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模拟 IC 版图设计 及设计规则检查. [email protected] 2014 年 3 月 17 日. 重新申请端口号. 注意 : ppt 中部分操作步骤是通过动画展示的,请用放映模式观看。. 账号. eda@zueda. 关闭原端口,注意空格符. 申请新端口. 新端口号. 新端口号不一定和原端口号相同. 不能打开一个 Cellview 或编辑一个 Cellview. 有的时候在一个 Library 中不能打开或编辑某个 Cellview ,这种情况的发生则说明你并没有访问该 Cellview 的权限。 解决方法: 可能设成只读模式 - PowerPoint PPT Presentation
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重新申请端口号
浙大微电子
注意: ppt 中部分操作步骤是通过动画展示的,请用放映模式观看。
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账号eda@zueda
关闭原端口,注意空格符申请新端口
新端口号
新端口号不一定和原端口号相同
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不能打开一个 Cellview 或编辑一个 Cellview
有的时候在一个 Library 中不能打开或编辑某个Cellview ,这种情况的发生则说明你并没有访问该Cellview 的权限。
解决方法: 可能设成只读模式 design—make editable 可能系统为保护文件自动上锁了 删除该文件夹下相应的 .cdslck 文件命令: find –name \*.cdslck | xargs rm 使用 UNIX command chmod 来改变你在该
Library 中的访问权利(用的很少)
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内容提要
版图基本知识 Virtuoso 软件的简介及使用 设计规则检查( DRC ) 演示
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一、版图基本知识
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版图是集成电路从设计走向制作的桥梁,包含了集成电路尺寸,各层拓扑定义等器件相关的物理信息数据。
集成电路制作厂商( Foundry, 如 TSMC 、 SMIC )根据版图来制造掩膜版。
版图设计是创建工程制图的精确的物理描述过程,即定义各工艺层次图形的形状,尺寸及不同工艺层次相对位置的过程。
版图数据格式为 gds 。
什么是版图?
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电路如何转化成芯片?
电路
芯片
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Layout
Mask
wafer
Die
Chip
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反相器的制作
这里以反相器为例简单的介绍下其制作的基本工艺流程。
这里介绍目前比较普通的 N 阱 CMOS 工艺流程,用到的 wafer (晶圆)是 P 型衬底,所以需要用NWELL 来构建 p 沟器件,而 n 型 MOS 管就构建在 p 衬底上。
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光刻的典型操作步骤
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第一张 mask 定义为 n-well(or n-tub)mask
a) 离子注入:制造 nwell 。b) 扩散:在所有方向上扩散,扩散越深,横向也延伸越
多。
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第二张 mask 定义为 active mask 。 有源区用来定义管子的栅以及允许注入的 p 型
或者 n 型扩散的管子的源漏区。
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忽略版图中无法体现的一些 mask :诸如 channel stop 、阈值电压调整等
要介绍的第三张 mask 为 poly mask :它包含了多晶硅栅以及需要腐蚀成的形状。
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第四张 mask 定义为 n + mask ,用来定义需要注入n +的区域。这里的注入为两次注入,首先轻掺杂注入,在栅上生成一层氧化层后再重掺杂注入,形成LDD 结构。
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第五张 mask 是 p + mask 。 p +在 Nwell 中用来定义 PMOS 管或者 NMOS 体端引出; p +在 Pwell 中用来作为欧姆接触。LDD 不必用来形成 PMOS ,这是因为热载流子在 PMOS 中
受影响小。
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第六张 mask 定义接触孔( contact )。首先腐蚀 SiO2 到需要接触的层的表面。其次要能够使金属接触到扩散区或者多晶硅区。
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第七张 mask 就是金属 1 ( metal1 )了。需要选择性刻蚀出电路所需要的连接关系。至此,一个反相器的完整版图就完成了。
在更复杂的电路版图中,还会有通孔( via )以及其他层次的金属( metal2,metal3… )
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二、 Virtuoso 软件使用版图制作演示
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模拟集成电路的设计流程
1. 交互式电路图输入2. 电路仿真3. 版图设计4. 版图的验证( DRC LVS )5. 寄生参数提取6. 后仿真7. 流片
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Virtuoso 软件的简介及使用
Virtuoso 是 Cadence软件包中的另外一款用于数模仿真,射频、模拟和数字单元设计的定制平台。主要功能:1.绘制版图2.Verilog or VHDL代码编写器
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Virtuoso 软件的简介及使用
进入要启动软件的目录 cd fsk_modulator( 自己起的名字 )
source /opt/demo/cdsmmsim7_cal11.env icfb&
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创建新版图 版图布局
基本单元摆放尺寸定义子模块位置整体布局
版图布线 基本单元连线及各模块之间连线
模拟版图设计步骤
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1. 建立新版图 创建 FSK 模拟调制器版图
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图层选择窗口 LSW(Layer Selection Window)
版图编辑窗口 VLE(Virtuoso Layout Editing)
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创建 FSK 模拟调制器版图
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Layout Editor 菜单( 1 )
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Layout Editor 菜单( 2 )
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创建 FSK 模拟调制器版图修改显示层次关系
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添加元器件版图
创建 FSK 模拟调制器版图
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修改元器件参数( MOS
宽长)
左键选中器件摁小写 q
创建 FSK 模拟调制器版图
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修改元器件参数( 电阻阻值)
左键选中器件摁小写 q
创建 FSK 模拟调制器版图
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使用 Layout XL 调用元件
创建 FSK 模拟调制器版图
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使用 Layout XL 调用元件
创建 FSK 模拟调制器版图
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创建 FSK 模拟调制器版图
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创建 FSK 模拟调制器版图
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连线
快捷键小写 p.
