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• Sistemi ottici per le reti di accesso
• Sistemi ottici per le reti metropolitane/regionali
• Sistemi ottici per le reti di trasporto• terreste
• sottomarino
Sistemi Ottici per le Comunicazioni
’50 realizzazione del LASER
’70 sviluppo di fibre ottiche a basse perdite
’80 realizzazione di amplificatori in fibra drogata
’90 realizzazione di reticoli di Bragg in fibra
’98 primo sistema ottico in Wavelength Division Multiplexing
Sistemi Ottici per le Comunicazioni
3000.155Cavo coassiale
1000.3525x12Guida d’onda
20 (1970)1 (1980)0.2 (1990)
0.022Fibra ottica
Attenuazione [dB/Km]Peso [Kg/m]Dimensioni [mm]Canale
• BASSE PERDITE DI INFORMAZIONE
• Elevati tassi di trasmissione possono essere trasmessi su grandi distanze senza dover ricorrere a ripetitori. Minori costi di manutenzione ed aumento dell’affidabilità.
Sistemi Ottici per le Comunicazioni
Caratteristiche delle fibre ottiche
• ELEVATA CAPACITA’ DI TRASMETTERE INFORMAZIONI
• COSTO INFERIORE
• La fibra ottica costa decisamente meno di un cavo in rame a parità di capacità di trasmettere informazione.
• ELEVATA COMPATIBILITA’ ELETTROMAGNETICA
• Essendo realizzate in materiale dielettrico sono immuni ad interferenza elettromagnetica.
• POSSONO ESSERE IMPIEGATE IN AMBIENTI PERICOLOSI
• La rottura della fibra non produce scintille, è l’ideale per ambienti quali raffinerie ed impianti chimici.
Sistemi Ottici per le Comunicazioni
La Natura della Luce
La luce può essere descritta mediante uno dei tre modelli:
• Raggi luminosi (Ottica geometrica);
• Onde elettromagnetiche (Ottica ondulatoria);
• Fotoni (Modello corpuscolare).
A seconda del fenomeno che si intende descrivere un modello risulta piùappropriato rispetto agli altri due.
Ottica Geometrica
I raggi di luce sono caratterizzati da una loro posizione nello spazio, dalla loro direzione e da una velocità caratteristica di propagazione della luce lungo quel raggio.
Il modello a raggi è particolarmente utile per descrivere l’interazione tra la luce ed un oggetto avente dimensioni molto maggiori della lunghezza d’onda. È il caso della riflessione e rifrazione della luce attraverso uno specchio o un prisma, la formazione delle immagini attraverso un sistema di lenti o, ancora, la propagazione della luce attraverso una fibra ottica multimodo.
Tavola di “Ottica” tratta da“Cyclopaedia”, Ephraim Chambers,1728
Ottica Geometrica
Quando le dimensioni dell’oggetto divengono confrontabili con la lunghezza d’onda il modello a raggi non è il più adeguato a descrivere l’interazione con la luce.
Ottica Ondulatoria
I meccanismi di interferenza e diffrazione possono essere facilmente interpretati assimilando la luce ad un’onda elettromagnetica.
radiazione luminosa ⇔ radiazione elettromagnetica con lunghezza d’onda λ nel campo visibile
La teoria del campo elettromagnetico fornisce tutti gli strumenti per descrivere il comportamento della radiazione luminosa quando incontra lungo la sua traiettoria una superficie di discontinuità.
