廢棄
物清理計畫書規定辦理變
更、異動；事業廢棄物清除、
處理或再利用之相關許可，
則回歸相關規定辦理審查，
予以刪除。 二、原第五條移列至本條，並酌
作文字修正。 三、鑒於經母法明文規定授權行
政機關方可自行訂定法規命
令，且因有害事業廢棄物種
類龐雜，如欲逐一訂定相關
管制標準值，恐生掛一漏萬
情形，第一款刪除「表列排
除判定程序與排除標準值」
之規定，並明定製程有害事
業廢棄物排除認定申請書格
式，由所在地主管機關以個
案審核。 四、第二款配合「事業廢棄物貯
存清除處理方法及設施標
準」修正方向，修正「中間
處理」為「處理」。 五、第三款配合修正條次及條文
文字。
第七條 本標準施行日期自發布
後一年施行。 第七條 本標準自發布日施行。 就修正條文給予適度緩衝期，以
資周妥。
6
有害事業廢棄物認定標準第三條附表一修正條文對照表
修正規定 現行規定 說明
附表一、製程有害事業廢棄物
行業
別 製程產生之 廢棄物
成分 危害
性(註) 中文 英文 基本
化學
工業
及其
他具
有右
列製
程產
生之
廢棄
物之
行業
一、以汞電極法製
氯之廢水處
理污泥
汞 mercury. (T)
二、製造甲乙基吡
啶之汽提塔
殘留物
三聚乙醛、
吡啶類、2-皮考林
paraldehyde; pyridines; 2-picoline. (T)
三、製造苯胺之蒸
餾殘留物 苯胺、二苯
胺、硝基
苯、苯二胺
aniline; diphenylamine; nitrobenzene; phenylenediamine.
(T)
四、製造苯胺之萃
取殘留物 苯胺、硝基
苯、苯二胺 aniline; nitrobenzene; phenylenediamine. (T)
五、製造硝基苯及
苯胺之混合
廢液
苯胺、苯、
二苯胺、苯
二胺
aniline; benzene; diphenylamine; phenylenediamine.
(T)
六、製造氯苯之水
洗步驟分流
液、蒸餾或分
餾塔殘留物
苯、二氯
苯、三氯
苯、四氯
苯、五氯
苯、六氯
苯、氯苯
benzene; dichlorobenzene; trichlorobenzene; tetrachlorobenzene; pentachlorobenzene; hexachlorobenzene; chlorobenzene.
(T)
附表一、製程有害事業廢棄物
行業
別 製程產生之 廢棄物
成分 危害
性(註) 中文 英文 基本
化學
工業
及其
他具
有右
列製
程產
生之
廢棄
物之
行業
一、以汞電極法製
氯之廢水處
理污泥
汞 mercury. (T)
二、製造甲乙基吡
啶之汽提塔
殘留物
三聚乙醛、
吡啶類、2-皮考林
paraldehyde; pyridines; 2-picoline. (T)
三、製造苯胺之蒸
餾殘留物 苯胺、二苯
胺、硝基
苯、苯二胺
aniline; diphenylamine; nitrobenzene; phenylenediamine.
(T)
四、製造苯胺之萃
取殘留物 苯胺、硝基
苯、苯二胺 aniline; nitrobenzene; phenylenediamine. (T)
五、製造硝基苯及
苯胺之混合
廢液
苯胺、苯、
二苯胺、苯
二胺
aniline; benzene; diphenylamine; phenylenediamine.
(T)
六、製造氯苯之水
洗步驟分流
液、蒸餾或分
餾塔殘留物
苯、二氯
苯、三氯
苯、四氯
苯、五氯
苯、六氯
苯、氯苯
benzene; dichlorobenzene; trichlorobenzene; tetrachlorobenzene; pentachlorobenzene; hexachlorobenzene; chlorobenzene.
(T)
7
修正規定 現行規定 說明
七、製造氯苯清洗
反應器之廢
液
苯、氯苯、
二氯苯、
2,4,6-三氯酚
benzene; chlorobenzene; dichlorobenzene; 2,4,6,-trichlorophenol.
(T)
八、以甲苯硝化製
造二硝基甲
苯之廢液
2,4-二硝基
甲苯 2,4-Dinitrotoluene.
(C) (T)
九、以乙烯溴化製
造二溴乙烷
之滌氣塔廢
液
二溴乙烷 Ethylene dibromide
(T)
十、同九製程中純
化二溴乙烷
產生之廢吸
收劑
二溴乙烷 Ethylene dibromide
(T)
十一、同九製程中
純化二溴乙
烷產生之蒸
餾殘渣
二溴乙烷 Ethylene dibromide
(T)
十二、以硝化苯的
製程生產硝
基苯之蒸餾
殘渣
間-二硝基
苯、 2,4-二硝基甲苯
m-dinitrobenzene; 2,4-dintrotoluene.
(T)
十三、生產二異氰
酸甲苯之離
心或蒸餾殘
渣
二異氰酸甲
苯、 2,4-二胺甲苯
toluene diisocyanate; toluene-2,4-diamine. (R)
(T)
七、製造氯苯清洗
反應器之廢
液
苯、氯苯、
二氯苯、
2,4,6-三氯酚
benzene; chlorobenzene; dichlorobenzene; 2,4,6,-trichlorophenol.
(T)
八、以甲苯硝化製
造二硝基甲
苯之廢液
2,4-二硝基
甲苯 2,4-Dinitrotoluene.
(C) (T)
九、以乙烯溴化製
造二溴乙烷
之滌氣塔廢
液
二溴乙烷 Ethylene dibromide
(T)
十、同九製程中純
化二溴乙烷
產生之廢吸
收劑
二溴乙烷 Ethylene dibromide
(T)
十一、同九製程中
純化二溴乙
烷產生之蒸
餾殘渣
二溴乙烷 Ethylene dibromide
(T)
十二、以硝化苯的
製程生產硝
基苯之蒸餾
殘渣
間-二硝基
苯、 2,4-二硝基甲苯
m-dinitrobenzene; 2,4-dintrotoluene.
(T)
十三、生產二異氰
酸甲苯之離
心或蒸餾殘
渣
二異氰酸甲
苯、 2,4-二胺甲苯
toluene diisocyanate; toluene-2,4-diamine. (R)
(T)
8
修正規定 現行規定 說明
十四、以碳酸聯胺
生產1,1-二甲基聯胺
(UDMH)之分離底渣、
氣體濃縮底
渣及廢過濾
器
1,1-二甲基
聯胺 1,1-dimethylhydrazine (UDMH).
(C) (I) (T)
十五、用氫化二甲
基甲苯生產
二胺甲苯的
乾燥柱反應
廢液、輕質
或重質殘渣
2,4-二胺甲
苯,鄰-甲苯
胺、對-甲苯
胺
2,4-toluenediamine; o-toluidine; p-toluidine;
(T)
十六、以二胺甲苯
光氣法生產
二異氰酸鹽
之溶劑回收
有機濃縮物
四氯化碳、
四氯乙烯、
氯仿、光氣
carbon tetrachloride; tetrachloroethylene; chloroform; phosgene. (T)
十七、生產2,4,6-三溴酚之
地板清掃
物、廢產品
和廢過濾
物
2,4,6-三溴酚 2,4,6-tribromophenol.
(T)
十四、以碳酸聯胺
生產1,1-二甲基聯胺
(UDMH)之分離底渣、
氣體濃縮底
渣及廢過濾
器
1,1-二甲基
聯胺 1,1-dimethylhydrazine (UDMH).
(C) (I) (T)
十五、用氫化二甲
基甲苯生產
二胺甲苯的
乾燥柱反應
廢液、輕質
或重質殘渣
2,4-二胺甲
苯,鄰-甲苯
胺、對-甲苯
胺
2,4-toluenediamine; o-toluidine; p-toluidine;
(T)
十六、以二胺甲苯
光氣法生產
二異氰酸鹽
之溶劑回收
有機濃縮物
四氯化碳、
四氯乙烯、
氯仿、光氣
carbon tetrachloride; tetrachloroethylene; chloroform; phosgene. (T)
十七、生產2,4,6-三溴酚之
地板清掃
物、廢產品
和廢過濾
物
2,4,6-三溴酚 2,4,6-tribromophenol.
(T)
9
修正規定 現行規定 說明
十八、生產α-(或甲
基)氯甲
苯、環氯甲
苯、氯化苯
和其官能基
之混合物之
蒸餾底渣
三氯苯、氯
苯、氯仿、
氯化甲烷、
氯苯、 1,4-二氯苯、六
氯苯、五氯
苯、1,2,4,5-四氯乙烯、
甲苯、四氯
化碳
benotrichloride; chlorobenzene; chloroform; chloromethane; 1,4-dichlorobenzene; hexachlorobenzene; pentachlorobenzene; 1,2,4,5-tetrachloroethylene; toluene; carbon tetrachloride.
