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URL:http://www.mcet.co.jp
分析機器・試験装置一覧
分析事業部 営業部
株式会社MCエバテック
2015年11月
目 次
1 主要分析機器 3~9
2 各種試験装置 10~12
型 式 概 略 仕 様
元素分析装置 J-SCIENCE 測定元素:水素・炭素・窒素
JM1000HCN 測定方式:自己積分方式
測定範囲:炭素量 0.2~125mg
水素量 0.1~10㎎
窒素量 0.02~12㎎
試 料 量:数百㎎可能
elementar 測定元素:炭素,水素,窒素,酸素
vario ELⅢ 測定方式:自己積分方式
測定範囲:炭素量 0.004~30㎎
水素量 0.002~3㎎
窒素量 0.001~10㎎
酸素量 0.005~2㎎
検出器 炭素,水素,窒素:TCD,酸素:IR
試料量:数mg~十数mg
高周波誘導結合プラズマ発光分光 サーモフィッシャー CID半導体検出器、マルチ方式
分析装置(ICP) IRIS InterpidⅡXSP DUO 水素化物発生装置、超音波ネブライザー装置
サーモフィッシャー CID半導体検出器
iCAP 6300 DUO マルチ方式
パーキンエルマージャパン CCD半導体検出器
Optima 5300DV マルチ方式
パーキンエルマージャパン CCD半導体検出器
Optima 2100DV シーケンシャル方式
島津製作所 シーケンシャル方式
ICPS-8100 水素化物発生装置
日本ジャーレルアッシュ CCD半導体検出器
IRIS/DUO マルチ方式
誘導結合プラズマ質量分析計 アジレントテクノロジー I C P : ソリッドステート式
(ICP-MS) 7500ce 質量範囲:2~260amu
サーモフィシャー コリジョンセル搭載
iCAP-Qc
誘導結合プラズマ質量分析計 アジレントテクノロジー HMI機能搭載
(ICP-MS-MS) 8800シリーズトリプル四重極 マスシフト測定可能
エネルギー分散型X線分析装置付 走査電子顕微鏡 倍 率:15~10,000倍
走査電子顕微鏡 日立 S-3000N 二次電子分解能:3.0nm
(SEM‐EDX) 試 料 室 寸 法:最大150㎜φ×50㎜
EDAX 検出可能元素:F~U
エネルギー分散型X線分析装置(EDX) エネルギー分解能:132eV以下
蛍光X線分析装置 リガク製 ZSX100e X線発生装置:Rh管球(3kW)
(XRF) (波長分散型) 測定分析元素:F~U
日本電子製 JSX-3400R X線発生装置:Rh管球
(エネルギー分散型) 測定分析元素:Na~U
検出器 Si(Li)半導体検出器
1.主要分析機器
4
■元素分析
装 置 名 称
2
3
1
5
3 / 12
原子吸光光度計 サーモフィッシャー フレーム、ファーネス
(AA) SOLAAR M6 水素化物発生装置(HYD-10)
アジレント・テクノロジー フレーム、ファーネス
AA240FS/240Z 水素化物発生装置(VGA77型)
日立 フレーム、ファーネス
Z-2010,Z-5000
水銀分析装置 日本インスツルメンツ 還元気化原子吸光法
(AA)RA-4500,RA-4300,マーキュリーRA3
SP,MA-1,MD-1 加熱気化・金アマルガム式
平沼 還元気化原子吸光法
HG-200
7
6
■元素分析(つづき)
4 / 12
型 式 概 略 仕 様
顕微フーリエ変換赤外分光装置 サーモフィッシャー 波 数 範 囲:400~4,000cm-1
(FT-IR) Nexus 670 最高分解能 :0.09cm-1
Continuum 赤外顕微鏡 対物カセグレン倍率:15倍
日本分光 波 数 範 囲:600~4,000cm-1
IRREPORT-100 ダブルビーム、フィルタ回折格子分光器
顕微レーザラマン分光装置 堀場製作所 レーザー : 内部 532nm,633nm,785nm
(LR) LabRAM ARAMIS スペクトル域:650~4,000cm-1
BX41顕微鏡 焦点距離 : 460mm
顕微鏡倍率:5倍、20倍、50倍、100倍、50倍(油浸)、マクロ
核磁気共鳴装置 ブルカー・バイオスピン 自己遮蔽型超伝導磁石 磁場強度:7.05テスラ
