インターオプト 2011 特集 オプトニューズ Vol.6, No.3 (2011)

ご 案 内ご 案 内

インターオプト2011特集 － テクノロジーが切り開く、光の可能性－

会期: 2011 年9 月28 日（水）～30 日（金）10:00～17:00

会場: パシフィコ横浜 展示ホールC･D

（神奈川県横浜市 http://www.pacifico.co.jp/visitor/accessmap.html ）

インターオプト2011 (International Optoelectronics Exhibition2011)を「テクノロジーが切り開く、光の可

能性」をテーマとして2011 年9 月28 日（水）～9 月30 日（金）、横浜市みなとみらい地区のパシフィコ

横浜にて開催する。 当協会が主催し、経済産業省、独立行政法人 日本貿易振興機構、公益財団法人日本科学技術振興財団、

財団法人 対日貿易投資交流促進協会、米国大使館 商務部、英国大使館 商務部、スイス大使館、フランス大

使館経済部、在日ドイツ商工会議所の後援（以上予定順不同）、公益社団法人応用物理学会、社団法人 電気

学会、社団法人 電子情報通信学会、公益社団法人 計測自動制御学会、公益社団法人 精密工学会、一般社団

法人 電子情報技術産業協会、社団法人 日本電線工業会、一般社団法人 情報通信ネットワーク産業協会、一

般社団法人日本電機工業会、レーザ加工学会、レーザ協会、レーザー輸入振興協会、Optical Society of America（OSA: 米）、SPIE（米）、（以上予定順不同）の協賛を得て開催する。 インターオプトは、国内・国外のレーザ、フォトニクス、光デバイス製品が一同に集まる光産業の国際技

術展示会として、出展分野はレーザ／光源、光素子／部品、材料、光機器／装置、光産業関連、サービス／

ソフトウエアと広範囲にわたり、出展品目も光関連材料から光応用システムまで幅広い技術が展示される。

国内の企業・団体等はもとより、国外からも出展があり、商社内出展を含めると、北米、欧州、アジア等か

ら国外企業の出展が予定され、光の広い範囲にわたる技術・情報の交流が期待されるとともに、光の最先端

の製品・開発状況を総合的に眺めることができる。 展示会場内では、9 月28、29 日の2 日間「注目される光技術セミナー」が、9 月28 日～30日の3日間は

「出展社セミナー」が開催される。一方、2階のアネックスホールでは9 月28 日に「特別講演および光産業

動向セミナー」が、9 月29 日には「特別講演および光技術動向セミナー」が、開催される。 また同展示場にて光産業に関連する展示会として、株式会社ICS コンベンションデザイン主催によるLED

JAPAN 2011 およびBioOpto Japan 2011（両展とも展示&カンファレンス）、さらに本年から、LaserTech 2011がスタートし、光関連の4展示会同時開催となり、集中した情報収集が期待できる。 なお、「特別講演および光産業動向セミナー」、「特別講演および光技術動向セミナー」の参加費は、本

年は、一般財団法人光産業技術振興協会賛助会員、学校、公的機関、報道関係者は無料、一般参加者は¥5,000／日（消費税・資料代¥1,000 含む）となる。

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インターオプト会場平面図（パシフィコ横浜 展示ホール C･D）

