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Contributi alla portata
S
QePP i
it
V
S
0 vaporeditensionegas
ff.desorb./didagas
perdite
V
D
L
Q
Q
Q
Sepermeaziondagas
pg
p
V
Q
Q
• 2’• 110 gg
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
110 gg
• 3.2 105 aa
Superfici RealiSuperfici Reali
• Superfici ideali – urti elastici:Superfici reali: sorption– Superfici reali: sorption
physisorption
Ad ti f l • Adsorption one or few monolayergas on the surface of the solid chemisorption
• Absorption
gas enters in the bulk solid and diffuse.
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Desorption PhenomenaDesorption Phenomena
• Material under vacuum desorbs the gas ad or ab sorbedad- or ab- sorbed.
Desorption= f(P, T, shape, kind, surface).Desorption f(P, T, shape, kind, surface).• P-rate of desorption increases over –
decreases below the equilibrium.
• T desorption is endothermic accelerated• T – desorption is endothermic, accelerated incrising T.
• Shape: If ad-sorbed only the surface influence
If b b d l h 3th di iIf ab-sorbed also the 3th dimension
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Desorption Phenomena
Physisorption purely “physical”:V d W l i l l fVan der Waals, intermolecular forces(heat of Physisorption max 8 kcal/mole)H t t d th iHeat generated = exothermic process.
Chemisorption – chemical compounds:
(heat of chemisorption ~ 250 kcal/mole)Heat generated =exothermic process.
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Inert gases cannot be chemisorbed, on physi-sorption.g , p y p
Molecules may dissociate and be chemisorbed like atoms.Atoms may migrate on over the surface, collide recombineand desorb as a molecule.This we already mentioned like 2nd order desorption
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
This we already mentioned like 2 order desorption
Soprtion by absorbentsp
• Activated Charcoal, Zeolites (molecular sieves) silica gel and alluminasieves), silica gel and allumina.
• Used as pumping system (or in cryo-Used as pumping system (or in cryopump).
• Adsorption and the diffusion in the b lk t i lbulk material.
• Similar to permeation but without• Similar to permeation, but without desoption surface.p f
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Outgassing=result of desorptionOutgassing result of desorption
• Outgassing = rate of gas emanating from surface per unit areafrom surface per unit area
• Torr l s-1 cm-2 or W m-2Torr l s cm or W mComplicated process described by the following
outgassing at h our and 1 h
empirical formula
huh tqqq 1outgassing at h our and 1 h
qu limiting factor negliglible unless th very large
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Outgassing – bakeout
Beginning: largeHeating accelerates:D ti h i d h i
g g g
Few minute an then: less,0 5 1
Desorption physi and chemiDiffusion
0.5 -1.After long pumping time> 10 h, outgassing rate fallExponentially with time till qu.
With heating the outgassingWith heating the outgassingincreases, but coming back to room temperature it falls rapidlyroom temperature it falls rapidly down.
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Con situazioni reali:Descrizione teorica complessa, ricoprimento di più monostrati, energia di
legame diverse dipendenza dalla percentuale di superficie ricopertalegame diverse,dipendenza dalla percentuale di superficie ricoperta.
Valori tabulati dal O’Hanlon dati in W/m2
1
1t
q =portata per unità di area
Relazione temporale1t
q
per le prime 10 h
10
1010 t
Utilizzando I valori tabulati per unità si superficie e stimando la superficie del
Relazione temporale dopo 10 h
Utilizzando I valori tabulati per unità si superficie e stimando la superficie del sistema utilizzato, si stima il contributo alla portata della camera.
Nel caso di utilizzo di materiale diversi si dovrebbe stimare il contributo per ogni materiale.
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Portata/A per vari materiali
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
qu dei vari materiali
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
outgassing M-spectrag g p
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
At last - permeationThroughput/A non dissociative gases
d
PKq p
k d
12sm pK p
PPK 2/11
2/12
dissociative gases
d
PPKq p
k12
121/2 121/2 smPa pK
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Polymeric material -sealing
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Esempio 1.1 - continuaCamera Cubo in acciao inoxAtt QMA t b CF40Attacco QMA tubo CF40 Lungo 200 mm e diametro 38 mm.QMA rod in acciaio, Q ,cerimiche, vitine varie ecc. ecc.
