Nama : Imam Prasojo Nim : J1D111029 UTS Nanoteknologi Lapisa Tipis

1. Ada dua pendekatan dalam pembuatan dalam pembuatan nanopartikel , pertama secara top-down, yaitu membuat partikel berukuran nano menggunakan langsung dari material yang besar. Kedua secara bottom-up yaitu menyusun partikel berukuran nano menjadi material yang lebih kompleks.

2. Benda dalam ukuran nano memiliki sifat yang berbeda dengan material bulk karena ukuran nya kecil atraktif dan terdapatnya fenomena quantum atraktif akibat pengecilan ukuran material hingga dimensi nano.

3. Pembuatan sintesis nano silika secara mekanis / Top down

1. Proses pertama adalah pelindian dengan asam sulfat, untuk meningkatkan kadar silica dalam sampel, pelindian dilakukan pada suhu ruang (tanpa panas) selama 4 jam, kemudian dibilas dengan air (hingga pH netral), kemudian di filtrasi

2. Proses selanjutnya pengeringan dengan bantuan pana yakni pada suhu 110 ° Celcius

3. Proses selanjutnya adalah sintesis nanopartikel secara mekanis menggunakan alat PBM, setelah itu baru didapat nano powder silica.

4. Tiga teknik membuat lapisan tipis secara fisika

- Electron Gun, mengarahkan suatu arus dari energy elektron yang tinggi ke arah  Material deposisi dalam suatu tempat dan penguapan di ruang hampa tinggi dari sistem deposisition.

- Sputtering, di mana argon yang di ionisasi membom target deposisi metal dan atom yang diperlukan untuk reaksi pembentukan pelapisan.

- Arc, Evaporasi material  deposisi dan melempar dengan cepat ke arah tool surface(Substrate) , bersama-sama dengan gas reaktif ( Nitrogen atau Carbon gas dari metan).

5. Tiga tenik membuat lapisan tipis secara fisika dengan menggunakan a. Pollysilicon Depositionb. Silica Depositionc. Silicon nitride deposition