(NMR,固体NMR) AU300M 測定可能元素:H,B,C,N,O,F,Al,Si,P,S等
プロトンの共鳴周波数:300.13MHz(6~430MHz)
X核の共鳴周波数:14~400MHz
ブルカー・バイオスピン ボア内径:85mm(ワイドボア)
AVANCE Ⅲ 400MHz 磁場強度:9.4T(400MHz) 固体NMR測定可
ガスクロマトグラフ質量分析装置 アジレントテクノロジーズ 質量範囲:m/z1.6~1,050
(GC/MS) 5975B InertMSD
島津製作所 質量範囲:m/z1.5~1,024
QP2010 ultra,QP2010+ イオン化法:EI
熱分解ガスクロマトグラフ質量分析装置 フロンティア・ラボ 温度範囲:40~1,000℃
(PY-GC/MS) パイロライザー:PY2020-iD 昇温速度:1~100℃/min
GC/MS:5975B InertMSD
高速液体クロマトグラフ質量分析装置 アジレントテクノロジーズ イオン化法 : ESI、APCI
(LC-MS) 1000SeriesLC/MSD 質量範囲:50~3,000 U
1100LC/MSD SYSTEM 液クロ : ダイオードアレイ検出器
X線回折装置 PANalytical X線発生装置:Cu管球(3kW)
(XRD) Xpert Pro 最大 60kV-60mA
リガク X線発生装置:Cu管球(2kW)
Multi Flex 2kW 大口径試料対応試料交換機
集中光学系(Bragg-Brentano型)
(X線計数部側 単色化結晶 グラファイト)
6
4
■構造解析
装 置 名 称
1
2
3
5
7
5 / 12
型 式 概 略 仕 様
ガスクロマトグラフ装置 島津製作所(GC-2014 他) 検出器:TCD、FID、FPD、ECD、PID
(GC) アジレント(6890N)
ヒューレットパッカード(HP-5890A他)
日本電子 GC-310 可搬型
高速液体クロマトグラフ装置 日本ウォーターズ 紫外~可視分光光度検出器(UV/VIS)
(HPLC) alliance 蛍光検出器(FL)
示差屈折率検出器(RI)
島津製作所LC-10A システム 紫外~可視分光光度検出器(UV/VIS)
島津製作所LC-10AD VP 蛍光検出器(FL)
日立L-6200
アジレント-1100,1200
イオンクロマトグラフ装置 日本ダイオネクス サプレッサー型 溶離液ジェネレータ-
(IC) ICS-1500,2000 クロマトグラフィーモジュ-ル:陽イオン,陰イオン,有機酸他
検出器:電気伝導度型(0.1~10,000μS)
横河 IC7000RD 検出器:電気伝導度型
メトローム 761コンパクトIC 検出器:電気伝導度型
ポストカラムイオンクロマトグラフ吸光光度計 日立ハイテクノロジーズ UV-VIS 検出器:L-2420
(IC-PC) シアン・臭素酸分析システム
Lachrom Elito HATA システム
ヘッドスペース-ガスクロマトグラフ 島津製作所 質量範囲:m/z1.5~1,024
質量分析装置 QP2010 イオン化法:EI,CI,DI
(HS-GC/MS) パーキンエルマージャパン 質量範囲:m/z10~1,000
Turbo Mass Gold イオン化法:EI
加熱脱着導入システム-ガスクロマトグラフ アジレントテクノロジーズ 質量範囲:m/z1.6~800
質量分析計 5973N InertMSD イオン化法:EI
(TDS-GC/MS) 5973N-ODP2
※におい嗅ぎ装置付 5975C-ODP2 ODP:におい嗅ぎ付
パージ&トラップ-ガスクロマトグラフ アジレントテクノロジーズ 質量範囲:m/z1.6~800
質量分析装置 5973N InertMSD イオン化法:EI
(P&T-GC/MS) パージ&トラップ濃縮導入装置
Eclipse Series Model4660
キャニスター-ガスクロマトグラフ 日本電子 質量範囲:m/z1.5~1,022
質量分析装置 IMS-AMⅡ50型(GC/MS) イオン化法:EI
(キャニスター-GC/MS) GLサイエンス 大気ガス分析装置キャニスター
AEROタワーシステム ACS-2100
タンデム型ガスクロマトグラフ質量分析装置 ブルカーダルトニクス 質量分析部:トリプル四重極型