(T)
十九、以石墨作為
陽極之橫隔
製程純化氯
所產生之含
氯碳氫廢棄
物
氯仿、四氯
化碳、六氯
乙烷、三氯
乙烷、四氯
乙烯、 1,2-二氯乙烷、 1,1,2,2-四氯
乙烷
chloroform; carbon tetrachloride; hexacholroethane; trichloroethane; tetrachloroethylene; 1,2-dichloroethane; 1,1,2,2-tetrachloroethane.
(T)
二十、製造氧化銻
所產生之集
塵灰、底渣
及其中間產
物廢棄物
砷、鉛、銻 arsenic; lead; antimony.
(T)
石油
化工
原料
製造
業及
其他
一、以乙烯製造乙
醛之蒸餾殘
留物
氯仿、甲
醛、氯化次
甲基、氯甲
烷、三聚乙
醛、甲酸、
氯乙醛
chloroform; formaldehyde; methylene chloride; methyl chloride; paraldehyde; formic acid; chloroacetaldehyde.
(T)
十八、生產α-(或甲
基)氯甲
苯、環氯甲
苯、氯化苯
和其官能基
之混合物之
蒸餾底渣
三氯苯、氯
苯、氯仿、
氯化甲烷、
氯苯、 1,4-二氯苯、六
氯苯、五氯
苯、1,2,4,5-四氯乙烯、
甲苯、四氯
化碳
benotrichloride; chlorobenzene; chloroform; chloromethane; 1,4-dichlorobenzene; hexachlorobenzene; pentachlorobenzene; 1,2,4,5-tetrachloroethylene; toluene; carbon tetrachloride.
(T)
十九、以石墨作為
陽極之橫隔
製程純化氯
所產生之含
氯碳氫廢棄
物
氯仿、四氯
化碳、六氯
乙烷、三氯
乙烷、四氯
乙烯、 1,2-二氯乙烷、 1,1,2,2-四氯
乙烷
chloroform; carbon tetrachloride; hexacholroethane; trichloroethane; tetrachloroethylene; 1,2-dichloroethane; 1,1,2,2-tetrachloroethane.
(T)
二十、製造氧化銻
所產生之集
塵灰、底渣
及其中間產
物廢棄物
砷、鉛、銻 arsenic; lead; antimony.
(T)
石油
化工
原料
製造
業及
其他
一、以乙烯製造乙
醛之蒸餾殘
留物
氯仿、甲
醛、氯化次
甲基、氯甲
烷、三聚乙
醛、甲酸、
氯乙醛
chloroform; formaldehyde; methylene chloride; methyl chloride; paraldehyde; formic acid; chloroacetaldehyde.
(T)
10
修正規定 現行規定 說明
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
二、製造丙烯腈中
之廢水汽提
廢液
丙烯腈、乙
腈、氫氰酸 acrylonitrile; acetonitrile; hydrocyanic acid.
(R) (T)
三、製造丙烯腈中
之乙腈塔底
部廢液
氫氰酸、丙
烯腈、乙腈 hydrocyanic acid; acrylonitrile; acetonitrile.
(R) (T)
四、製造丙烯腈之
乙腈純化塔
底殘留物
乙腈、丙烯
醯胺 acetonitrile; acrylamide. (T)
五、氯苯蒸餾殘渣 氯化甲基
苯、氯苯、
甲苯、三氯
甲苯
benzyl chloride; chlorobenzene; toluene; benzotrichloride.
(T)
六、製造四氯化碳
之蒸餾殘渣 六氯苯、六
氯丁二烯、
四氯化碳、
六氯乙烷、
四氯乙烯
hexachlorobenzene; hexachlorobutadiene; carbon tetrachloride; hexachloroethane; tetrachloroethylene.
(R) (T)
七、製造環氧氯化
丙烷之純化
塔底殘留物
3-氯-1,2-環氧丙烷、含
氯醚類〔二
氯甲醚、2-氯乙醚〕、三
氯丙烷、二
氯丙醇
epichlorohydrin; chloroethers[bis (chloromethyl) ether and bis(2-chloroethyl) ethers]; trichloropropane; dichloropropanol.
(T)
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
二、製造丙烯腈中
之廢水汽提
廢液
丙烯腈、乙
腈、氫氰酸 acrylonitrile; acetonitrile; hydrocyanic acid.
(R) (T)
三、製造丙烯腈中
之乙腈塔底
部廢液
氫氰酸、丙
烯腈、乙腈 hydrocyanic acid; acrylonitrile; acetonitrile.
(R) (T)
四、製造丙烯腈之
乙腈純化塔
底殘留物
乙腈、丙烯
醯胺 acetonitrile; acrylamide. (T)
五、氯苯蒸餾殘渣 氯化甲基
苯、氯苯、
甲苯、三氯
甲苯
benzyl chloride; chlorobenzene; toluene; benzotrichloride.
(T)
六、製造四氯化碳
之蒸餾殘渣 六氯苯、六
氯丁二烯、
四氯化碳、
六氯乙烷、
四氯乙烯
hexachlorobenzene; hexachlorobutadiene; carbon tetrachloride; hexachloroethane; tetrachloroethylene.
(R) (T)
七、製造環氧氯化
丙烷之純化
塔底殘留物
3-氯-1,2-環氧丙烷、含
氯醚類〔二
氯甲醚、2-氯乙醚〕、三
氯丙烷、二
氯丙醇
epichlorohydrin; chloroethers[bis (chloromethyl) ether and bis(2-chloroethyl) ethers]; trichloropropane; dichloropropanol.
(T)
11
修正規定 現行規定 說明
八、製造氯乙烷之
分餾塔重餾
分
1,2-二氯乙
烷、三氯乙
烯、六氯丁
二烯、六氯
苯
1,2- dichloroethane; trichloroethylene; hexachlorobutadiene; hexachlorobenzene.
(T)
九、製造二氯乙烷
之蒸餾重餾
分
二氯乙烷、
1,1,1-三氯乙
烷、1,1,2-三氯乙烷、四
氯 乙烷類
(1,1,2,2-四氯
乙烷、
1,1,1,2-四氯
乙烷)、三氯
乙烯、四氯
乙烯、四氯
化碳、氯
仿、氯乙
烯、1,1-二氯
乙烯
dichloroethane; 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane; tetrachloroethanes (1,1,2,2-tetrachloroethane and 1,1,1,2-tetrachloroethane); trichloroethylene; tetrachloroethylene; carbon tetrachloride; chloroform; vinyl chloride; vinylidene chloride (1,1-DEC).
(T)
八、製造氯乙烷之
分餾塔重餾
分
1,2-二氯乙
烷、三氯乙
烯、六氯丁
二烯、六氯
苯
1,2- dichloroethane; trichloroethylene; hexachlorobutadiene; hexachlorobenzene.
(T)
九、製造二氯乙烷
之蒸餾重餾
分
二氯乙烷、
1,1,1-三氯乙
烷、1,1,2-三氯乙烷、四
氯 乙烷類
(1,1,2,2-四氯
乙烷、
1,1,1,2-四氯
乙烷)、三氯
乙烯、四氯
乙烯、四氯
化碳、氯
仿、氯乙
烯、1,1-二氯
乙烯
dichloroethane; 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane; tetrachloroethanes (1,1,2,2-tetrachloroethane and 1,1,1,2-tetrachloroethane); trichloroethylene; tetrachloroethylene; carbon tetrachloride; chloroform; vinyl chloride; vinylidene chloride (1,1-DEC).
(T)
12
修正規定 現行規定 說明
十、製造氯乙烯單
體之氯乙烯
蒸餾重餾分
二氯乙烷、
1,1,1-三氯乙
烷、1,1,2-三氯乙烷、四
氯乙烷類
(1,1,2,2-四氯
乙烷、
1,1,1,2-四氯
乙烷)、三氯
乙烯、四氯
乙烯、四氯
化碳、氯
仿、氯乙
烯、1,1-二氯
乙烯
dichloroethane; 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane; tetrachloroethanes (1,1,2,2- tetrachloroethane and 1,1,1,2- tetrachloroethane); trichloroethylene; tetrachloroethylene; carbon tetrachloride; chloroform; vinyl chloride; vinylidene chloride (1,1-DEC).