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出展社リスト *＝共同出展社

小間

番号 会社名

小間

番号会社名

I-01 オーテックス株式会社 I-46 *オグラ金属株式会社

I-02 エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社 I-46 *桑名商事株式会社

I-03 財団法人浜松地域テクノポリス推進機構 I-46 *株式会社京葉サンビーム

I-04 株式会社インデコ I-46 *シグマサイバーテック株式会社

I-05 株式会社オプトサイエンス I-46 *株式会社大正光学

Ｉ-06 独立行政法人産業技術総合研究所 I-46 *株式会社メックス

Ｉ-07 Optical Society of America I-47 学校法人光産業創成大学院大学

Ｉ-07 独立行政法人産業技術総合研究所 ナノシステム研究部門 I-48 ケイエルブイ株式会社

I-08 株式会社クレステック I-49 株式会社工業通信

I-09 スペクトラフィジックス株式会社 I-50 財団法人光科学技術研究振興財団

I-10 株式会社ニコン I-54 株式会社アイセイ

I-12 株式会社ルクスレイ I-59 浜松ホトニクス株式会社

I-13 株式会社日本レーザー I-63 株式会社東亜理化学研究所

Ｉ-14 株式会社インコム I-66 技術研究組合光電子融合基盤技術研究所

I-15 INO I-67 株式会社ルミネックス

Ｉ-16 株式会社オプトロニクス社 I-68 丸文株式会社

I-17 中原鉄工株式会社 I-69 アドコム・メディア株式会社

I-18 JFE 商事エレクトロニクス株式会社 I-70 メレスグリオ株式会社

I-21 LED EXPO & OLED EXPO 2012 I-71 イエナオプティック ジャパン株式会社

I-24 千歳科学技術大学 I-71 カンタムエレクトロニクス株式会社

I-24 フォトニックサイエンステクノロジ株式会社 I-72 nano tech 2012

I-24 北海道千歳市 I-73 フォトンリサーチ株式会社

I-24 ホトニクスワールドコンソーシアム I-77 株式会社オプトライン

Ｉ-25 サンインスツルメント株式会社 I-79 ソーラボジャパン株式会社

I-26 昭和オプトロニクス株式会社 I-81 プネウム株式会社

I-27 2012 オプト台湾 I-84 一般財団法人光産業技術振興協会

I-29 株式会社ティー・イー・エム I-85 スペクトロニクス株式会社

I-31 株式会社オーディオテクニカ I-86 ナルックス株式会社

I-32 住友電気工業株式会社 I-87 SCIVAX 株式会社

I-33 SPIE I-88 パルステック工業株式会社

I-35 プレサイスゲージ株式会社 I-89 ハイテク情報サービス株式会社

I-36 株式会社ニデック I-90 ブレインビジョン株式会社

I-38 Laser Focus World Japan I-91 株式会社渡辺製作所

I-39 住友大阪セメント株式会社 I-92 株式会社東洋精機製作所

I-40 CIEC Overseas Exhibition Co., Ltd. I-93 株式会社トリマティス

I-46 とちぎ光産業振興協議会 I-94 株式会社大光デンシ

I-46 *国立大学法人宇都宮大学 I-95 株式会社オプトデザイン

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光産業動向／光技術動向セミナー 会場図

■光産業動向セミナー・光技術動向セミナー

9 月 28 日に光産業動向セミナー、9 月 29 日に光技術動向セミナーの順に展示ホールに隣接するアネック

スホールにて開催する。講師には学会、産業界の第一線で活躍中の方々をお招きし、毎年好評を得ている。 事前登録制（http://www.optojapan.jp/interopto/oitda_seminar.html）参加費は、一般財団法人光産業技

術振興協会賛助会員、学校、公的機関、報道関係者は無料、一般参加者は¥5,000／日（消費税･資料代¥1,000含む）となる。 (1) 光産業動向セミナー 今年は、株式会社 日経 BP、加藤氏の「スマートフォン・タブレット端末の利用

動向」の特別講演と、我が国の光産業の生産額･出荷額、産業構造等とともに、光産業各分野（情報記録、情

報通信、入出力、レーザ加工、太陽電池、ディスプレイ･固体照明、センシング･計測）の最新動向が講演さ

れる。

(2) 光技術動向セミナー 今年は、慶応義塾大学、小池教授の「Face-to-Face コミュニケーションへ向けて

のフォトニクスポリマーの最前線」の特別講演と、光技術各分野（光材料･デバイス、光メモリ･情報処理、

太陽光発電、ディスプレイ、光通信ネットワーク、加工･計測、ヒューマンインタフェース）が講演される。

パシフィコ横浜

アネックスホール F201,202

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光産業動向セミナー 会場: パシフィコ横浜アネックスホール F201,202 号室