(GC-MS-MS) 1200L型 質量範囲:m/z10~1,500u
イオン化法:EI,CI,NCI
2
■分離分析
9
4
5
7
1
3
8
装 置 名 称
6
6 / 12
型 式 概 略 仕 様
熱分解ガスクロマトグラフ質量分析装置 フロンティア・ラボ 温度範囲:40~1,000℃
(PY-GC/MS) パイロライザー:PY2020-iD 昇温速度:1~100℃/min
GC/MS:5975B InertMSD
示差熱天秤-質量分析同時測定装置 リガク 温度範囲:室温~1,000℃
(TG-DTA/MS) ThermoMass Photo 質量範囲:m/z1~410
イオン化法:EI,PI
加熱脱着-ガスクロマトグラフ質量分析装置 日本電子 質量範囲:4~1,000amu
(ATD-GC/MS) Automass SUN 200 加熱脱着装置:パーキンエルマーTurbo Matrix ATD
(T-DEXⅡ-GC/MS) アジレントテクノロジーズ 質量範囲:m/z1.6~800
5973N InertMSD 加熱脱着装置:パーキンエルマーTurbo Matrix ATD
5973N
アジレントテクノロジーズ 質量範囲:1.6~1,050amu
5975C 加熱脱着装置:ジーエルサイエンス T-DEXⅡ
昇温熱脱着&熱分解質量分析装置 キヤノンアネルバ 測定感度:数10pL
(TPD-MS) 本体:M-401GA-DM MS真空度:10-7Paオーダー
分析部:M-401QA-M 質量範囲:1~410amu
質量分析部:四重極型
イオン化法:EI
分解能:M/△M≧2M(50%ピーク高)
イメージ炉 アルバック理工 加熱帯:φ10mm×100mmL
RHL-E25 温度範囲:室温~1000℃
昇温速度:数10℃/s
破壊測定容器 容器内寸:60mmφ×5mmH
測定対象:気密封止パッケージ(LD、CCD、IC)、
高純度機能性材料(石英ガラス、シリコンウェハ)、
樹脂フィルム 等
in-situ反応器 容器内容積:数mL
温度範囲:室温~1000℃
昇温速度:数10℃/min
■分子量・分子量分布測定
型 式 概 略 仕 様
ゲル浸透クロマトグラフ装置 日本ウォーターズ 測定範囲:580~200,000ダルトン(PS)
(GPC) HPLC(1515)、 RI(2114) 検出器:示差屈折率検出器(RI)
移動相:THF、クロロホルム
型 式 概 略 仕 様
走査電子顕微鏡 日立製作所 倍率:30~10,000倍(二次電子像、反射電子像 他)
(SEM) S-3000N 二次電子分解能:3.0nm
試料室寸法:最大150㎜φ×20㎜
装 置 名 称
装 置 名 称
装 置 名 称
■形態観察
■発生ガス分析
1
1
4
3
2
1
7 / 12
■熱分析・熱物性
型 式 概 略 仕 様
熱分析装置 ブルカー・エイエックスエス TG-DTA(示差熱‐熱重量同時測定装置)
(TG-DTA,TMA,DSC) TAPS3000Sシリーズ 温度範囲:室温~1,350℃(TG/DTA2000SR)
TMA(熱機械分析装置)
温度範囲:-100~600℃(全膨張式)
:室温~1,350℃(示差膨張式)
DSC(示差走査熱量測定装置)
温度範囲:-100~700℃ (DSC 3100SR)
:室温~1,350℃(DSC 3300)
自然発火試験装置 島津製作所 測定範囲:室温~300℃
(SIT-2) SIT-2 雰囲気 :空気および酸素混合ガス
■粉体特性
型 式 概 略 仕 様
比表面積/ 細孔分布測定装置 島津製作所 測定方法:水銀圧入式
水銀ポロシメトリ分析装置 オートポアⅣ9520 細孔直径:約500~0.003μm
測定圧力:大気圧~414Mpa
比表面積/ 細孔分布測定装置 マイクロメリティックス 測定方法:定容法によるガス吸着法
ガス吸着法 ASAP-2420、2400、2405 3台 細孔測定範囲:直径0.7~100nm
吸着ガス:N2
日本ベル 測定方法:定容法によるガス吸着法
BELSORP-max、BELSORP-mini 細孔測定範囲:直径0.35~500nm
吸着ガス : N2、CO2、水蒸気、非腐食性ガス
比表面積測定装置 ユアサアイオニクス 測定範囲:比表面積 0.01m2/g以上
モノソーブ MS-21
粒度分布測定装置 島津製作所 測定方法:レーザー回折・散乱法