(T)
十一、製造氟甲烷
之水溶性
銻觸媒廢
棄物
銻、四氯化
碳、氯仿 antimony; carbon tetrachloride; chloroform. (T)
十二、以異丙苯製
造酚及丙
酮之蒸餾
殘渣
酚、焦油類
（多環芳香
類）
phenol; tars(polycyclic aromatic hydrocarbons ). (T)
十三、以鄰二甲苯
製造鄰苯
二甲酐之
蒸餾輕餾
分
鄰苯二甲
酐、順丁烯
二酐
phthalic anhydride; maleic anhydride.
(T)
十、製造氯乙烯單
體之氯乙烯
蒸餾重餾分
二氯乙烷、
1,1,1-三氯乙
烷、1,1,2-三氯乙烷、四
氯乙烷類
(1,1,2,2-四氯
乙烷、
1,1,1,2-四氯
乙烷)、三氯
乙烯、四氯
乙烯、四氯
化碳、氯
仿、氯乙
烯、1,1-二氯
乙烯
dichloroethane; 1,1,1-trichloroethane, 1,1,2-trichloroethane; tetrachloroethanes (1,1,2,2- tetrachloroethane and 1,1,1,2- tetrachloroethane); trichloroethylene; tetrachloroethylene; carbon tetrachloride; chloroform; vinyl chloride; vinylidene chloride (1,1-DEC).
(T)
十一、製造氟甲烷
之水溶性
銻觸媒廢
棄物
銻、四氯化
碳、氯仿 antimony; carbon tetrachloride; chloroform. (T)
十二、以異丙苯製
造酚及丙
酮之蒸餾
殘渣
酚、焦油類
（多環芳香
類）
phenol; tars(polycyclic aromatic hydrocarbons ). (T)
十三、以鄰二甲苯
製造鄰苯
二甲酐之
蒸餾輕餾
分
鄰苯二甲
酐、順丁烯
二酐
phthalic anhydride; maleic anhydride.
(T)
13
修正規定 現行規定 說明
十四、以鄰二甲苯
製造鄰苯
二甲酐之
蒸餾殘留
物
鄰苯二甲酐 phthalic anhydride.
(T)
十五、製造三氯乙
烷及過氯
乙烯之塔
底殘留物
六氯苯、六
氯丁二烯、
六氯乙烷、
1,1,1,2-四氯
乙烷、
1,1,2,2-四氯
乙烷、二氯
乙烯
hexachlorobezene; hexachlorobutadiene; hexachloroethane; 1,1,1,2- tetrachloroethane; 1,1,2,2- tetrachloroethane; vinylidene chloride.
(T)
十六、以苯硝化製
造硝基苯
之蒸餾殘
留物
間-二硝基
苯、2,4-二硝
基甲苯
m-dinitrobenzene; 2,4-dinitrotoluene (T)
十七、製造吡啶所
產生之汽
提廢棄物
三聚乙醛、
吡啶類、2-皮考林
paraldehyde; pyridines; 2-picoline.
(T)
十四、以鄰二甲苯
製造鄰苯
二甲酐之
蒸餾殘留
物
鄰苯二甲酐 phthalic anhydride.
(T)
十五、製造三氯乙
烷及過氯
乙烯之塔
底殘留物
六氯苯、六
氯丁二烯、
六氯乙烷、
1,1,1,2-四氯
乙烷、
1,1,2,2-四氯
乙烷、二氯
乙烯
hexachlorobezene; hexachlorobutadiene; hexachloroethane; 1,1,1,2- tetrachloroethane; 1,1,2,2- tetrachloroethane; vinylidene chloride.
(T)
十六、以苯硝化製
造硝基苯
之蒸餾殘
留物
間-二硝基
苯、2,4-二硝
基甲苯
m-dinitrobenzene; 2,4-dinitrotoluene (T)
十七、製造吡啶所
產生之汽
提廢棄物
三聚乙醛、
吡啶類、2-皮考林
paraldehyde; pyridines; 2-picoline.
(T)
14
修正規定 現行規定 說明
十八、製造1,1,1-三氯乙烷
之廢觸
媒、汽提廢
棄物、蒸餾
重餾分及
重質廢棄
物
1,1,1-三氯乙
烷、氯乙
烯、1,2-二氯
乙烷、二氯
乙烯、氯
仿、1,1,1,2-四氯乙烷、
1,1,2,2-四氯
乙烷
1,1,1-trichloroethane; vinyl chloride; 1,2-dichloroethane; vinylidene chloride; chloroform; 1,1,1,2-tetrachloroethane; 1,1,2,2-tetrachloroethane.
(T)
十九、製造鄰苯二
甲酐之輕
質蒸餾殘
留物及蒸
餾殘留物
鄰苯二甲
酐、順丁烯
二酐
phthalic anhydride; maleic anhydride.
(T)
二十、製造氨基甲
酸酯之重
餾、底渣、
輕餾分、溶
解過濾傾
析等有機
廢棄物
免賴得、加
保利、貝芬
替、加保
扶、丁基加
保扶、甲
醛、二氯甲
烷、三乙
胺、四氯化
碳、吡啶類
benomyl; carbaryl; carbendazim; carbofuran; carbosulfan; formaldehyde; methylene chloride; triethylamine; carbon tetrachloride; pyridine
(T)
十八、製造1,1,1-三氯乙烷
之廢觸
媒、汽提廢
棄物、蒸餾
重餾分及
重質廢棄
物
1,1,1-三氯乙
烷、氯乙
烯、1,2-二氯
乙烷、二氯
乙烯、氯
仿、1,1,1,2-四氯乙烷、
1,1,2,2-四氯
乙烷
1,1,1-trichloroethane; vinyl chloride; 1,2-dichloroethane; vinylidene chloride; chloroform; 1,1,1,2-tetrachloroethane; 1,1,2,2-tetrachloroethane.
(T)
十九、製造鄰苯二
甲酐之輕
質蒸餾殘
留物及蒸
餾殘留物
鄰苯二甲
酐、順丁烯
二酐
phthalic anhydride; maleic anhydride.
(T)
二十、製造氨基甲
酸酯之重
餾、底渣、
輕餾分、溶
解過濾傾
析等有機
廢棄物
免賴得、加
保利、貝芬
替、加保
扶、丁基加
保扶、甲
醛、二氯甲
烷、三乙
胺、四氯化
碳、吡啶類
benomyl; carbaryl; carbendazim; carbofuran; carbosulfan; formaldehyde; methylene chloride; triethylamine; carbon tetrachloride; pyridine
(T)
15
修正規定 現行規定 說明
二十一、生產聯二
硫氨基甲
酸及其鹽
類於過
濾、蒸發
和離心等
製程之袋
式集塵灰
和殘留物
銻、砷、二
甲基二硫氨
基甲酸鋅
antimony; arsenic; ziram.
(T)
二十二、以氯化汞
觸媒之
乙炔製
程製造
氯乙烯
單體之
廢水處
理污泥
汞 mercury.
(T)
二十一、生產聯二
硫氨基甲
酸及其鹽
類於過
濾、蒸發
和離心等
製程之袋
式集塵灰
和殘留物
銻、砷、二
甲基二硫氨
基甲酸鋅
antimony; arsenic; ziram.
(T)
二十二、以氯化汞
觸媒之
乙炔製
程製造
氯乙烯
單體之
廢水處
理污泥
汞 mercury.
(T)
16
修正規定 現行規定 說明
二十三、製造二氯
乙烯或
氯乙烯
單體之
廢水處
理污泥
1,2,3,4,6,7,8-七氯戴奧
辛、
1,2,3,4,6,7,8-七氯呋喃、
1,2,3,4,7,8,9-七氯呋喃、
六氯戴奧
辛、六氯呋
喃、五氯戴
奧辛;八氯戴
奧辛、八氯
呋喃、五氯
呋喃、四氯
戴奧辛、四
氯呋喃
1,2,3,4,6,7,8-Heptachlorodibenzo-p-dioxin(1,2,3,4,6,7,8-HpCDD); 1,2,3,4,6,7,8-Hepta-chlorodibenzofuran (1,2,3,4,6,7,8- HpCDF); 1,2,3,4,7,8,9-Heptachloro -dibenzofuran (1,2,3,6,7,8,9-HpCDF); HxCDDs (All Hexa-chlorodibenzo-p-dioxins); HxCDFs (All Hexachlorodibenzofurans); PeCDDs (All Pentachlorodibenzo-p-dioxins); OCDD (1,2,3,4,6,7,8,9-Octachlorodibenzo-p-dioxin; OCDF (1,2,3,4,6,7,8,9-Octachlorodibenzo-furan); PeCDFs (All Pentachlorodibenzo-furans); TCDDs (All tetrachlorodi-benzo-p-dioxins); TCDFs (All Tetrachlorodibenzo-furans).