特別講演 9月28日（水） 12:30～13:30

スマートフォン・タブレット端末の

サービス及びユーザ利用状況の動向

加藤 雅浩

株式会社 日経BP 日経NETWORK

兼日経ｺﾐｭﾆｹｰｼｮﾝ 副編集長

概 要: iPhone/iPad に代表されるスマートフォン／タブレット端末の品ぞろえが豊富になり、利用の形態がコン

シューマーからエンタープライズへと多様化する一方で、ウイルス感染などセキュリティの問題も露見している。

本講演ではモバイルの世界を大きく変えたスマートフォン／タブレット端末に関する七つのトレンドを解説する。

光産業動向セミナー 2011 年 9 月 28 日（水） 10:30～10:35 「主催者挨拶」

小谷 泰久 一般財団法人光産業技術振興協会

専務理事

10:35～11:05 光産業全体の最新動向

（財）光産業技術振興協会の平成22年度の光産業の調査結果を

もとに、日本の光産業全体の最新動向について報告する。また毎

年開催されている光関連団体国際会議（IOA ：International

Optoelectronics Association)における各国の報告による、世界の

光産業の最新動向および今後の動向についても報告する。

石田 宏司 千歳科学技術大学大学院

光科学研究科長

11:05～11:35 入出力分野の最新動向

入出力機器全体の市場動向と生産動向を俯瞰するとともに、光学

式プリンタ、光学式MFP、画像入力装置（スキャナ）、デジタルカメ

ラ、デジタルビデオカメラ、カメラ付き携帯電話など個別機器の市

場・製品動向に着目し、特に特徴的な事象を取り上げ今後を展望

する。

守屋 光紳 キヤノン株式会社

周辺機器事業本部

周辺機器事業企画ｾﾝﾀｰ

周辺機器第二事業企画部 副部長

12:30～13:30 特別講演「スマートフォン・タブレット端末の

サービス及びユーザ利用状況の動向」

加藤 雅浩 株式会社 日経 BP

13:45～14:15 光通信分野の最新動向 社会のブロードバンド化の進展に伴って様々な情報系サービス

が成長しつつあり、それを支える技術開発も活発である。景気後

退を超えて、現在は５千億円規模の通信分野であるが成長は底

堅いとみて良い。ハードウェア分野では新興国への輸出や新興

国製品との競争が課題となってきている。

山林 由明 千歳科学技術大学

グローバルシステムデザイン学科

教授

14:15～14:45 ディスプレイ・固体照明分野の最新動向

2010年度ディスプレイ装置の国内生産額見込みは1兆4,616億円

(前年度比18.2%増)、ディスプレイ素子は1兆7,418億円(同2.4%増)、

個体照明器具・装置は819億円(同142.1%増)である。ディスプレイ

装置は単価の低減が進むが、エコポイントにより数量は大きく増

加している。個体照明は大手メーカーが電球型LEDランプに尽力。

御子柴 茂生 電気通信大学

名誉教授

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14:45～15:15 センシング・計測分野の最新動向 光計測器、光センシング機器分野は、2009 年度もマイナス成長で