SALD-2000 測定範囲:0.03~1,000μ m
SALD-2200 データー処理:積分 / 微分 / 差分の粒度分布
粉体物性測定器 セイシン企業 MT-1000 測定項目:タッピング密度、カサ密度、安息角
(マルチテスター) 流動度(金属粉)、スパチェラ角、凝集度、
崩潰角、分散度、差角、Carrの流動性、噴流性
ゼータ電位測定装置 スペクトリス 測定範囲:3.8nm~100um(直径)
ゼータサイザーナノZ 測定原理:電気泳動光散乱
最小試料量:150uL
感度:10mg/mL(BSA)
温度制御範囲:0~90℃
光源:He-Neレーザー633nm、最大4mW
2
2
3
5
4
1
装 置 名 称
6
1
装 置 名 称
8 / 12
■機械物性
型 式 概 略 仕 様
微小硬度計 島津製作所 測定項目 : 硬さ、弾性率、圧縮試験
ダイナミック超微小硬度計 試験力 : 範囲:0.1~1961mN
(DUH-211) 押込み深さ : 0~10μ m、測定最小: 0.0001μ m
圧子 : 三角すい圧子(稜間角115度)
顕微鏡倍率 : 500倍(対物50倍、接目10倍)
粘弾性測定装置 Anton Paar 最大トルク : 200mNm
(レオメーター) (MCR 102) 最小トルク(回転) : 250μ Nm
■その他型 式 概 略 仕 様
分光光度分析装置 日立製作所 U-2910,2450 波長範囲 :190~1,100nm
U-1600,1650 波長範囲 :190~900nm
日本分光 V-630 波長範囲 :190~1,100nm
引張圧縮試験器 オリエンテック 測定方法 :引張、圧縮
テンシロン万能試験機 測定範囲 :0.05~25kN(2.5tf)
(RTC-1325A) 試験速度 :0.05~1,000mm/min
ギ-スラ-プラストメ-タ- 吉田製作所 トルク:10.0mNm
YM自動式 昇温速度:3℃/min(300~500℃)
流動度:0~ 60,000DDPM
自動ボンベ熱量計 島津製作所 測定範囲:4000~32,000J
CA-4PJ
灰の溶融性試験装置 ニットク :炉 測定範囲:酸化性雰囲気 900~1,600℃
吉田製作所:制御盤 測定範囲:還元性雰囲気 900~1,600℃
危険物判定装置 吉田科学 タグ密閉式・セタ密閉式引火点試験器
クリーブランド開放式引火点、発火点試験器
TOC分析装置 島津製作所 燃焼触媒酸化方式
TOC-VCPH
窒素分析計 三菱化学アナリテック 減圧化学発光法
TN-05 試料:5~200μ L 測定範囲:0.01~500ppm
三菱化学アナリテック CA-100型滴定方式:電量滴定方式
(水分気化装置 VA-22型) 検出感度:0.1ug H2O
CA-07型 滴定方式:電量滴定方式
測定範囲:10μ g~100mgH2O 1mg以上でRSD値0.3%以内
精 度:10μ g~1mgで3μ g以下
10 におい識別装置 島津 化学製品や原料の品質管理や良品不良品の判別
FF-2A 室内や車内など居住空間の臭気評価
2
7
8
3
4
5
6
1
装 置 名 称
9
微量水分測定装置
2
装 置 名 称
1
9 / 12
■蒸留装置
型 式 概 略 仕 様
真空ロータリーエバポレーター EYELA N-21NS型 20L容器 温度:室温~100℃ 圧力:5Torr
柴田科学(SIBATA) 真空制御機能付 温度調節範囲20~180℃
R-205 回転数調整範囲20~280rpm
■ガス吸脱着性能評価装置
型 式 概 略 仕 様
常圧、加圧PSA、PTA試験装置反応管容積:SUS製25mmφX300mm
耐圧:≦10kg/cm2
温度:300℃
悪臭ガス吸着(アンモニア、硫化メチル、硫化水素等)
反応管容積:ガラス製25mmφX300mm試験圧力:常圧温度範囲:-20℃~80℃
脱硫脱硝試験
■分離装置
型 式 概 略 仕 様
1 超遠心分離機 日立工機 55P-72 回転数:Max 55,000rpm
■熱処理装置
型 式 概 略 仕 様
1 可動壁炉 最高温度:1,200℃ 450W×800H×1,200D
2 中規模試験炉 最高温度:1,200℃ 400W×830H×1,200D
3 可動壁試験炉 最高温度:1,200℃ 450W×900H×1,200D