(T)
一、本項新
增。 二、考量現
行製造
氯乙烯
單體之
氯乙烯
蒸餾重
餾分已
屬製程
有害事
業廢棄
物，且
參考美
國製程
有害事
業廢棄
物之管
制項
目，爰
新增本
項。
17
修正規定 現行規定 說明
塗
料、漆
料及
相關
產品
製造
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
清洗含顏料、乾燥
劑、鉻鉛安定劑塗
料等配方所用容
器內之廢溶劑及
污泥、廢鹼及污
泥、廢液及污泥
鉛、六價鉻 lead; hexavalent chromium.
(T)
農藥
及環
境衛
生用
藥製
造業
一、 以砷或有機
砷製造農藥
之殘留物
砷 arsenic.
(T)
塗
料、漆
料及
相關
產品
製造
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
清洗含顏料、乾燥
劑、鉻鉛安定劑塗
料等配方所用容
器內之廢溶劑及
污泥、廢鹼及污
泥、廢液及污泥
鉛、六價鉻 lead; hexavalent chromium.
(T)
農藥
及環
境衛
生用
藥製
造業
一、 以砷或有機
砷製造農藥
之殘留物
砷 arsenic.
(T)
18
修正規定 現行規定 說明
及其
他具
有右
列製
程產
生之
廢棄
物之
行業
二、 以砷或有機
砷化合物生
產藥品時蒸
餾苯胺化合
物產生之蒸
餾殘渣或活
性碳除色後
之殘渣
砷 arsenic.
(T)
三、 製造木榴油
之廢水處理
污泥
木榴油、
屈、萘、苯
駢苊、苯(b)二苯駢、苯
(a)芘、茚酮
(1,2,3-cd)芘、苯(a)駢蒽、二苯駢
(a)駢蒽、苊
烯
creosote; chrysene; naphthalene; fluoranthene; benzo(b) fluoranthene; benzo(a) pyrene; indeno(1,2,3-cd) pyrene; benzo(a) anthracene; dibenzo(a)anthracene; acenaphthalene.
(T)
四、 二硫松製造
之甲苯回收
蒸餾塔底殘
留物
甲苯、二硫
磷酸、硫磷
酸酯類
toluene; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
五、 二硫松製造
之廢水處理
污泥
甲苯、二硫
磷酸、硫磷
酸酯類
toluene; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
及其
他具
有右
列製
程產
生之
廢棄
物之
行業
二、 以砷或有機
砷化合物生
產藥品時蒸
餾苯胺化合
物產生之蒸
餾殘渣或活
性碳除色後
之殘渣
砷 arsenic.
(T)
三、 製造木榴油
之廢水處理
污泥
木榴油、
屈、萘、苯
駢苊、苯(b)二苯駢、苯
(a)芘、茚酮
(1,2,3-cd)芘、苯(a)駢蒽、二苯駢
(a)駢蒽、苊
烯
creosote; chrysene; naphthalene; fluoranthene; benzo(b) fluoranthene; benzo(a) pyrene; indeno(1,2,3-cd) pyrene; benzo(a) anthracene; dibenzo(a)anthracene; acenaphthalene.
(T)
四、 二硫松製造
之甲苯回收
蒸餾塔底殘
留物
甲苯、二硫
磷酸、硫磷
酸酯類
toluene; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
五、 二硫松製造
之廢水處理
污泥
甲苯、二硫
磷酸、硫磷
酸酯類
toluene; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
19
修正規定 現行規定 說明
六、 福瑞松製造
之清洗及汽
提廢液
福瑞松、甲
醛、二硫磷
酸、硫磷酸
酯類
phorate; formaldehyde; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
七、 福瑞松製造
之二乙基磷
酸氫二硫代
硫酸過濾之
濾餅
二硫磷酸、
硫磷酸酯類 phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters. (T)
八、 福瑞松製造
之廢水處理
污泥
福瑞松、甲
醛、二硫磷
酸、硫磷酸
酯類
phorate; formaldeldehyde; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
九、 2,4-D製造中
之2,6-二氯酚
廢棄物
2,4-二氯
酚、2,6-二氯
酚、2,4,6-三氯酚
2,4-dichlorophenol; 2,6-dichlorophenol; 2,4,6-trichlorophenol. (T)
十、 2,4-D製造中
之未處理廢
液
2,4-二氯
酚、2,4,6-三氯酚
2,4-dichlorophenol; 2,4,6-trichlorophenol. (T)
十一、 製造氯丹
過程中氯
化環二烯
之過濾殘
渣、浮渣
及廢水處
理污泥
六氯環戊二
烯 Hexachlorocyclopenta diene.
(T)
六、 福瑞松製造
之清洗及汽
提廢液
福瑞松、甲
醛、二硫磷
酸、硫磷酸
酯類
phorate; formaldehyde; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
七、 福瑞松製造
之二乙基磷
酸氫二硫代
硫酸過濾之
濾餅
二硫磷酸、
硫磷酸酯類 phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters. (T)
八、 福瑞松製造
之廢水處理
污泥
福瑞松、甲
醛、二硫磷
酸、硫磷酸
酯類
phorate; formaldeldehyde; phosphorodithioic; phosphorothioic acid esters.
(T)
九、 2,4-D製造中
之2,6-二氯酚
廢棄物
2,4-二氯
酚、2,6-二氯
酚、2,4,6-三氯酚
2,4-dichlorophenol; 2,6-dichlorophenol; 2,4,6-trichlorophenol. (T)
十、 2,4-D製造中
之未處理廢
液
2,4-二氯
酚、2,4,6-三氯酚
2,4-dichlorophenol; 2,4,6-trichlorophenol. (T)
十一、 製造氯丹
過程中氯
化環二烯
之過濾殘
渣、浮渣
及廢水處
理污泥
六氯環戊二
烯 Hexachlorocyclopenta diene.
(T)
20
修正規定 現行規定 說明
十二、 毒殺芬製
造之廢水
處理污泥
毒殺芬 toxaphene. (T)
十三、 2,4,5-T 製
造過程中
四氯苯之
蒸餾殘渣
廢棄物
六氯苯、對
二氯苯、
2,3,7,8-氯化
戴奧辛及呋
喃同源物
Hexachlorobenzene; o-dichlorobenzene; 2,3,7,8-TCDD (All tetrachlorodibenzo-p-dioxins)&TCDF(All tetrachlorodibenzo-furans).
(T)
十四、 製造乙烯
氨基甲酸
酯鹽及其
鹽類之廢
水處理浮
渣、濾出
液、分離
底渣、氣
體濃縮底
渣、廢過
濾器、集
塵灰及其
殘留物
乙硫脲 ethylene thiourea.
(T)
十五、 製造溴化
甲烷中硫
酸乾燥機
和反應器
產生之廢
吸收劑及
分離廢水
二甲基硫酸
鹽、甲基溴
化物
dimethyl sulfate; methyl bromide.
(T)
十二、 毒殺芬製
造之廢水
處理污泥
毒殺芬 toxaphene. (T)
十三、 2,4,5-T 製
造過程中
四氯苯之
蒸餾殘渣
廢棄物
六氯苯、對
二氯苯、
2,3,7,8-氯化
戴奧辛及呋
喃同源物
Hexachlorobenzene; o-dichlorobenzene; 2,3,7,8-TCDD (All tetrachlorodibenzo-p-dioxins)&TCDF(All tetrachlorodibenzo-furans).
(T)
十四、 製造乙烯
氨基甲酸
酯鹽及其
鹽類之廢
水處理浮
渣、濾出
液、分離
底渣、氣
體濃縮底
渣、廢過
濾器、集
塵灰及其
殘留物
乙硫脲 ethylene thiourea.
(T)
十五、 製造溴化
甲烷中硫
酸乾燥機
和反應器
產生之廢
吸收劑及
分離廢水
二甲基硫酸
鹽、甲基溴
化物
dimethyl sulfate; methyl bromide.
(T)
21
修正規定 現行規定 說明
製藥
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、製造動物用藥
所產生之含
砷或有機砷
化合物之廢
水處理污泥
砷 arsenic.
(T)
二、以苯胺化合蒸
餾製造動物
用藥所產生
含砷或有機
砷化合物之
蒸餾殘渣
砷 arsenic.
(T)
三、製造動物用藥
所產生之含
砷或有機砷
化合物之活
性碳脫色殘
渣
砷 arsenic.