Ottica Ondulatoria
Equazioni di Maxwell 1865
tEJB
BtBE
E
∂∂
+=×∇
=⋅∇∂∂
−=×∇
=⋅∇
000
0
0
µεµ
ερ
MHB
PEDtDJH
BtBE
D
+=
+=∂∂
+=×∇
=⋅∇∂∂
−=×∇
=⋅∇
0
0
0
µ
ε
ρ
propagazione nello spazio libero propagazione nella materia
Ottica Ondulatoria
0
0
0
0
=
=
=
=
J
EP
M
ρ
χε
( )
( )( )⎪⎪⎪⎪
⎩
⎪⎪⎪⎪
⎨
⎧
∂+∂
=×∇
=⋅∇∂∂
−=×∇
=+⋅∇
tEB
BtBE
EE
χµε
χεε
1
0
0
00
00
( )
( ) 01
1
2
2
002
2
2
00
=∂∂
+−∇
∂∂
+=∂∂
×∇−=×∇×∇
tEE
tE
tBE
χµε
χµε
Non ferromagnetico
Polarizzazione lineare con il campo elettrico
Assenza di sorgenti libere
Applicando al campo elettrico due volte l’operatore rotore
Ottica Ondulatoria
( )
εµζ
µεχ
χ
χ
µε
=
=+=
+=
=∂∂+
−∇
=
rrn
cv
tE
cE
c
1
1
01
1
2
2
22
00Velocità della luce nel vuoto
Equazione delle onde
Velocità di fase della luce nel mezzo
Indice di rifrazione del mezzo
Impedenza caratteristica del mezzo
In un materiale dielettrico l’indice di rifrazione è una misura della velocità di fase dell’onda luminosa all’interno del materiale rispetto alla sua velocità nello spazio libero.
Maggiore è l’indice di rifrazione del materiale, minore è la velocità della luce che si propaga al suo interno.
Ottica Ondulatoria
⎪⎩
⎪⎨
⎧
×=
×=
EkcnB
vBE
ˆ
( )⎪⎪⎩
⎪⎪⎨
⎧
+⋅−==
×=
ζω
ζ
µ
trkEEI
BEI
220
2 cos L’energia dell’onda elettromagnetica ha anch’essa una natura ondulatoria e risulta diretta secondo il vettore di propagazione k
Nel caso di propagazione nel vuoto o in mezzo omogeneo, lineare ed isotropo l’onda elettromagnetica è trasversa
Ipotizzando che la lunghezza d’onda della radiazione incidente sia molto più piccola delle dimensioni della superficie di discontinuità è lecito assimilare la radiazione luminosa ad un’onda piana.
( )
λπλυπυω
ωnk
ncv
trkEtrE2;;2
cos),( 0
===⋅=
+⋅−=
Ottica Ondulatoria
⎪⎩
⎪⎨⎧
+−=
+−=+=
ykztEtzE
xkztEtzEtzEtzEtzE
yyy
xxxyx
ˆ)cos(),(
ˆ)cos(),(),(),(),(
ϕω
ϕω
,..2,1,0==− nnyx πϕϕ
Polarizzazione lineare
Due onde elettromagnetiche piane, perpendicolari in fase tra loro.
Il campo elettrico traccia, ripetutamente nel generico piano z=ž, un segmento.
Ottica Ondulatoria
⎪⎩
⎪⎨⎧
+−=
+−=+=
ykztEtzE
xkztEtzEtzEtzEtzE
yyy
xxxyx
ˆ)cos(),(
ˆ)cos(),(),(),(),(
ϕω
ϕω
Polarizzazione circolare
Due onde elettromagnetiche piane, perpendicolari aventi
•stessa ampiezza
•sfasamento di 90°
Il campo elettrico traccia, ripetutamente nel generico piano z=ž, la stessa circonferenza.
( ) yxyx EEn =+=−2
12 πϕϕ
Ottica Ondulatoria
⎪⎩
⎪⎨⎧
+−=
+−=+=
ykztEtzE
xkztEtzEtzEtzEtzE
yyy
xxxyx
ˆ)cos(),(
ˆ)cos(),(),(),(),(
ϕω
ϕω
Polarizzazione ellittica
Due onde elettromagnetiche piane, perpendicolari aventi fasi differenti.
yx ϕϕ ≠
Il campo elettrico traccia, ripetutamente nel generico piano z=ž, la stessa ellisse.
Dispersione nei materiali
Alle frequenze ottiche non è possibile trascurare due caratteristiche dei materiali:
•Il materiale non ha una risposta istantanea al campo elettrico locale;
•Il materiale assorbe parte dell’onda elettromagnetica.