あったが、2010 年度以降にはプラス成長に転じると見込まれてい

る。光通信ネットワークの拡充や新しいデバイス開発への投資も

徐々に回復しつつある。また、安心、安全、環境分野へのセンシン

グ機器の成長も期待される。

伊藤 雅英 筑波大学

数理物質科学研究科

電子物理工学専攻 教授

15:15～15:45 レーザ加工分野の最新動向

レーザ加工分野では材料加工と医療応用に分類し、国内生産額

の推移、分野別シェア、技術動向の調査を行なった。全体の生産

額は2009年度まで2年連続大幅減であったが、2010年度はV字回

復を果たした。2011年度もさらなる回復が予想されたが、震災の

影響により大幅減の可能性もある。講演ではレーザ加工の最新

の話題もレーザ種別に紹介する。

杉岡 幸次 独立行政法人 理化学研究所

基幹研究所

緑川ﾚｰｻﾞｰ物理工学研究室

専任研究員

15:45～16:15 太陽光発電分野の最新動向 太陽光発電システムの導入拡大が、ヨーロッパを中心に世界的に

進展している。2010 年の世界導入量は、対前年比で倍増となる

16.6GW を記録し、年間導入量は 1000 万 kW を超えるレベルに達

している。このように、急成長を始めた世界の太陽光発電システ

ムをめぐる最新動向として、施策、導入、生産、市場、産業、技術

の視点から紹介し、今後を展望する

一木 修 株式会社資源総合システム

代表取締役社長

16:15～16:45 光メモリ分野の最新動向 光ディスクを中心とした情報記録媒体及び記録再生装置の国内

生産・市場動向に関して、光産業動向情報記録調査専門委員会

での調査・解析結果を報告する。

また今後の市場拡大には、光ディスクの特徴をフルに活かしたア

ーカイブ用光ディスクストレージの開発・製品化が重要であること

を説明する。

吉田 秀実 株式会社 三菱化学科学技術研究

センター

常任監査役

光技術動向セミナー 会場: パシフィコ横浜アネックスホール F201,202 号室 特別講演 9 月 29 日（木） 14:15～15:15

Face-to-Faceコミュニケーションへ

向けてのフォトニクスポリマーの最前線

小池 康博 慶應義塾大学 ﾌｫﾄﾆｸｽ・ﾘｻｰﾁ・ ｲﾝｽﾃｨﾃｭｰﾄ 所長

概 要: インターネットは、世の中を大きく変えた。しかし、未だ小画面とキーボードから抜け出せない「人が技

術に合わせなくてはならない社会」であるように思われる。臨場感あふれる Face-to-Face コミュニケーション実

現のためには、従来のエレクトロニクスの延長ではない、物質の本質に迫る機能から達成されたフォトニクスイ

ノベーションが不可欠である。本講演では、超高速屈折率分布型プラスチック光ファイバー、および光散乱導光

ポリマー、ゼロ複屈折ポリマーによる高精細・大画面ディスプレイに代表されるフォトニクスポリマーの最前線を

紹介する。

(謝辞) 本研究は、総合科学技術会議により制度設計された最先端研究開発支援プログラムにより日本学術振興会を通して助

成されたものである。 光技術動向セミナー 2011 年 9 月 29 日（木）

10:30～10:35

「主催者挨拶」

小谷 泰久

一般財団法人光産業技術振興協会

専務理事

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10:35～11:05

光材料・デバイスの最新動向

テラヘルツ・中赤外域、光通信用の近赤外域、可視・紫外域におけ

る光デバイスやモジュールの進展（高感度化、高速化、高出力化な

ど）を報告する。さらに新しいアプリケーション、デバイス構造、作製

技術などについても紹介する。

土屋 朋信

株式会社 日立製作所

中央研究所

ナノエレクトロニクス研究部

主任研究員

11:05～11:35 ディスプレイの最新動向

携帯からTV までを席巻するLCD、大型テレビで競合するPDP、TV

に参入を始めたOLED、実用化の始まった電子ペーパー、立体な

ど各技術を取り上げるとともに、メディアを巻き込んで立ち上がり

始めているメガネ式3D TV、 携帯電話にも搭載可能なマイクロプ

ロジェクター、動画表示や消費電力などディスプレイの技術動向を

報告する。

打土井 正孝

パナソニック株式会社

AVCﾈｯﾄﾜｰｸｽ社 技術統括ｾﾝﾀｰ

AVCﾃﾞﾊﾞｲｽ開発ｾﾝﾀｰ

ﾃﾞﾊﾞｲｽ第三開発ｸﾞﾙｰﾌﾟ 参事

11:35～12:05 太陽光発電の最新技術動向

太陽光発電の最新技術動向について結晶シリコン、薄膜系、有機

系、次世代型など技術別に概観する。同時に評価技術についても

紹介する。諸外国の動向について特にアジア諸国の動向について

も紹介する。

近藤 道雄

独立行政法人産業技術総合研究所