(T)
製藥
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、製造動物用藥
所產生之含
砷或有機砷
化合物之廢
水處理污泥
砷 arsenic.
(T)
二、以苯胺化合蒸
餾製造動物
用藥所產生
含砷或有機
砷化合物之
蒸餾殘渣
砷 arsenic.
(T)
三、製造動物用藥
所產生之含
砷或有機砷
化合物之活
性碳脫色殘
渣
砷 arsenic.
(T)
22
修正規定 現行規定 說明
其他
化學
製品
製造
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、 鉛基引爆劑
之製造、配
方、裝載之廢
水處理污泥
鉛 lead.
(T)
二、 製造鉻黃及
鉻橙顏料之
廢水處理污
泥
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead.
(T)
三、 製造鉬橙顏
料之廢水處
理污泥
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead. (T)
四、 製造鋅黃顏
料之廢水處
理污泥
六價鉻 hexavalent chromium. (T)
五、 製造鉻綠顏
料之廢水處
理污泥
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead. (T)
六、 氧化鉻綠顏
料（含水及無
水）製造之廢
水處理污泥
六價鉻 hexavalent chromium.
(T)
七、 鐵藍顏料製
造之廢水處
理污泥
氰化物(錯合
物)、六價鉻 cyanide(complexed); hexavalent chromium. (T)
八、 氧化鉻綠顏
料製造之烘
箱殘留物
六價鉻 hexavalent chromium. (T)
其他
化學
製品
製造
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、 鉛基引爆劑
之製造、配
方、裝載之廢
水處理污泥
鉛 lead.
(T)
二、 製造鉻黃及
鉻橙顏料之
廢水處理污
泥
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead.
(T)
三、 製造鉬橙顏
料之廢水處
理污泥
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead. (T)
四、 製造鋅黃顏
料之廢水處
理污泥
六價鉻 hexavalent chromium. (T)
五、 製造鉻綠顏
料之廢水處
理污泥
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead. (T)
六、 氧化鉻綠顏
料（含水及無
水）製造之廢
水處理污泥
六價鉻 hexavalent chromium.
(T)
七、 鐵藍顏料製
造之廢水處
理污泥
氰化物(錯合
物)、六價鉻 cyanide(complexed); hexavalent chromium. (T)
八、 氧化鉻綠顏
料製造之烘
箱殘留物
六價鉻 hexavalent chromium. (T)
23
修正規定 現行規定 說明
九、 使用含鉻和
鉛之色素、乾
燥劑、肥皂或
安定劑製造
墨水時，從清
洗缸和設備
產生之溶
劑、鹼洗污泥
或污泥
鉛、六價鉻 lead; hexavalent chromium.
(T)
石油
煉製
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、石油煉製業之
浮除物 六價鉻、
鉛、苯 hexavalent chromium; lead; benzene. (T)
二、石油煉製業之
廢油乳化物 六價鉻、
鉛、苯 hexavalent chromium; lead; benzene. (T)
三、石油煉製業之
熱交換器清
洗污泥
六價鉻、苯 hexavalent chromium; benzene. (T)
四、石油煉製業油
水分離設備
產生之污泥
六價鉻、
鉛、苯 hexavalent chromium; lead; benzene. (T)
五、石油煉製業加
鉛之成品油
貯存槽之槽
底殘留物
鉛、苯 lead; benzene.
(T)
六、石油煉製業之
原油貯槽之
槽底沈降物
苯 benzene. (T)
九、 使用含鉻和
鉛之色素、乾
燥劑、肥皂或
安定劑製造
墨水時，從清
洗缸和設備
產生之溶
劑、鹼洗污泥
或污泥
鉛、六價鉻 lead; hexavalent chromium.
(T)
石油
煉製
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、石油煉製業之
浮除物 六價鉻、
鉛、苯 hexavalent chromium; lead; benzene. (T)
二、石油煉製業之
廢油乳化物 六價鉻、
鉛、苯 hexavalent chromium; lead; benzene. (T)
三、石油煉製業之
熱交換器清
洗污泥
六價鉻、苯 hexavalent chromium; benzene. (T)
四、石油煉製業油
水分離設備
產生之污泥
六價鉻、
鉛、苯 hexavalent chromium; lead; benzene. (T)
五、石油煉製業加
鉛之成品油
貯存槽之槽
底殘留物
鉛、苯 lead; benzene.
(T)
六、石油煉製業之
原油貯槽之
槽底沈降物
苯 benzene. (T)
24
修正規定 現行規定 說明
七、石油煉製作業
之油污槽底
泥、過濾或分
離之廢棄物
苯(a)芘、二
苯(a,h)駢蒽、苯駢(a)蒽、苯(b)駢苊
benzo(a)pyrene; dibenz(a,h)anthracene; benzo(a)anthracene; benzo(b)fluoranthene.
(T)
其他
石油
及煤
製品
製造
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、煉焦之氨蒸餾
塔污泥 氰化物、
萘、酚類化
合物、砷
cyanide; naphthalene; phenolic compounds; arsenic.
(T)
二、煉焦之傾析器
塔泥或污泥 酚、萘 phenol; naphthalene.
(T)
三、回收煤碳焦油
或回收輕油
或石腦油精
之製程殘
渣、焦油貯存
槽殘留物
苯、苯(a)駢蒽、苯(a) 芘、二苯(b)駢苊、苯(k) 駢苊、二苯
(a,h) 駢蒽、
苊酮
(1,2,3-cd) 芘
benzene; benzo(a)anthracene; benzo(a)pyrene; benzo(b)fluoranthene; benzo(k)fluoranthene; dibenz(a,h)anthracene; indeno(1,2,3-cd) pyrene.
(T)
鋼鐵
冶煉
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
電爐製鋼過程污
染控制之集塵灰
或污泥
六價鉻、
鉛、鎘、
2,3,7,8-氯化
戴奧辛及呋
喃同源物
hexavalent chromium; lead; cadmium; 2,3,7,8-TCDD (All tetrachlorodibenzo-p-dioxins)&TCDF(All tetrachlorodibenzo-furans).
(T)
七、石油煉製作業
之油污槽底
泥、過濾或分
離之廢棄物
苯(a)芘、二
苯(a,h)駢蒽、苯駢(a)蒽、苯(b)駢苊
benzo(a)pyrene; dibenz(a,h)anthracene; benzo(a)anthracene; benzo(b)fluoranthene.
(T)
其他
石油
及煤
製品
製造
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、煉焦之氨蒸餾
塔污泥 氰化物、
萘、酚類化
合物、砷
cyanide; naphthalene; phenolic compounds; arsenic.
(T)
二、煉焦之傾析器
塔泥或污泥 酚、萘 phenol; naphthalene.
(T)
三、回收煤碳焦油
或回收輕油
或石腦油精
之製程殘
渣、焦油貯存
槽殘留物
苯、苯(a)駢蒽、苯(a) 芘、二苯(b)駢苊、苯(k) 駢苊、二苯
(a,h) 駢蒽、
苊酮
(1,2,3-cd) 芘
benzene; benzo(a)anthracene; benzo(a)pyrene; benzo(b)fluoranthene; benzo(k)fluoranthene; dibenz(a,h)anthracene; indeno(1,2,3-cd) pyrene.
(T)
鋼鐵
冶煉
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
電爐製鋼過程污
染控制之集塵灰
或污泥
六價鉻、
鉛、鎘、
2,3,7,8-氯化
戴奧辛及呋
喃同源物
hexavalent chromium; lead; cadmium; 2,3,7,8-TCDD (All tetrachlorodibenzo-p-dioxins)&TCDF(All tetrachlorodibenzo-furans).
(T)
25
修正規定 現行規定 說明
棄物
之行
業 鋼材
表面
處理
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、鋼鐵工業鋼材
加工或浸置
之廢酸液
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead. (T)
二、鐵鉻合金製程
之排放控制
之集塵灰或
污泥
鉻 chromium. (C) (T)
三、鐵鉻矽合金製
造之排放控
制之集塵灰
或污泥
鉻 chromium.
(C) (T)
棄物
之行
業 鋼材
表面
處理
業及
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、鋼鐵工業鋼材
加工或浸置
之廢酸液
六價鉻、鉛 hexavalent chromium; lead. (T)
二、鐵鉻合金製程
之排放控制
之集塵灰或
污泥
鉻 chromium. (C) (T)
三、鐵鉻矽合金製
造之排放控
制之集塵灰
或污泥
鉻 chromium.