Di entrambi gli aspetti è possibile tener conto definendo un indice di rifrazione complesso del materiale
dove la parte reale n’ individua la velocità di fase dell’onda luminosa nel materiale, la parte immaginaria n” (coefficiente di estinzione) descrive l’assorbimento dell’onda luminosa da parte del materiale.
Entrambi i parametri sono funzioni della frequenza di oscillazione dell’onda stessa.
La dipendenza dell’indice di rifrazione dalla frequenza è definita dispersione.
)()()( ''' ωωω jnnn −=
Dispersione nei materiali
( )( )
( )
( )
( ) ( ) zo
zn
ot
zntjzn
t
znznjtjt
zjnnjtj
t
oot
or
ztj
eRIeRIzI
eeE
eeeEeeE
jnnn
RITIInnnnRRII
eE
αλωπ
λωπω
λωπ
λωπ
λωπ
ωλωωπ
ω
λπω
ωωω
−−
⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛−−
−−⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛ −−
⎟⎠⎞
⎜⎝⎛ −
−=−=
=
−=
−==+++−
==
11)(
)()()(
)1()0(11
)(4
2)(2
)(2)(2)()(2
'''
2''2'
2''2'
2
0
''
'''
''''''
Intensità dell’onda riflessa Riflettanza
Intensità dell’onda trasmessa
α= coefficiente di assorbimento
Modello Corpuscolare
Il modello ondulatorio è particolarmente utile per descrivere alcuni meccanismi quali quelli di interferenza luminosa ma non è in grado di interpretarne altri quale quello fotoelettrico.
Quando la radiazione luminosa colpisce il catodo C vengono emessi elettroni che possono essere raccolti dall’anodo A. In tal modo è possibile assistere ad una circolazione di corrente nel circuito esterno.
Tale corrente è ovviamente proporzionale all’intensità della radiazione luminosa, ma l’energia posseduta dagli elettroni emessi varia sempre nello stesso range indipendentemente dall’intensitàluminosa stessa.
L’energia posseduta da un elettrone emesso dipende dalla lunghezza d’onda incidente e non dalla sua intensità.
La spiegazione fu data da Einestein (1905) teorizzando una natura quantizzata della radiazione luminosa. Ciascun quanto di energialuminosa, il fotone, cede la propria energia ad un elettrone che pertanto può liberarsi dal proprio legame. Aumentando l’intensitàluminosa, maggiore diviene il numero dei fotoni e, dunque, maggiore risulta il numero di elettroni raccolti (la loro energia resta però immutata).
Modello Corpuscolare
Il modello corpuscolare è pertanto preferibile laddove si intenda studiare l’interazione tra radiazione luminosa e semiconduttore al fine di descrivere sia l’emissione di luce da parte di diodi LED e LASER che la rilevazione della sua intensità (effetto fotoelettrico).
Emissione di un fotone Assorbimento di un fotone
Interferenza
Consideriamo due onde elettromagnetiche dirette lungo l’asse z e polarizzate linearmente secondo una direzione comune.
I due campi sono ovviamente paralleli, sommandoli otteniamo l’onda risultante.
Valutiamo l’intensità dell’onda risultante
detto T un multiplo comune dei periodi temporali T1 e T2 delle due onde, l’intensità media dell’onda risultante è
⎪⎩
⎪⎨⎧
+−=
+−=
)cos(),(
)cos(),(
22222
11111
ϕω
ϕω
zktEtzE
zktEtzE
o
orr
rr
( )
∫ ⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛=
++==
T
dtET
I
EEEEEI
0
2
2122
21
2
1
2
µε
µε
µε
),(),(),( 21 tzEtzEtzErrr
+=
Interferenza
Se le due onde hanno frequenze diverse il terzo addendo è nullo e l’intensità media risultante saràsemplicemente pari alla somma delle singole intensità medie.
