25
- A professional LED chips company you c an trust I漬y N g lS Epileds Technologi es, Inc. EPILEDS " v IN u墻N W ,S " InGaN LED fv m " v IN u墻v U昏R a u( i cN-

EPILEDS QI™—yÑb••¡Nýg ŒPQlSł · _bb UfifvSJ\ ıÔ\d}Pi¸NK’Nz Wœg Substrate x˚fvrGEpi-Wafer MOCVD EPITAXY EPILEDS. EPILEDS MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)

  • Upload
    buibao

  • View
    216

  • Download
    0

Embed Size (px)

Citation preview

- A professional LED chips company you can trust

光鋐科技股份有限公司Epileds Technologi es, Inc.EPILEDS

•發光二極體之基本原理•InGaN LED 晶粒製造流程•發光二極體發展趨勢與應用

楊正中

EPILEDSEPILEDS

發光二極體之基本原理

EPILEDSEPILEDS

發光

什麼是發光二極體

-發光二極體(LED, Light Emitting Diode):一種可將電能轉換成光的二極體元件A Light Emitting Diode (LED) semiconductor device w hich converts electricity to light

-二極體(Diode): 由p型與n型半導體相結合,形成p-n接面(junction)所組成之半導體元件

-p(n)型半導體(p-n-type semiconductor):藉由雜質元素攙雜而產生多餘自由電子或電洞,進而改變原有光電特性之半導體

-半導體(Semiconductor):導電性介乎導體與絕緣體間之元素或化合物,一般而言光電半導體是由週期表上III族與V族元素形成之化合物為主,因此又可稱之為“III-V族化合物半導體”

EPILEDSEPILEDS 發光二極體的基本原理

EPILEDSEPILEDS I/V Curve for LED Diode

+V

donor

Ec

Ec

Ev

Ev

Conduction Band

Valence Band

Light emitting

-V

Band Diagram

acceptor

EPILEDSEPILEDS 發光二極體的元素組成

EPILEDSEPILEDSForward Voltage vs. BandgapEnergy

EPILEDSEPILEDS 發光二極體的分類(可見光)

EPILEDSEPILEDS能隙(發光波長)-晶格關係圖

EPILEDSEPILEDS

發光二極體之光電特性名詞

EPILEDSEPILEDS發光二極體發光二極體II--V V 曲線與相關名詞定義曲線與相關名詞定義

I-V Curve of LED

-10

0

10

20

30

40

50

-15 -10 -5 0 5 10

Voltage (V)

Cur

rent

(m

A) Ir@-5V=0.5uA

Vr@-10uA=9.5V Vin@10uA=2.4V

VF@20mA=3.1V

Rs@5-50mA=30 ohm

EPILEDSEPILEDS

0

0.2

0.4

0.6

0.8

1

1.2

350 400 450 500 550 600 650 700 750

NO.1

NO.2

Lot No. : Lot No Lot No. : Lot No

Comment : NO.1 Comment : NO.2

Date : 2007/5/30 下午 02:01:31 Date : 2007/5/30 下午 02:02:31

Iop (mA) : 350.0 Iop (mA) : 350.0

λd (nm) : 478.0 λd (nm) : 476.7

λp (nm) : 453.6 λp (nm) : 451.7

λ (nm) : 19.8 λ (nm) : 19.8

CIE-x : 0.30634 CIE-x : 0.30459

CIE-y : 0.30645 CIE-y : 0.30284

CIE-u : 0.20205 CIE-u : 0.20222

CIE-v : 0.30318 CIE-v : 0.30159

Purity : 0.117 Purity : 0.127

Tc(K) : 7137 Tc(K) : 7324

發光二極體頻譜發光二極體頻譜(SPECTRUM)(SPECTRUM)與相關名詞定義與相關名詞定義

EPILEDSEPILEDS光的三原色 : RGB (Red , Green , Blue)

EPILEDSEPILEDS發光二極體之波長量測與計算發光二極體之波長量測與計算 –– WLD WLD 與與 PurityPurity

EPILEDSEPILEDS

物理量 符號 定義 單位

輻射通量Radiant flux Φe ∫ Φeλ(λ)dλ

瓦特(watt;W)