(C) (T)
26
修正規定 現行規定 說明
其他
非鐵
金屬
基本
工業
及其
他具
有右
列製
程產
生之
廢棄
物之
行業
一、鉛、鎳、汞、
鎘、銅二次熔
煉之排放控制
之集塵灰或污
泥
六價鉻、
鉛、鎘、汞、
鎳、銅
hexavalent chromium; lead; cadmium; mercury; nickel; lead. (T)
二、鉛二次熔煉之
排放控制之集
塵灰、污泥之
酸滲出液
六價鉻、
鉛、鎘 hexavalent chromium; lead; cadmium.
(T)
三、製造初生銅所
排放之泥漿濃
縮酸廠排放之
泥漿或污泥
鉛、鎘 lead; cadmium.
(T)
四、初生鋁還原時
用過之缸內襯
物質
氰化物(錯合物)
cyanide(complexed). (T)
廢棄物處理業及其他具有右列製程產生之廢棄物之 行業
一、含汞廢料回收
產生之殘渣或
污泥
汞 mercury. (T)
二、廢料回收產生
之金屬固體殘
留物
鉛、鎘、鉻、
鈹、銻、碲、
鉈
lead; cadmium; chromium; beryllium; ntimony; tellurium; thallium.
(T)
三、廢料回收產生
之酸性廢液或
污泥
銅、鉛、鎘、
鉻 copper; lead; cadmium; chromium.
(T)
其他
非鐵
金屬
基本
工業
及其
他具
有右
列製
程產
生之
廢棄
物之
行業
一、鉛、鎳、汞、鎘、
銅二次熔煉之
排放控制之集
塵灰或污泥
六價鉻、鉛、
鎘、汞、鎳、
銅
hexavalent chromium; lead; cadmium; mercury; nickel; lead. (T)
二、鉛二次熔煉之排
放控制之集塵
灰、污泥之酸滲
出液
六價鉻、鉛、
鎘 hexavalent chromium; lead; cadmium.
(T)
三、製造初生銅所排
放之泥漿濃縮
酸廠排放之泥
漿或污泥
鉛、鎘 lead; cadmium.
(T)
四、初生鋁還原時用
過之缸內襯物
質
氰化物(錯合
物) cyanide(complexed).
(T)
廢棄物處理業及其他具有右列製程產生之廢棄物之行業
一、 含汞廢料回收
產生之殘渣或
污泥
汞 mercury. (T)
二、 廢料回收產生
之金屬固體殘
留物
鉛、鎘、鉻 lead; cadmium; chromium. (T)
三、 廢料回收產生
之酸性廢液或
污泥
銅、鉛、鎘、
鉻 copper; lead; cadmium; chromium.
(T)
配合附表二
之刪除移列
並修正管制
項目
27
修正規定 現行規定 說明
四、廢電線電纜粉
碎分選回收產
生之集塵灰
銅、鉛 copper; lead. (T)
五、廢料回收產生
之廢螢光粉 汞、鉛 mercury; lead.
(T)
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、電鍍製程之廢
水處理污泥，但
下述製程所發
生者除外： (一)鋁之硫酸電
鍍 (二)碳鋼鍍錫。 (三)碳鋼鍍鋁。 (四)伴隨清洗或
汽提之碳鋼
錫、鋁。 (五)鋁之蝕刻及
研磨。
鎘、六價
鉻、鎳、氰
化物(錯合
物)、銅
cadmium; hexavalent chromium; nickel; cyanide(complexed); copper.
(T)
二、鋁之化學轉化
塗布製程之廢
水處理污泥
六價鉻、氰
化物（錯合
物）
hexavalent chromium; cyanide(complexed). (T)
三、電鍍廢棄之氰
化物電鍍液 氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
四、使用氰化物之
電鍍程序電鍍
槽底殘留物
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
四、 廢電線電纜粉
碎分選回收產
生之集塵灰
銅、鉛 copper; lead. (T)
五、 廢料回收產生
之廢螢光粉 汞、鉛 mercury; lead.
(T)
其他
具有
右列
製程
產生
之廢
棄物
之行
業
一、電鍍製程之廢水
處理污泥，但下
述製程所發生
者除外： (一)鋁之硫酸電
鍍 (二)碳鋼鍍錫。 (三)碳鋼鍍鋁。 (四)伴隨清洗或
汽提之碳鋼
錫、鋁。 (五)鋁之蝕刻及
研磨。
鎘、六價鉻、
鎳、氰化物
(錯合物)、銅
cadmium; hexavalent chromium; nickel; cyanide(complexed); copper.
(T)
二、鋁之化學轉化塗
布製程之廢水
處理污泥
六價鉻、氰化
物（錯合物） hexavalent chromium; cyanide(complexed). (T)
三、電鍍廢棄之氰化
物電鍍液 氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
四、使用氰化物之電
鍍程序電鍍槽
底殘留物
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
28
修正規定 現行規定 說明
五、使用氰化物之
電鍍程序清洗
及汽提廢液
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
六、使用氰化物之
金屬熱處理油
槽之冷卻槽殘
留物
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
七、金屬熱處理槽
鹽浴罐清洗之
氰化物廢液
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
八、使用氰化物之
金屬熱處理程
序之冷卻廢水
處理污泥
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
九、使用熱處理法
處理有害事業
廢棄物所產生
之集塵灰
鉛、鎘、鉻、
2,3,7,8-氯化
戴奧辛及呋
喃同源物
lead; cadmium; chromium.; 2,3,7,8-TCDD (All tetrachlorodibenzo-p-dioxins)&TCDF(All tetrachlorodibenzo-furans).
(T)
十、砷化鎵半導體
製程產生之晶
圓廢料及粉屑
砷 arsenic (T)
註：危害性表示：(Ｉ)：易燃性；(Ｃ)：腐蝕性；(Ｒ)反應性； (Ｔ)：毒性。
五、使用氰化物之電
鍍程序清洗及
汽提廢液
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
六、使用氰化物之金
屬熱處理油槽
之冷卻槽殘留
物
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
七、金屬熱處理槽鹽
浴罐清洗之氰
化物廢液
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
八、使用氰化物之金
屬熱處理程序
之冷卻廢水處
理污泥
氰化物（鹽
類） cyanide (salts).
(T)
九、使用熱處理法處
理有害事業廢
棄物所產生之
集塵灰
鉛、鎘、鉻、
2,3,7,8-氯化
戴奧辛及呋
喃同源物
lead; cadmium; chromium.; 2,3,7,8-TCDD (All tetrachlorodibenzo-p-dioxins)&TCDF(All tetrachlorodibenzo-furans).
(T)
註：危害性表示：(Ｉ)：易燃性；(Ｃ)：腐蝕性；(Ｒ)反應性； (Ｔ)：毒性。
配合附表二
之刪除，新增
管制項目
29
有害事業廢棄物認定標準第三條附表二修正條文對照表
修正規定 現行規定 說明
附表二、不同清理階段之混合五金廢料認定對照表
廢棄物項目分類 貯存 階段
清除 階段
處理 階段
(含再利用)
輸出 入境
一、廢電線電纜(非以物理處理法處理
者) 一般 一般 有害 有害
二、含油脂之充膠廢電線電纜 一般 一般 有害 有害 三、不含多氯聯苯(低於五十 ppm)但含
油脂之廢變壓器、廢電容器 一般 一般 有害 有害
四、電鍍金屬廢塑膠(含光碟片) 一般 一般 有害 有害 五、廢電腦 一般 一般 有害 有害 六、廢家電 一般 一般 有害 有害 七、廢電話交換機 一般 一般 有害 有害 八、廢電子零組件、下腳品及不良品 一般 一般 有害 有害 九、廢光電零組件、下腳品及不良品 一般 一般 有害 有害 十、廢通信器材（不含機械式） 一般 一般 有害 有害 十一、含金屬之印刷電路板廢料及其粉
屑 一般 一般 有害 有害
十二、附零組件之廢印刷電路板 一般 一般 有害 有害 十三、含鈹、銻、碲、鉈金屬廢料 一般 一般 有害 有害 十四、發光二極體晶圓廢料及粉屑 有害 有害 有害 有害 備註：一、下腳品係指事業因成型或構裝等過程產生之廢料。
二、零組件係指事業因過期或品質管制汰換等過程產生之廢料。 三、不良品係指事業因品質管制或其他原因所淘汰之廢棄成品。
一、本表刪除。
二、回歸巴塞爾公
約對有害廢
棄物之管制
精神(列入清
單 A 且呈現
附件三之有
害特性，方認
定為有害廢
棄物)，故刪除
附表二以與
國際管制方
式接軌。 三、將原附表二第
十三項含
鈹、銻、碲、
鉈金屬廢
料、第十四項
發光二極體
晶圓廢料及
粉屑移列至
附表一進行
管制。 30
有害事業廢棄物認定標準第三條附表二修正條文對照表
修正規定 現行規定 說明
附表二、醫療有害廢棄物
項目 成分與說明 一、基因毒性廢棄物
(一 )屬致癌之細胞毒
素或其他藥物 azathioprine, chlorambucil(氮芥苯丁酸), chlornaphazine, ciclosporin, cyclophosphamide(環磷醯胺), melphalan(氮芥苯丙胺酸), semustine, tamoxifen(它莫西芬), thiotepa(沙奧特
帕), treosulfan. (二)可能致癌之細胞
毒素或其他藥物 azacitidine, bleomycin, carmustine, chloramphenicol(氯絲菌素), chlorozotocin, cisplatin, dacarbazine, daunorubicin(道諾魯比辛), dihydroxymethylfuratrizine, doxorubicin(杜薩魯比辛), lomustine, methylthiouracil(鉀硫脲酮), metronidazole(硝基甲嘧唑乙醇), mitomycin, nafenopin, niridazole, oxazepam(歐沙氮平), phenacetin(非那
西汀), phenobarbital(苯巴比妥), phenytoin(二苯妥因), procarbazine hydrochloride, progesterone(黃體素), sarcolysin, streptozocin, trichlormethine.