Consideriamo il caso in cui siano uguali le due pulsazioni e le due costanti di propagazione
e ricordando la formula di Prostaferesi
otteniamo
( )∫
∫∫∫
+−+−++=
⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛+⎟⎟
⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛+⎟⎟
⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛=
T
oo
TTT
dtzktzktEET
III
dtEET
dtET
dtET
I
02221112121
021
0
22
0
21
)cos()cos(2
211
ϕωϕωµε
µε
µε
µε
2121 III +=⇒≠ωω
kkk ==== 2121 ωωω
( )∫ −+++−++=T
oo dtkztEET
III0
212121
21 )cos()22cos(2
2 ϕϕϕϕωµε
( ) ( )( )βαβαβα −++= coscos21coscos
Interferenza
Se la differenza di fase è costante, l’intensità media dell’onda risultante non è semplicemente pari alla somma delle due intensità medie per la presenza del termine additivo
Caso particolare
( ) )cos(2)cos( 212121212121 ϕϕϕϕµε
−++=−++= IIIIEEIII oo
∫ −++=T
oo dtEET
III0
2121
21 )cos(2
2 ϕϕµε
( ) )cos(2 2121 ϕϕ −II
CIII == 21
( )
( ) 01242
2cos4
2cos22cos12)cos(22 22
21
=⇒+=∆
=⇒=∆
∆=
∆⋅=∆+=−+=
ImIIm
IIIIII
C
CCCCC
ππ
ϕϕ
INTERFERENZA COSTRUTTIVA
INTERFERENZA DISTRUTTIVA
L’interferenza comporta una ridistribuzione spaziale dell’energia trasportata dalle onde interferenti, comportando un accumulo di energia laddove risulta costruttiva ed una diminuzione di energia laddove risulta distruttiva.
In assenza di fenomeni dissipativi l’integrale di volume della densità di energia dell’onda risultante èovviamente pari alla somma delle energie delle due onde interferenti (principio di conservazione dell’energia).
Interferenza
Interferenza su lamina sottile
Consideriamo una lamina sottile di spessore costante d ed indice di rifrazione n su cui incide una radiazione luminosa con angolo di incidenza α. La dimensione d è confrontabile con la lunghezza d’onda incidente λ.
πλπ
λπ
−⋅−⋅=∆ ADABnoo
222
Se la riflettanza è sufficientemente bassa, è lecito considerare solo i primi due raggi emergenti.
Valutiamo lo sfasamento che tali onde presentano dovuto ai due differenti cammini ottici
( )
βαβ
πλπ
sin2;sin;cos
22
ABACACADdAB
ADnABo
===
−−=∆
Lo sfasamento π dell’onda riflessa è dovuto al fatto che la lamina è maggiormente rifrangente dell’aria.
Interferenza
( )
πβλππδ
λπ
βββ
βδ
ββδ
βαββ
−=−=∆
===
=−=−=
===
cos42
cos2coscos
2cos2
cos2sin122
sin2sinsin2;cos
22
22
2
nd
nddnnAB
nABnABADnAB
ABnABADdAB
Interferenza su lamina sottile
( )π
π
12
2
+=∆
=∆
m
m
Interferenza distruttiva, minimi di intensità
Interferenza costruttiva, massimi di intensità
Interferenza
Interferenza su lamina sottile
Nel caso di incidenza normale α=β=0, l’espressione dello sfasamento Δ si riduce a
πλππδ
λπ
−=−=∆ nd42
Si avrà, analogamente, interferenza distruttiva se lo spessore d è un multiplo pari di λ/4n.
;...4
31;4
0
242
ndm
ndm
mnd
m
λλ
ππλπ
π
=⇒==⇒=
=−
=∆
Si avrà interferenza costruttiva se lo spessore d è un multiplo dispari di λ/4n.