輻射能量Radiant energy Qe ∫∆t Φe dt 焦耳

(joule;J=W*S)

輻射強度Radiant intensity Ie dΦe/dΩ 瓦特/球面度

(W/sr)

輻射亮度Radiance Le dΦe/dΩdAcosθ 瓦特/米平方*球面度

(W/m2*sr)

輻射出射度Radiant exitance Me dΦe/dA 瓦特/米平方

(W/ m2)

輻射照度Irradiance Ee dΦe/dA 瓦特/米平方

(W/ m2)

輻射度量學輻射度量學(Radiometry)(Radiometry)之物理量及其單位之物理量及其單位,,定義與符號定義與符號

EPILEDSEPILEDS

物理量 符號 定義 單位

光通量Luminous flux Φv Km∫780nm380

nmΦeλ(λ)dλ*流明

(lumen ; lm)

光能量Luminous energy

Qv∫∆t Φv dt 流明秒

(lm*sec)

光強度Luminous intensity Iv dΦv/dΩ** 燭光(流明/球面度)

(candela ; cd ; lm/sr)

光亮度(輝度)LuminanceBrightness

Lv dΦv/dΩdAcosθ 尼特 ; 燭光/米平方流明/米平方*球面度

(nt ; cd/m2 ; lm/m2*sr)光出射度

Luminous exitance Mv dΦv/dA 勒克斯 ; 流明/米平方(lux ; lx ; lm/m2)

(光)照度Illuminance Ev dΦv/dA 勒克斯 ; 流明/米平方

(lux ; lx ; lm/m2)

光度量學光度量學(Photometry)(Photometry)之物理量及其單位之物理量及其單位,,定義與符號定義與符號

EPILEDSEPILEDS

發光二極體光強度量測則定義為光強度(Luminous Intensity,cd)≡單位立體角(Solid Angle,Ω)之光通量(Luminous Flux,lm)輻射強度量測定義為輻射強度(Radiant Intensity,W/sr)≡單位立體角之輻射通量(Radiant Flux,W),單位為單位立體角之瓦特數(W/sr)

光強度與輻射強度量測原理則為設光偵測器面積=A,光通量=Φ,偵測器與光源距離=D,定義光強度=Φ/(A/D2)。照度(Illumince,lux)=Φ/A(單位為lux)

r

光源(Source) 立體角偵測面積 A(Detector Area,A)

偵測器與光源距離,D

光強度之量測原理光強度之量測原理

EPILEDSEPILEDS光通量之量測原理光通量之量測原理

發光二極體光通量與輻射通量量測定義為光通量≡輻射通量以人眼視效函數修正值,單位為流明(lm)輻射通量≡以輻射形式發射傳輸的功率,單位為瓦特(W)

積分球量測原理及方法:

r

A

EPILEDSEPILEDS

InGaNLED 晶粒製造流程

EPILEDSEPILEDSTYPE :ER- B1212E (for Blue)

InGaNLED Chip 外觀

P-bonding pad

N-bonding pad

Mesa(Emitting Area)

12mil

12mil

EPILEDSEPILEDS

EPI-WAFER(MOCVD)

FAB PROCESS-Anneal-Photolithograph y-Metallization-Dry & Wet etching-Visual Inspection

1% Wafer Probing

Test

Lapping &Polishing

Scribing &Breaking

Chip Sorting100% Chip

ProbingTest

VisualInspection

Counting &Package

OQC &Delivery

磊晶 晶片製程 晶片測試 研磨拋光

切割劈裂

晶粒測試晶粒分類外觀檢查計數包裝出貨檢查

InGaNLED Chip 生產流程

QA Testing

品質測試

EPILEDSEPILEDS 磊晶 (EPITAXY)

於單結晶基板上, 藉由原子有次序之排列與堆積,形成單晶半導體層結構之過程

基板 Substrate 磊晶片 Epi-Wafer

MOCVD EPITAXY

EPILEDS

EPILEDSEPILEDSMOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition)

有機金屬化學氣相沉積利用有機金屬氣相反應,進行磊晶製程之技術

EPILEDSEPILEDSMOCVD技術--磊晶成長理論

GaN+CH4+H2