太陽光発電工学研究ｾﾝﾀｰ ｾﾝﾀｰ長

12:05～12:35 加工・計測の最新動向

2010年度に第6 分科会（加工・計測）で調査を行った、光源技術：

「高輝度半導体レーザ」、「国内のファイバーレーザ」、加工技術：

「Si基板穴あけ」、「CFRP加工」、「サファイア基板加工」、計測技

術：「X線CT」、「中性子ラジオグラフィ」に関する報告を行う。

藤田 雅之

大阪大学

ﾚｰｻﾞｰｴﾈﾙｷﾞｰ学研究ｾﾝﾀｰ

招へい教授

財団法人ﾚｰｻﾞｰ技術総合研究所

ﾚｰｻﾞｰ加工計測研究ﾁｰﾑ

主席研究員

13:45～14:15 光メモリ・情報処理の最新動向

今年度は、光ディスクメモリ技術の最新技術動向調査として、大容

量記録化技術に関する「光ディスクメディア」とドライブ等の周辺技術

に関する「光ディスクドライブ」の 2 つに分類した。着実に進歩してい

る多層化光ディスク技術に加え、ホログラフィックメモリでの位相情

報利用など大容量化に向けた技術を紹介する。更に、光技術とデジ

タル画像技術、GPU 等の高速計算技術を融合した光情報処理技術

の動向についても報告する。

的場 修

神戸大学

大学院 システム情報学研究科

システム科学専攻 教授

14:15～15:15 特別講演「Face-to-Face コミュニケーションへ

向けてのフォトニクスポリマーの最前線」小池 康博

15:15～15:45 光通信ネットワークの最新動向

1 波長 100G が実用化される「基幹伝送システム」、光帯域の弾性

化に挑む「フォトニックノード」、省電力アダプティブな「光ネットワー

キング」、10G トランシーバが出揃う「アクセスネットワーク」、

100GE 第二世代を標準化する「光 LAN/インターコネクト」、光コネ

クタ技術を含む「光ファイバ」などの最新技術動向を紹介する。

石田 修

日本電信電話株式会社

NTT未来ねっと研究所

ﾌｫﾄﾆｯｸﾄﾗﾝｽﾎﾟｰﾄﾈｯﾄﾜｰｸ部

グループリーダー

15:45～16:15 光技術応用ヒューマンインタフェースの最新動向

光技術をベースとしたヒューマンインタフェース技術（主に入出力

技術）のうち、イメージセンサ、デジタルカメラ光学系などのデバイ

ス技術、ITS（自動走行システム）、バイオメトリクス応用、在宅安

全・安心、ユビキタスインタラクション、ブレインマシンインタフェー

ス (Brain Machine Interface; BMI)などの最新動向を報告する。

宮下 隆明

株式会社リコー

ｸﾞﾙｰﾌﾟ技術開発本部

ｸﾞﾙｰﾌﾟ技術企画室 ｼﾆｱｽﾍﾟｼｬﾘｽﾄ

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■注目される光技術展示・注目される光技術セミナー

光技術の最新情報が集まる当協会の強みを生かし、萌芽的技術をいち早く発掘・紹介することを目的に、

毎年「注目される光技術展示」と「注目される光技術セミナー」を開催している。これらは、当協会 光技術

動向調査委員会から推薦された機関、当協会の「光技術応用機器、装置、システムの開発プロジェクト」に

おいて開発を委託し、昨年度開発を終了した企業、中小企業を対象にした出展支援事業により公募の中から

選出した企業等、各分野で注目されている企業・研究機関の技術にスポットを当て、今後新たな光産業を牽

引すると期待される技術を展示とセミナーの両面から紹介する。（一部展示のみ）

注目される光技術展示出展者リスト

小間 番号 出展社名 出展技術（出展名） セミナー

I-87 SCIVAX 株式会社 SCIVAX のナノインプリント量産技術 あり

I-95 株式会社オプトデザイン LED 直下型フラットパネル 「UniBrite」 あり

I-85 スペクトロニクス株式会社 超小型 Q スイッチ固体グリーンレーザ －

I-93 株式会社トリマティス 光高速制御技術で未来を拓く あり

I-86 ナルックス株式会社 サブ波長構造による構造性複屈折を利用した二波長光 ホログラムシステム あり

I-91 株式会社渡辺製作所 DWPR 多元多点光ファイバセンシングシステム あり

I-89 ハイテク情報サービス株式会社 ハイテク・クッション あり

I-94 株式会社大光デンシ ＬＥＤ製品と銀反射シート －

I-92 株式会社東洋精機製作所 レーザ光による非接触計測機 あり

I-88 パルステック工業株式会社 光を用いた微細加工・欠陥検査技術 あり

I-90 ブレインビジョン株式会社 超高速応用光計測 －

【I-87】SCIVAX 株式会社 SCIVAX（サイヴァクス）株式会社はナノインプリント製品を製造販売する唯一のナノインプリント装置

メーカです。自社製品製造で培った製造ノウハウを活かし、以下のサービスを展開しております。 ・インプリント試作加工サービス