( ) ;...4
41;4
20124n
dmn
dmmnd λλππλπ
=⇒==⇒=+=−
Interferenza
Trattamenti antiriflesso
Ricordiamo che nel caso di incidenza normale aria-vetro (indici di rifrazione 1 e 1.5÷1.7rispettivamente) la riflettanza vale
Con conseguente
• perdita dell’intensità della radiazione luminosa,
• nel caso di uno strumento ottico, formazione di immagini disturbanti generate per riflessione sulla superficie della lente. L’immagine riflessa nella direzione di propagazione della luce incidente determina una diminuzione del contrasto.
( )( )
( )( ) 06.004.0
7.15.117.15.11
2
2
221
221 ÷=
÷+÷−
=+−
=nnnnR
Interferenza
Trattamenti antiriflesso
Per ridurre la riflettanza si può pensare di ricoprire la superficie del vetro con una sottile pellicola trasparente avente indice di rifrazione n1 e uno spessore d in grado da garantire interferenza distruttiva.
Per massimizzare l’interferenza distruttiva,
• l’intensità delle due onde emergenti deve risultare il più possibile simile. L’intensitàdell’onda riflessa in A deve risultare simile a quella dell’onda riflessa in B e successivamente trasmessa in C
• lo spessore della lamina deve essere opportuno
Interferenza
Trattamenti antiriflesso
La riflettanza, nel caso di incidenza normale e di solo due strati (n1 ed n2)è offerta da
Se n2=1.6, n1 dovrebbe risultare circa 1.265. Ci si può avvicinare a tale condizione facendo evaporare sulla superficie del vetro del floruro di magnesio MgF2 (n=1.38) o della criolite AlF33NaF (n=1.36). In tal modo è possibile ridurre la riflettanza a 0.01.
Per quanto riguarda la condizione di interferenza distruttiva, essendo 1<n1<n2 entrambe le riflessioni comportano uno sfasamento di π.
Pertanto affinché vi sia interferenza distruttiva
Lo spessore d deve risultare un multiplo dispari di λ/4n1.
2121
2
212
212 1 nnnn
nnnnR <<=⇒⎟⎟⎠
⎞⎜⎜⎝
⎛+−
=
( ) ( )1
1
412124
nmdmdn λπ
λπ
+=⇒+==∆
Interferenza
Trattamenti antiriflesso
La qualità del trattamento antiriflesso può essere migliorata se pensiamo ad una struttura multistrato, in cui la lente è ricoperta con più strati ciascuno in grado di produrre interferenza distruttiva per una particolare lunghezza d’onda.
Oltre allo strato antiriflesso per il verde medio, sono generalmente presenti uno strato antiriflesso per il rosso ed uno per il blu.
Se si utilizza un solo strato di floruro di magnesioMgF2 (n=1.38), la lunghezza d’onda che si preferisce correggere è quella del verde medio (λ=555nm) in corrispondenza della quale l’occhio è più sensibile.
In tal modo si ottiene una riflettanza prossima a 0.013, per tale lunghezza d’onda, ed una riflettanza di circa 0.025 in corrispondenza della lunghezza del blu e del rosso agli estremi del visibile.
mn
d verdeverde µλ 1.0
4 1
==
mn
dmn
d blublu
rossorosso µλµλ 072.0
414.0
4 11
====
0.3 0.4 0.5 0.6 0.7 0.8 0.9 10
0.5
1
1.5
2
2.5
3
3.5
4
4.5x 10-7
λ [µm]
J [A
/ µm
]source photo currentcathode photo current without AR coatingcathode photo current with a single AR layercathode photo current with a double AR layercathode photo current with an ideal Trasmittance
Trattamento antiriflesso applicato ad una cella solare
Interferenza
Specchi dielettrici
Uno specchio può essere facilmente realizzato a partire da una superficie metallica. Infatti, se la radiazione incidente ha una pulsazione inferiore della pulsazione di plasma del metallo questo ultimo esibisce una buona riflettanza, inoltre, le frequenze di plasma della maggior parte dei metalli sono tali da renderli praticamente riflettenti a tutta la radiazione visibile.