单机拐弯双击结束
创建 FSK 模拟调制器版图
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Contact 引线孔 / 接触孔 CT: M1-AA
M1-GT
M1-NW
M1-SN
M1-SP
M1-SUB
创建 FSK 模拟调制器版图
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Via 通孔 V1: M2-M1
V2: M3-M2
V3: M4-M3
V4: M5-M4
V5: M6-M5
TV2: TM2-M6
创建 FSK 模拟调制器版图
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Via 属性修改
选中后 摁小写 q
创建 FSK 模拟调制器版图
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添加版图 Label
创建 FSK 模拟调制器版图
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创建 FSK 模拟调制器版图
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创建 FSK 模拟调制器版图
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创建 FSK 模拟调制器版图
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创建 FSK 模拟调制器版图
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Virtuoso 下的快捷键的使用( 1 ) Ctrl + A 全选 Shift+X ,进入子模块 Shift + B Return ,升到上一级视图 Ctrl + C 中断某个命令,一般用
ESC 代替。 Shift + C 裁切( chop )。 C 复制,复制某个图形 Ctrl + D 取消选择。亦可点击空白
处实现。 Ctrl + F 显示上层等级 Shift + F 显示所有等级 F fit ,显示你画的所有图形 K 标尺工具 Shift + K 清除所有标尺 L 标签工具
M 移动工具 Shift + M 合并工具, Merge N 斜 45 对角+正交。 Shift + O 旋转工具。 Rotate O 插入接触孔。 Ctrl + P 插入引脚。 Pin Shift + P 多边形工具。 Polygon P 插入 Path (路径) Q 图形对象属性(选中一个图形
先) R 矩形工具。绘制矩形图形 S 拉伸工具。可以拉伸一个边,也可
以选择要拉伸的组一起拉伸 U 撤销。 Undo 。 Shift + U 重复。 Redo 。撤销后反
悔
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Virtuoso 下的快捷键的使用( 2 ) V 关联 attach 。将一个子图形
( child )关联到一个父图形( parent )后,若移动parent , child 也跟着移动;移动child , parent 不会移动。
Ctrl + W 关闭窗口。 Shift + W 下一个视图。 W 前一个视图。 Y 区域复制 Yank 。和 copy 有区别,
copy 只能复制完整图形对象。 Shift + Y 黏贴 Paste 。配合 Yank
使用。 Ctrl + Z 视图放大两倍(也可点住
鼠标右键拖动) Shift + Z 视图缩小两倍 Z 视图放大
ESC 键 撤销命令 Tab 键 平移视图 Pan 。按 Tab ,用
鼠标点击视图区中某点,视图就会移至以该点为中心。
Delete 键 删除 BackSpace 键 撤销上一点。这就不
用因为 Path 一点画错而删除重画。可以撤销上一点。
Enter 键 确定一个图形最后一点。也可以双击鼠标左键。
Ctrl +方向键 移动 Cell 。 Shift +方向键 移动鼠标。 方向键 移动视图。
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三、设计规则检查— DRC : Design Rule Check
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DRC 基本概念DRC 是为了保证版图满足流片厂的设计规则。
模拟版图和自动布局布线工具产生版图都需要进行 DRC 。
DRC 流程
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Design Rule 的简介
检查版图设计与工艺规则的一致性 基本设计规则包括各层的宽度、间距及不同层次之间的间距、包含关系等
Design Rule 的规定是基于工艺的变化而变化的 在特殊的设计需求下, Design rule 允许部分的弹
性。但是设计人员需掌握违背了 rule 对电路的影响
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DRC 中常见术语
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DRC 工具简介
Mentor Calibre Cadence Dracula Synopsys Hercules
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Calibre DRC 流程 1.DRC文件准备 2.启动软件 3. 打开版图 4.Calibre 设置 5.Check 6. 查看结果 7.修改保存再进行第 5 步,直到没有错误(密度错误除外)
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DRC文件准备去流片厂网站下载最新版本 DRC文件 SmicDR2R_cal40_log_ll_sali_p1mx_2tm_1
21825.drc
路径 /home/pdk/smic40llrf_1125_2tm_cds_1P8M_2013_07_05_v1.4.1/Calibre/DRC
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软件启动
与启动 Cadence 软件一样 进入要启动软件的目录 cd fsk (自己起的名字 ) source /opt/demo/cdsmmsim7_cal11.env icfb&
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打开版图
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注意: ppt 中部分操作步骤是通过动画展示的,请用放映模式观
看。
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启动 Calibre 并设置 1/2
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启动 Calibre 并设置 1/2
/home/pdk/smic40llrf_1125_2tm_cds_1P8M_2013_07_05_v1.4.1/
Calibre/DRC
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启动 Calibre 并设置 1/2
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启动 Calibre 并设置 1/2
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启动 Calibre 并设置 1/2
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RUN
DRC
启动 Calibre 并设置 2/2
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结果查看绿色对号表示此项检查通过红色叉号表示此项检查有误
错误情况说明
双击上图数字,可以进行错误定位
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只显示出错项目
去掉次复选框
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四、 演示
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THANK YOU!
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