・インプリント量産受託製造

・インプリント装置製造・販売

・インプリント製造ライン設計・製造・販売

・インプリント用モールド製造・販売

今回の展示では、インプリント加工を施した光学フィルムサンプル展示およびレンズ曲面へのインプリン

ト加工事例等をご紹介いたします。

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大面積一括インプリントフィルム （φ200 nm ピラーパターン）

レンズアレーフィルム （半球レンズアレー 曲率半径25 μm、ピッチ50 μm）

【I-95】株式会社 オプトデザイン

UniBrite（ユニブライト）は LED の点発光を面発光に変換することを実現した直下型 LED フラット照

明です。高輝度 LED を利用し蛍光灯器具と同等の明るさを実現、しかもグレア問題を解消した直下型 LED照明器具です。従来、グレア、ホットスポットに悩まされていた高輝度 LED の光を弊社開発のフラッター

構造を用いることにより著しく改善しました。その結果、従来の LED 照明では実現できなかった明るさ、

均一度、熱問題、消費電力など多くの問題を解決した唯一の直下型 LED 照明を実現し販売を開始しており

ます。ベース照明にも対応できるような、高輝度 LED を用いる面発光は、重要視されつつも実現が困難な

技術でした。しかし、弊社が開発した新技術によって UniBright は蛍光灯と同等の明るさの面発光を実現し

ています。

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【I-85】スペクトロニクス株式会社 完全空冷の超小型グリーンレーザ (3 W)を中心にご紹介します。スペクトロニクスは 2004 年 4 月に大阪

高槻市で創業、現在社員数 25 名の若い会社です。これまで大企業からの受託開発等を中心に成長して参り

ました。 昨年製品化したのが今回ご紹介する 3 W 超小型グリーンレーザです。本装置は「関西フロントランナー大

賞 2010」を受賞するなど高い評価をいただいております。また今回は同シリーズの 6 W、10 W 機、1.5 Wの UV レーザなどもあわせてご紹介いたします。 主な出展予定品目

・産業用超小型グリーンレーザ (3 W)

・産業用超小型グリーンレーザ (6 W / 10 W)

・産業用超小型 UV レーザ (1.5 W)

・温度コントロールシステム

・アッテネータ

【I-93】株式会社トリマティス 弊社はこれまで培ってきた光高速制御技術を駆使し、昨年度より、光パケット・バースト信号を出力一定

に増幅する半導体光増幅器の開発を行っています。本展示会では、前記バーストモード半導体増幅器に加え、

光サージを完全に抑圧したベンチトップ型光ファイバ増幅器、サブμsec で応答する高速可変光減衰器、高速

動作多チャンネル入力を備えた近距離用ライダーシステム向けマルチチャンネルスケーラ、パルス幅可変機

能、温調機能、USB-IF 付きパルス LD ドライバ等の弊社開発品を展示致します。 主な出展品目

・バーストモード半導体光増幅器

・サージフリー光ファイバ増幅器

・High-speed VOA

・マルチチャンネルスケーラ

・パルス幅可変 LD ドライバ

産業用超小型グリーンレーザ「LVE-G0300」

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High-speed VOA サージフリー光ファイバ増幅器

【I-86】ナルックス株式会社 弊社では、光学素子や光学モジュールを設計、加工、成形、組立、評価と試作、量産を行う製造メーカで

す。今回の展示では、回折格子構造の一部に複屈折性をもたせることにより、特定波長のみ回折する素子を

紹介させて頂きます。これを利用することにより、DVD/CD の一体型の光学モジュールでは、一方の波長の

み回折する素子が可能となり、より効率的に扱える光学素子となります。 主な出展品目

・二波長偏光ホログラム素子

・LED 照明レンズ

・焦電センサーレンズ

・IR カメラレンズユニット

・吸収膜

二波長偏光ホログラム素子

【I-91】 株式会社 渡辺製作所

当社では擬似ランダム符号相関方式 (PNCR)をコアとして、外乱に強く高精度な新しいファイバセンシ

ングシステムを開発しています。プッシュプルレシオメトリックな検出方式により FBG をはじめ新原理の

BOF センサヘッドを対象に、温度、振動、圧力、変位など多様な物理量を多点同時観測します。 今回は 2 波長擬似ランダム符号相関方式 (DWPR)による BOF 温度センサとバイオエタノールセンサ等