附表三、生物醫療廢棄物
項目 成分與說明 一、基因毒性廢棄物
(一)屬致癌之細胞毒素
或其他藥物 azathioprine, chlorambucil(氮芥苯丁酸), chlornaphazine, ciclosporin, cyclophosphamide(環磷醯胺), melphalan(氮芥苯丙胺酸), semustine, tamoxifen(它莫西芬), thiotepa(沙奧特
帕), treosulfan.
(二)可能致癌之細胞毒
素或其他藥物 azacitidine, bleomycin, carmustine, chloramphenicol(氯絲菌素), chlorozotocin, cisplatin, dacarbazine, daunorubicin(道諾魯比辛), dihydroxymethylfuratrizine, doxorubicin(杜薩魯比辛), lomustine, methylthiouracil(鉀硫脲酮), metronidazole(硝基甲嘧唑乙醇), mitomycin, nafenopin, niridazole, oxazepam(歐沙氮平), phenacetin(非那西
汀), phenobarbital(苯巴比妥), phenytoin(二苯妥因), procarbazine hydrochloride, progesterone(黃體素), sarcolysin, streptozocin, trichlormethine.
一、表次遞
改。 二、原生物醫
療廢棄
物，有致
誤解所
有生物
之虞，爰
修正文
字。
31
修正規定 現行規定 說明
二、廢尖銳器具 指對人體會造成刺傷或切割傷之廢棄
物品，包括注射針頭、與針頭相連之注
射筒及輸液導管、針灸針、手術縫合
針、手術刀、載玻片、蓋玻片或破裂之
玻璃器皿等。 三、感染性廢棄物 (一)廢棄之微生物培
養物、菌株及相關
生物製品
指廢棄之培養物、菌株、活性疫苗、培
養皿或相關用具，及感染性生物材料製
造過程產生之廢棄物。 (二)病理廢棄物 指手術或驗屍所取出之人體組織、器
官、殘肢、體液等。但不含頭顱、屍體、
頭髮、指甲及牙齒。 (三)血液廢棄物 指廢棄之人體血液或血液製品，包括血
餅、血清、血漿及其他血液組成分。 (四)實驗用動物屍
體、殘肢及墊料 指接受微生物感染之實驗動物屍體、殘
肢及其墊料，包括經檢疫後廢棄或因病
死亡者。 (五)手術或驗屍廢棄
物 指使用於外科手術治療、驗屍或解剖行
為而廢棄之衣物、紗布、覆蓋物、排泄
用具、褥墊、手術用手套。 (六)實驗室廢棄物 1.生物安全等級第三級及第四級實驗室
所產生之廢棄物皆屬之。 2.生物安全等級第二級實驗室中與微生
物接觸之廢棄物，包括拋棄式接種環及
接種針、檢體、手套、實驗衣、拋棄式
隔離衣等。
二、廢尖銳器具 指對人體會造成刺傷或切割傷之廢棄物
品，包括注射針頭、與針頭相連之注射
筒及輸液導管、針灸針、手術縫合針、
手術刀、載玻片、蓋玻片或破裂之玻璃
器皿等。 三、感染性廢棄物 (一)廢棄之微生物培養
物、菌株及相關生物
製品
指廢棄之培養物、菌株、活性疫苗、培
養皿或相關用具，及感染性生物材料製
造過程產生之廢棄物。 (二)病理廢棄物 指手術或驗屍所取出之人體組織、器
官、殘肢、體液等。但不含頭顱、屍體、
頭髮、指甲及牙齒。 (三)血液廢棄物 指廢棄之人體血液或血液製品，包括血
餅、血清、血漿及其他血液組成分。 (四)受污染動物屍體、
殘肢及墊料 指接受微生物感染之實驗動物屍體、殘
肢及其墊料，包括經檢疫後廢棄或因病
死亡者。 (五)手術或驗屍廢棄物 指使用於外科手術治療、驗屍或解剖行
為而廢棄之衣物、紗布、覆蓋物、排泄
用具、褥墊、手術用手套。 (六)實驗室廢棄物 1.生物安全等級第三級及第四級實驗室
所產生之廢棄物皆屬之。 2.生物安全等級第二級實驗室中與微生
物接觸之廢棄物，包括拋棄式接種環及
接種針、檢體、手套、實驗衣、拋棄式
隔離衣等。
修正款次名
稱 以 資 明
確。
32
修正規定 現行規定 說明
(七)透析廢棄物 指進行血液透析時與病人血液接觸之
廢棄物，包括拋棄式導管、濾器、手巾、
床單、手套、拋棄式隔離衣、實驗衣等。
(八)隔離廢棄物 指收容患傳染病病人之隔離病房所產
出之廢棄物。 (九)受血液及體液污
染廢棄物 指其他醫療行為所產生與病人血液、體
液、引流液或排泄物接觸之廢棄物，包
括各類廢棄之蛇型管、氧氣鼻導管、抽
痰管、導尿管、引流管等，及沾有可流
動人體血液、精液、陰道分泌物、腦脊
髓液、滑液、胸膜液、腹膜液、心包液
或羊水且可能導致滴濺之廢棄物。但不
含止血棉球、使用過之個人衛生用品、
沾有不可流動或不可吸收之人體分泌
物的紗布、包紮物、尿布、面紙及廁所
衛生紙等。 四、其他經中央主管機關會商中央目的事業主管機關認定對人
體或環境具危害性，並經公告者。
(七)透析廢棄物 指進行血液透析時與病人血液接觸之廢
棄物，包括拋棄式導管、濾器、手巾、
床單、手套、拋棄式隔離衣、實驗衣等。
(八)隔離廢棄物 指收容患傳染病病人之隔離病房所產出
之廢棄物。 (九)受血液及體液污染
廢棄物 指其他醫療行為所產生與病人血液、體
液、引流液或排泄物接觸之廢棄物，包
括各類廢棄之蛇型管、氧氣鼻導管、抽
痰管、導尿管、引流管等，及沾有可流
動人體血液、精液、陰道分泌物、腦脊
髓液、滑液、胸膜液、腹膜液、心包液
或羊水且可能導致滴濺之廢棄物。但不
含止血棉球、使用過之個人衛生用品、
沾有不可流動或不可吸收之人體分泌物
的紗布、包紮物、尿布、面紙及廁所衛
生紙等。 四、其他經中央主管機關會商中央目的事業主管機關認定對人體或
環境具危害性，並經公告者。
33
有害事業廢棄物認定標準第四條附表三修正條文對照表
修正規定 現行規定 說明
附表三、毒性特性溶出程序 (TCLP)溶出標準
分析項目 英文名稱 溶出試驗標
準(毫克／
公升) 一、農藥污染物
(一)有機氯劑農藥 Organic Chloride pesticides ○．五 (二)有機磷劑農藥 Organic Phosphorous
pesticides 二．五
(三)氨基甲酸鹽農
藥 Carbamates pesticides 二．五
二、有機性污染物 (一)六氯苯 Hexachlorobenzene ○．一三 (二 )2,4-二硝基甲
苯 2,4-Dinitrotoluene ○．一三
(三)氯乙烯 Vinyl chloride ○．二 (四)苯 Benzene ○．五 (五)四氯化碳 Carbon tetrachloride ○．五 (六)1,2-二氯乙烷 1,2-Dichloroethane ○．五 (七)六氯-1,3-丁二
烯 Hexachlorobutadiene ○．五
(八)三氯乙烯 Trichloroethylene ○．五 (九)1,1-二氯乙烯 1,1-Dichloroethylene ○．七 (十)四氯乙烯 Tetrachloroethylene ○．七 (十一)2-(2,4,5三氯
酚丙酸) 2-(2,4,5-TP) (Silvex) 一．○
(十二)2,4,6-三氯酚 2,4,6-Trichlorophenol 二．○
附表四、毒性特性溶出程序 (TCLP)溶出標準
分析項目 英文名稱 溶出試驗標
準(毫克／
公升) 一、農藥污染物
(一)有機氯劑農藥 Organic Chloride pesticides ○．五 (二)有機磷劑農藥 Organic Phosphorous
pesticides 二．五
(三)氨基甲酸鹽農
藥 Carbamates pesticides 二．五
二、有機性污染物 (一)六氯苯 Hexachlorobenzene ○．一三 (二 )2,4-二硝基甲