Stimate la pressione limiteStimate la pressione limiteRaggiungibile Pu nel caso di acciaio ino 1 hdi acciaio inox 1 h.Stimate la pressione limitePer l’acciox inox cotto.Utilizzate i dati evidenziati
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
in giallo
Pompa di UHV• I sistemi possono essere usati per fare trattamenti con gas.
N 68 l/inlet
N2 68 l/s
He 60 l/sHe 60 l/s
H2 45 l/s2
tl toutlet
Qual è la max P inlet che può sopportare la turbo?Qual è la max Pmax inlet, che può sopportare la turbo?
Qual è quindi la massima portata Qmax iniettabile nel sistema?
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
Q q p Qmax
Dimensionare il prevuotop• Dimensionare la pompa di prevuoto
Pout/ Pin
– Sp.richiesta per sostenere la portata– e una P<Pout della Pompa UHV – conduttanza di connessione, DN16KF,
– diametro 1 6 cm lunghezza 30 cm
– La Qmax sarà evacuata dalla pompa di prevuoto, che deve fornire una pressione non superiore a 1 mbar
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
– diametro 1.6 cm lunghezza 30 cm. pressione non superiore a 1 mbar outlet della turbo.
Sistemi stazionari: carico distribuitoBdxqdQ D )(:attraverso dPLCQdxQ )( : attraverso dPdxCQdxQ
22/ :)( dxPdCLdxdQdxd
BqPdD
21kxCL
Bqd
dPD
CLq
dxD
21CLdx
:Lper x contorno al condizione 1
CBqxCL
BqdPDD
CBqkdxdP DL 10 CxCLdx
222 kxCBqxCLBqP DD
20 :0per x
contorno al condizione Seconda
kSBLqP pD CSLBqP
CLxCxSLBqP
pDL
pD
21
;22
q pDL
CBLqPP
CLxCxBqPPP Dx
2
220
La variazione di Pressione,
di d d S
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD
CBLqPP DL 20 non dipende da S
Pompaggio distribuitoPompaggio distribuito• La caduta di pressione è indipendente da Sp.
Soluzione: LSoluzione: )( : attraverso dPdxLCQdxQ
CLBq
dx
PdD
2
2
dx
2S 2S2Lx x+dx
xQ s m Pa portata )( -13 BqdxdQ
ddPQ )(
CLcsc
q(x)A
mspecificaaconduttanz
mA l di unitàper superficie
s m Pa per outgassing
14
1- dxdPcxQ )(
22 dxPdcBq CLcsc m specifica aconduttanz
SQP
dxdP Lx
2)0()0(
0
contornoalCondizioni
AA 2008/2009 Ciullo Giuseppe Lab di rivelatori LS
BqLQ
SQP
2)0(
2)0()0(contornoal Condizioni
Pompaggio distribuito
LxLx
BqxP2
)(2
p gg
Sc
BqxP2
)(
LL
BqdxxPPL
)(1 22
ScBqdxxP
LP ave 3
)(2 0
LBqP max
S
qmax
S
L
C
LBq
S
L
c
LBqP
33
2
min
C
LBq
c
LBqP
S
33
2
min
SCSc 33
Cc 33
Si può ottenere un sistema con una pressione più omogenea e con l’utilizzo di sistemi di pompaggio appropriati.di sistemi di pompaggio appropriati.Alle fine il limite è fornito dal tipo materiale e trattamento (q) e dalla geometria del sistema (vedi acceleratori).
i h ll ll i i d d ll di l
AA 2008/2009 Ciullo Giuseppe Lab di rivelatori LS
Ma si ha un controllo sulla pressione massima a seconda della distanza tra le pompe e la conduttanza.
Tabella delle conduttanze
• Per regime di flusso....
V ifi h i it l ità• Verificheremo in seguito la necessità sulla precisione.sulla precisione.
• Per altre forme fornirò formule o ci f f faccontenteremo di approssimazioni tipo t b ili d i ffi tttubo cilindrico, come per soffietto.
AA 2009/2010 Tecnologia del Vuoto per PhD