を動展示いたします。 主な出展品目

・デジタルエンジンボード

・光ファイバ式バイオエタノールセンサ,温度センサ

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・2 波長反射比方式 DWPR による多点温度センシングシステム

・時間差 TR 比方式 DTR3 よる FBG 動歪センシングシステム

光ファイバ式バイオエタノール・温度センサ

【I-89】ハイテク情報サービス株式会社 弊社は、お客様と一体となって梱包・緩衝材のデザインに取組む企画開発型企業です。

高い製品保護力をもつフィルム緩衝材「ハイテク・クッション」は、4 つの優位性を備えています。 1. 衝撃・振動から製品を護る強靭なポリウレタンフィルム（国産） 2. 重量物（実績 Max60 kg）を確実に保持する支持体構造 3. 素人でも簡単に組立ができる構造設計 4. 支持体にフィルムを貼る加工技術は熱融着方式を採用

このハイテク・クッションの導入により、①抜群な製品保護を実現、②梱包作業時間・作業負荷の軽減、③

資材コスト・保管コストの削減、④環境負荷 CO2の低減を実現します。 出展内容

1. ポリウレタンフィルムの機能別展示

①弾力性: 人間の重さに耐えられることを実感できます

②柔軟性（追従性）: 空間に対する対応性を見てもらいます

③突き刺し: 突起物でも破れないのを実感できます

④静電防止: 発泡との比較がわかります

⑤透明性: 風船で透明性を見てもらいます

2. アコーディオン・パックの展示

基板サイズの違いに対しフレキシブルに対応可能

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インターオプト 2011 特集 オプトニューズ Vol.6, No.3 (2011)

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【I-94】株式会社 大光デンシ LED 光を使った長距離可視光通信の実機を展示します。災害などで電波を使っての通信ができない場合で

も可視光通信であれば通信が可能であり通信距離は 4,315m の実績がございます。又、可視光通信は LED の光を出すため位置が特定しやすくなります。展示会場では実機を展示し簡単なデモを行う予定でお

りますので可視光通信を体感されたい方は是非お越し下さい。 可視光通信の他にも LED 照明、タブレット PC、銀反射シートの展示を予定しております。 銀反射シートは液晶テレビの反射材として開発し反射率は 98％以上になり数々の実績があります。 シート状なので色々な形状に製作することができるので液晶以外の分野にも注目されてきております。

長距離可視光通信機器 銀反射シート

【I-92】株式会社 東洋精機製作所 当社はこれまでプラスチックス、ゴム、紙、繊維、塗料、インキなどの材料評価試験機の専門メーカーと

して、品質管理から研究開発の分野にわたり広く社会に貢献できる製品の製造・販売に取り組んで参りまし

た。この度、レーザ光を使用した非接触測定技術を応用した製品を開発いたしました。「ナノメータ微小変

位計測システム NS-1」は、埼玉大学大学院理工学研究科門野教授と共同研究により開発いたしました。こ

の装置は光学素子の精度や測定対象による制限を受けない新しい光干渉計測法であり、簡単な光学系でサブ

ナノオーダの微小変位を計測することが可能です。「キュアログラフ H-1」は、材料に温度変化を与えたと

きの乾燥や硬化過程を、非接触かつリアルタイムで計測することが可能です。

ナノメータ微小変位計測システム NS-1 キュアログラフ H-1

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インターオプト 2011 特集 オプトニューズ Vol.6, No.3 (2011)