苯 2,4-Dinitrotoluene ○．一三
(三)氯乙烯 Vinyl chloride ○．二 (四)苯 Benzene ○．五 (五)四氯化碳 Carbon tetrachloride ○．五 (六)1,2-二氯乙烷 1,2-Dichloroethane ○．五 (七)六氯-1,3-丁二
烯 Hexachlorobutadiene ○．五
(八)三氯乙烯 Trichloroethylene ○．五 (九)1,1-二氯乙烯 1,1-Dichloroethylene ○．七 (十)四氯乙烯 Tetrachloroethylene ○．七 (十一)2-(2,4,5三氯
酚丙酸) 2-(2,4,5-TP) (Silvex) 一．○
(十二)2,4,6-三氯酚 2,4,6-Trichlorophenol 二．○
表次遞改。
34
修正規定 現行規定 說明
(十三)硝基苯 Nitrobenzene 二．○ (十四)六氯乙烷 Hexachloroethane 三．○ (十五)吡啶 Pyridine 五．○ (十六)氯仿 Chloroform 六．○ (十七)1,4-二氯苯 1,4-Dichlorobenzene 七．五 (十八 )2,4-二氯苯
氧乙酸 2,4-Dichlorphenoxyacetic Acid
一○．○
(十九)氯苯 Chlorobenzene 一○○．○ (二十)五氯酚 Pentachlorophenol 一○○．○ (二十一)總甲酚 Cresol 二○○．○ (二十二)丁酮 Methyl ethyl ketone 二○○．○ (二十三)2,4,5-三氯
酚 2,4,5-Trichlorophenol 四○○．○
三、有毒重金屬 (一)汞及其化合物
(總汞) Mercury and Mercury compounds
○．二
(二)鎘及其化合物
(總鎘) Cadmium and Cadmium compounds
一．○
(三)硒及其化合物
(總硒) Selenium and Selenium compounds
一．○
(四)六價鉻化合物 Hexavalent chromium 二．五 (五)鉛及其他合物
(總鉛) Lead and Lead compounds 五．○
(六)鉻及其化合物
(總鉻)(不包含
製造或使用動
物皮革程序所
產 生 之 廢 皮
Chromium and Chromium compounds
五．○
(十三)硝基苯 Nitrobenzene 二．○ (十四)六氯乙烷 Hexachloroethane 三．○ (十五)吡啶 Pyridine 五．○ (十六)氯仿 Chloroform 六．○ (十七)1,4-二氯苯 1,4-Dichlorobenzene 七．五 (十八 )2,4-二氯苯
氧乙酸 2,4-Dichlorphenoxyacetic Acid
一○．○
(十九)氯苯 Chlorobenzene 一○○．○ (二十)五氯酚 Pentachlorophenol 一○○．○ (二十一)總甲酚 Cresol 二○○．○ (二十二)丁酮 Methyl ethyl ketone 二○○．○ (二十三)2,4,5-三氯
酚 2,4,5-Trichlorophenol 四○○．○
三、有毒重金屬 (一)汞及其化合物
(總汞) Mercury and Mercury compounds
○．二
(二)鎘及其化合物
(總鎘) Cadmium and Cadmium compounds
一．○
(三)硒及其化合物
(總硒) Selenium and Selenium compounds
一．○
(四)六價鉻化合物 Hexavalent chromium 二．五 (五)鉛及其他合物
(總鉛) Lead and Lead compounds 五．○
(六)鉻及其化合物
(總鉻)(不包含
製造或使用動
物皮革程序所
產 生 之 廢 皮
Chromium and Chromium compounds
五．○
35
修正規定 現行規定 說明
粉、皮屑及皮
塊) (七)砷及其化合物
(總砷) Arsenic and Arsenic compounds
五．○
(八)銀及其化合物
(總銀) (僅限攝
影沖洗及照相
製版廢液)
Silver and Silver compounds 五．○
(九)銅及其化合物
(總銅)(僅限廢
觸 媒 、 集 塵
灰、廢液、污
泥、濾材、焚
化 飛 灰 或 底
渣、混合五金
廢料處理後之
殘餘物。
Copper and Copper compounds
一五．○
(十)鋇及其化合物
(總鋇) Barium and Barium compounds
一○○．○
粉、皮屑及皮
塊) (七)砷及其化合物
(總砷) Arsenic and Arsenic compounds
五．○
(八)銀及其化合物
(總銀) (僅限攝
影沖洗及照相
製版廢液)
Silver and Silver compounds 五．○
(九)銅及其化合物
(總銅)(僅限廢
觸 媒 、 集 塵
灰、廢液、污
泥、濾材、焚
化飛灰或底渣)
Copper and Copper compounds
一五．○
(十)鋇及其化合物
(總鋇)
Barium and Barium compounds
一○○．○
配合附表二
之刪除，並
強化混合五
金廢料處理
後殘餘物之
管理，爰於
三、 (九) 增列混合五金
廢料處理後
之殘餘物。
36
附件
製程有害事業廢棄物排除認定
申請書
事業名稱：
申請日期： 年 月 日
37
壹、基本資料表
一、廠商基本資料
廠商名稱
聯絡地址
負責人姓名
聯絡人 聯絡人電話
聯絡人傳真 聯絡人 e-mail
事業管制編號
工廠地址
事業之公司登記證明文件或商業登記證明文件(以附件方式置於本申請書之後面)
二、申請排除認定之廢棄物基本資料
廢棄物名稱 廢棄物網路申報代碼
行業別
請依有害事業廢棄物認定標準
附表一內容填寫 製程產生之廢棄物
廢棄物所含有害成分
申請排除認定廢棄物該製程原物料之使用情形說明
原料及添加物名稱 使用量（公噸/月） 特殊單位
(如無法以重量表
示，再以特殊單位
表示) 月最大值 月最小值 月平均值
38
貳、申請原因 申請排除認定之理由
請詳實說明符合製程有害事業廢棄物排除認定之理由。（請以流程圖或照片輔
助說明）
39
參、廢棄物採樣計畫書及檢測報告
1.請依「事業廢棄物檢測方法總則」及「事業廢棄物採樣方法」進行
採樣與分析。另事業廢棄物之檢測頻率及檢測項目須依照「有害事
業廢棄物檢測及紀錄管理辦法」之規定辦理。
2.廢棄物特性、組成及成分分析：請依所提出排除認定申請之廢棄物，
於「有害事業廢棄物認定標準」附表一製程有害事業廢棄物所列之
有害成分進行廢棄物總量分析，並檢具成分分析報告，檢測報告之
日期須為申請日前一年內。
3.本採樣計畫書及檢測報告，請以附件方式置於本申請書之後面。
40
肆、切結聲明
立書人: (公司名稱) 及負責人: ，茲依
據有害事業廢棄物認定標準第六條之規定，檢具製程有
害事業廢棄物排除認定申請書送審，經核准後，本公司
將確實遵守廢棄物清理法及其他相關法令之規定，定期
檢測並妥善清除、處理有害事業廢棄物，如有違法，願
受處分。
立書人保證所檢具之文書及提供之相關資料，均無
涉及偽造、不實情事，如經查獲涉有虛假不實情事，將
受廢棄物清理法第四十八條規定，判處三年以下有期徒
刑、拘役或科或併科新臺幣一百五十萬元以下罰金。
公司名稱：_____________________________(公司蓋章)
立書人：____________________(公司負責人蓋章)
公司地址：___________________________________
此致
○○縣（市）政府
中華民國 年 月 日
41