In realtà pur realizzando una superficie metallica con un grado di finitura elevato (evaporazione di materiale metallico su un substrato garantendo rugosità superficiali inferiori di un ordine di grandezza alla lunghezza d’onda incidente) è difficile ottenere, nel visibile e nel vicino infrarosso specchi con riflettanza superiore al 99%.
Specchi con riflettanza superiore al 99.99%, impiegati per realizzare cavità laser, possono essere realizzati solo a partire da multistrati dielettrici.
98%95%99%99%1.5
98%87%99%98%0.8
60%92%98%48%0.5
40%91%23%23%0.2
CuAlAgAuλ[µm]
Interferenza
Specchi dielettrici
Uno specchio dielettrico può essere realizzato mediante una sequenza di strati di materiali dielettrici a facce piane e parallele.
L’interferenza costruttiva che si deve creare tra i raggi riflessi dalle singole interfacce èfunzione del numero di strati, dei loro indici di rifrazione e del loro spessore.
Transfer Matrix
SINGOLO STRATO
⎥⎦
⎤⎢⎣
⎡=⎥
⎦
⎤⎢⎣
⎡)()(
)0()0(
lHlE
MHE
MATRICE CARATTERISTICA
⎥⎥
⎦
⎤
⎢⎢
⎣
⎡
−=
kLkLk
kLk
kLMcossin
sin1cos
λπnk 2
= L= spessore del mezzo
MULTISTRATO
⎥⎦
⎤⎢⎣
⎡×××=⎥
⎦
⎤⎢⎣
⎡)()(
.....)()(
210
0
m
mm zH
zEMMM
zHzE
mS MMMM ×××= .....21
⎥⎦
⎤⎢⎣
⎡+++−
−= −
)()(2
11221221
21122211
MMkiMkkMMMMMeiktLRL
LikL
R
⎥⎦
⎤⎢⎣
⎡+++−+++
=)()(
)()(
11221221
11221221
MkMkiMkkMMMkiMkkMrRLRL
LRL
2rR = 2tT =
Transfer Matrix
⎟⎟⎟⎟
⎠
⎞
⎜⎜⎜⎜
⎝
⎛ −=−
)cos()sin(
)sin()cos()(
111
11
1
1111
1,1
KLK
KLK
KLKLLM Si λα
⎟⎟⎟⎟
⎠
⎞
⎜⎜⎜⎜
⎝
⎛ −=
)cos()sin(
)sin()cos(),(
222
22
2
2222
1243
KLK
KLK
KLKLLM NSi λ
),(),(),,( 1211121 43λλλ α LMLMLLM NSiSi ⋅= −
Matrice di trasferimento del multilayer aSi/SiN per λ=λ1
),,( 2122 nLLM λ
),,( 2111 nLLM λ
),,( 2121 nLLM λ
),,( 2112 nLLM λ
),,( 21 nLLM λ
),,( 21 nLLR λ
),,( 22122 λLLM
),,( 22112 λLLM),,( 22111 λLLM
),,( 221 λLLM
),,( 221 λLLR),,( 121 λLLM
),,( 12111 λLLM ),,( 12112 λLLM
),,( 12121 λLLM ),,( 12122 λLLM),,( 121 λLLR
Transfer Matrix
0.5 1 1.5 2 2.50
0.2
0.4
0.6
0.8
1
1.2
1.4
1.6
1.8
Sunl
ight
Inte
nsity
[kW
/m2 •µ
m]
AM1.5G
Optical Wavelength [µm] 0 0.5 1 1.5 20
0.2
0.4
0.6
0.8
1
Optical Wavelength [µm]
Abs
orba
nce
),(.....)()(5.1),,()()(5.1),,( 212222111121 LLRGAMLLRGAMLLR P=+××+×× λρλλλρλλ
Calcolo della riflettanza pesata secondo lo spettro AM15.g e l’assorbimento del silicio
Minimizzazione della riflettanza pesata, in funzione degli spessori di a-Si e SiN
⎩⎨⎧
==−
nmnSinmSi5.6243
42α