ご 案 内ご 案 内

【I-88】パルステック工業株式会社 当社の所有する光技術を用い、今までには無かった光計測技術、微細加工技術を提案させていただきます。

カスタム対応が必要な検査・計測装置、微細加工のご要望ございましたら、是非ご相談いただきたくお願い

申し上げます。 主な出展品目

・パイプ・ガラス管など低コスト、ポータブルな非破壊・非接触による厚み計測装置 OCT Scanner

・ウエーハやガラスの表面反射光の独自センシングによるナノうねり計測装置、LUCAS-Nuk

・光ディスクのサーボ技術を利用したウエーハ表面の欠陥、膜厚むら計測装置 Surface Inspector

・ナノメータサイズの露光を高速・大面積に行う事が出来るナノ加工装置 NEO-series

・サブミクロンサイズの加工が施されたシームレスの小型ロール金型

シームレス小型ロール金型

【I-90】 ブレインビジョン株式会社

高出力/高安定 LED 光源、膜電位やカルシウム動態の実時間計測を可能にする低ノイズ・広ダイナミック

レンジ高速イメージング装置、世界トップクラスの明るさを誇る光計測用マクロ蛍光顕微鏡等を中心に展示

します。 昨年より販売を開始した LED 光源は 300～400 mW の高出力でありながら、30 秒間点灯時で 0.1%未満

の輝度変化と高い安定性を誇り、高速撮影時の光源として最適です。 高速イメージング装置は世界中の大学、研究機関、企業等を中心に累計 250 台以上販売され、それらを用

いた数多くの研究論文、学会発表が報告されるようになりました。世界中から寄せられた脳神経組織や心臓

の膜電位イメージングやカルシウムイメージングなどのデータ例もご紹介します。 主な出展品目

・超高速 CMOS イメージング装置

・高速 CCD/CMOS イメージング装置

・光計測用マクロ蛍光顕微鏡

・高出力・高安定 LED 光源

・TOF 方式距離画像カメラ

Dot Size: 450 nm

Pitcth: 800 nm

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インターオプト 2011 特集 オプトニューズ Vol.6, No.3 (2011)

ご 案 内ご 案 内

高出力・高安定 LED 光源 LEX2 高速 CCD イメージング装置 MiCAM02

注目される光技術セミナープログラム

聴講無料 会場: 展示会場内セミナー会場A

セミナータイトル 講師 出展団体名

9 月 28 日（水）

11:10～11:50 サブ波長構造による構造性複屈折を利用した 二波長光ホログラムシステム 岡田 真 ナルックス株式会社

13:10～13:50 レーザ光による非接触計測技術 小林 幸一 株式会社東洋精機製作所

14:00～14:40 DWPR 多元多点光ファイバセンシングシステム 井上 恵一 株式会社渡辺製作所

14:50～15:30 低価格 OCT スキャナと最新光検出技術 池谷 博文 パルステック工業株式会社

9 月 29 日（木）

11:10～11:50 高速制御光増幅技術 佐藤 典彦 株式会社トリマティス

13:10～13:50 SCIVAX のナノインプリント量産技術 田中 覚 SCIVAX 株式会社

14:00～14:40 高輝度 LED を用いた直下型フラット照明技術 末永 展行 株式会社オプトデザイン

14:50～15:30 梱包のトータルコスト削減 高橋 克彦 ハイテク情報サービス株式会社

※本セミナーの事前登録は不要です。直接会場までお越し下さい。

出展社セミナー

聴講無料 会場: 展示会場内セミナー会場

セミナータイトル 出展団体名 会場

9 月 28 日（水）

15:00～15:45 シャックハルトマンセンサーにおける反射波面計測と 光学セッティング オーテックス株式会社 B

16:00～16:45 精密レーザー加工に最強のプラナーステージは なぜ高精度なのか？そのメカニズムと応用について オーテックス株式会社 B

9 月 29 日（木）

15:00～15:45 各種レーザーによる材料加工効率とスループットの改善 スペクトラ・フィジックス株式会社 B

16:00～16:45 Oclaro 社 高出力半導体レーザーとそのアプリケーション スペクトラ・フィジックス株式会社 B 9 月 30 日（金）

10:30～11:15 台湾におけるグリーンエネルギーと光電産業のクラスター

の推進現状 Photonics Industry &Technology Development Association A

※本セミナーの事前登録は不要です。直接会場までお越し下さい。

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