ADVANTEC KM-600 最高温度:1,100℃
日本特殊電気 最高温度:1,100℃ 80L
KOYO 最高温度:1,100℃
東洋製作所 KM-600 使用温度:100~1100℃
5 高温マッフル炉 増田理科工業 最高温度:1,600℃ 18L
6 高温管状炉 最高温度:1,650℃ 80φ
7 ロータリーキルン 最高温度:1,000℃ 150φ×600L
8 低温灰化炉 ヤナコ LTA-102 プラズマ灰化 常温~200℃
装 置 名 称
装 置 名 称
流通式ガス吸着装置
装 置 名 称
1
4 マッフル炉
2 自社製
2.各種試験装置
触媒活性試験装置 本間理研
最高使用温度:700℃反応管容積:51ml (19.5mmφ×166mm)
耐圧:≦10kg/cm2
流通ガス:Air, N2, H2, CH4, H2O(水蒸気)等※腐食性のガスについては以下流通ガス吸着装置にて測定可能です
1
装 置 名 称
10 / 12
■乾燥装置
型 式 概 略 仕 様
コニカルドライヤー 八光産業 GL型 容積:500L(グラスライニング)
加熱方式:水蒸気(間接)
大型熱風乾燥機 A 東海電機 最高使用温度:500℃
内容積:3m3〔1.4(W)×1.4(H)×1.6(D)〕
加熱方式:電機ヒーター(80KW)
供給ガス:Air,N2(加熱器付)
温度制御:プログラムコントローラー
排ガス処理 : 洗浄塔(水又は酸、アルカリ循環)
大型熱風乾燥機 B,C 東海電機 最高使用温度:450℃
内容積:5.8m3〔1.8(W)×1.8(H)×1.8(D)〕
加熱方式:電機ヒーター(80KW)
供給ガス:Air,N2(加熱器付)
温度制御:プログラムコントローラー
排ガス処理 : 洗浄塔(水又は酸、アルカリ循環)
送風定温乾燥器 東洋製作所 使用温度:0 ~ 280℃
FV-630
通風定温乾燥器 東洋製作所 使用温度:40 ~ 300℃
DRK633DB
■粉砕装置
型 式 概 略 仕 様
1 ジョークラッシャー <40㎜
2 ダブルロールクラッシャー <20mesh
3 ナイフハンマーミル ホソカワミクロン パンタムミル AP-B <100mesh 200g/min
4 湿式粉砕機 三井三池化工 アトライター <1μm 1/バッチ
5 振動式ディスクミル 川崎重工 <400mesh 400cc/バッチ
6 流動式カウンター
7 ジェットミル
■混合装置
型 式 概 略 仕 様
1 高速カッターミキサー 三井三池化工 ヘンシェルミキサー 容量 : 12L/バッチ
装 置 名 称
装 置 名 称
装 置 名 称
ホソカワミクロン 200AFG 型
1
4
4~50μm 5~150kg/hr
3
2
5
11 / 12
■チャンバー試験装置
型 式 概 略 仕 様
調湿制御 :フローメーター
(DRY 500mL/分、WET 500mL/分)
換気流量 :マスフローメーター2系統
(1流路 200mL/分)
水タンク :バブリングタンク1L
洗浄空気 :超空気洗浄供給装置付
1m3 小形チャンバー ESPEC社製
2m3 大形チャンバー 日測社製
5.5m3 大形チャンバー 日測社製
15.6m3 簡易大形チャンバー 自社製
発生ガスサンプリング装置 ジーエルサイエンス 300℃までの加熱発生ガス試験可
MSTD-258M-A
マイクロチャンバー試験用システム 自社製 JIS A 1904対応
高温試験対応可
簡易TVOC計 ガステック社
GVC-1000
■オートクレーブ(高圧反応試験装置)
7
8
2
3
4
5
6
ADTEC ADPACシステムⅢ
装 置 名 称
1 20L 小形チャンバー
■オートクレーブ(高圧反応試験装置)
材質 圧力 温度 攪拌機
0.5 L( ≒ 0.33 L ) SUS316 29MPa 500℃ 電磁誘導インペラ型
2 L ( ≒ 1.3 L ) SUS316 29MPa 300℃ 電磁誘導インペラ型
10 L ( ≒ 6.5 L ) SUS316 9.8MPa 600℃ 電磁誘導インペラ型
10 L ( ≒ 6.5 L ) SUS316 1.9MPa 600℃ 攪拌機なし(受器型)
20 L ( ≒ 13 L ) SUS316 9.8MPa 200℃ 電磁誘導インペラ型
容量(最大仕込量)
1
12 / 12