I Equity Research 뉴파워프라즈마 (144960)imgstock.naver.com/upload/research/company/1517797716589.pdf · 2018. 2. 5. · DPS 원 0 130 130 130 130 hyunsoo Analyst 김현수

2018년 IT 중소형 New Power

Initiation

BUY I TP(12M): 53,000원 I CP(2월2일): 30,250원

Key Data Consensus Data

KOSDAQ지수(pt) 899.47 2017 2018

52주최고/최저(원) 31,050/19,900 매출액(십억원) 108.8 140.8

시가총액(십억원) 249.6 영업이익(십억원) 23.7 31.5

시가총액비중(%) 0.08 순이익(십억원) 19.5 25.1

발행주식수(천주) 8,250.3 EPS(원) 2,328 3,042

60일 평균 거래량(천주) 63.4 BPS(원) 14,353 17,133

60일 평균 거래대금(십억원) 1.8

17년 배당금(예상,원) 130 Stock Price

17년 배당수익률(예상,%) 0.50

60

70

80

90

100

110

120

130

140

18

20

22

24

26

28

30

32

17.1 17.4 17.7 17.10 18.1

(천원)뉴파워프라즈마(좌)

상대지수(우)

외국인지분율(%) 9.68

주요주주 지분율(%)

최대규 외 14 인 38.00

이기남 외 1 인 11.09

주가상승률 1M 6M 12M

절대 13.9 8.6 38.1

상대 2.9 (20.6) (5.9)

Financial Data

투자지표 단위 2015 2016 2017F 2018F 2019F

매출액 십억원 50.5 67.4 110.8 159.5 185.3

영업이익 십억원 8.0 12.6 22.8 33.1 42.0

세전이익 십억원 9.5 13.4 23.6 34.2 43.1

순이익 십억원 8.3 11.0 19.3 28.0 35.2

EPS 원 1,359 1,738 2,375 3,391 4,271

증감율 % 60.6 27.9 36.7 42.8 26.0

PER 배 N/A 13.12 10.99 8.92 7.08

PBR 배 N/A 1.85 1.82 1.72 1.39

EV/EBITDA 배 N/A 9.41 6.43 5.41 3.73

ROE % 16.90 14.33 17.72 21.28 21.75

BPS 원 8,762 12,298 14,304 17,566 21,708

DPS 원 0 130 130 130 130

Analyst 김현수

02-3771-7503

[email protected]

NF3 수요 증가에 비례하여 전방 산업 확장

반도체/디스플레이 공정 부품 업체다. 증착 및 식각 공정 후

챔버 內 잔존 부산물 세정용 특수가스(NF3)를 N과F로 분리시

키는 부품(RPG, Remote Plasma Generator)이 주 매출원(매

출 비중 60%)이다. NF3 수요 증가에 따라 RPG 수요 및 동사

실적도 비례해서 증가한다. 특수가스 특성상 NF3 분리 과정에

서 부품을 마모시키기 때문에 교체 수요가 꾸준히 발생하는 것

역시 중요한 투자 포인트다. 향후 성장 모멘텀은 RFG

(Remote Frequency Generator)에 있다. 증착 및 식각 공정

자체가 플라즈마 상태에서 이뤄지기 때문에 플라즈마 상태 유

지를 위해 고주파를 장시간 출력해줘야 하는데 RFG가 그 역

할을 담당한다. 그 동안 메이저 반도체/디스플레이 업체들의

RFG 부품은 해외 공정 부품 업체들이 주로 담당했으나 장비

국산화 비중 확대에 따른 부품 단에서의 국산화 수혜가 전망된

다.

중국향 디스플레이 및 반도체 RFG 시장 진출 기대

2018년 실적은 매출 1,595억원(YoY +44%), 영업이익 331억

원(YoY +45%)으로 가파른 성장이 전망된다. 1) 최대고객사의

2016, 2017년 사상 최대 CAPEX 이후 라인 별 부품 교체 수

요 증가, 2) 중국 OLED 투자에 따른 장비 업체 신규 부품 수

요 증가, 3) 반도체향 RFG 신규 매출이 주요 성장 모멘텀이

다. 메이저 반도체/디스플레이 업체들의 CAPEX 증가로 1차

수혜가 있었다면 2018년에는 기 설치된 부품들의 교체수요와

함께 중국향 장비 신규 설치 매출 및 반도체 향 점유율 확대로

가파른 실적 증가세가 전망된다.

투자의견 BUY, 목표주가 53,000원 제시

2016년 12월 상장 이후 1년간 평균 PER은 13배 수준에서 형

성됐다. 적정 멀티플을 찾아가는 과정에서 장비주로 접근하는

것은 지나친 디스카운트며 공정 부품 업체로 접근할 경우 국내

업체들의 최근 2년 평균 PER은 13.4배 수준이다. 직접적 경

쟁자인 글로벌 업체들의 평균 PER은 17.8배에서 형성돼 있

다. 두 수치를 평균한 15.6배를 2018년 예상 EPS에 적용하여

투자의견 BUY, 목표주가 53,000원으로 커버리지를 개시한다.

2018년 2월 5일 I Equity Research

뉴파워프라즈마 (144960)

mailto:[email protected]

CONTENTS

1. Valuation 3

1) 국내 공정 부품 업체 평균 PER 13.4배 3

2) 글로벌 공정 부품 업체 평균 PER 17.8배 4

3) Target Multiple 15.6 배 5

2. 투자포인트 및 실적 6

1) 투자포인트 : 플라즈마 시장 성장 + 안정적 교체수요 + 반도체 비중 확대 6

2) 실적 : 2018년 영업이익 331억원 YoY +45% 증가 전망 8

3. 주요 제품 9

1) RPG(Remote Plasma Generator) 9

2) RFG(Generator(Radio Frequency Generator) 12

뉴파워프라즈마(144960) Analyst 김현수 02-3771-7503

3

1. Valuation

1) 국내 공정 부품 업체 평균 PER 13.4 배

디스플레이 RPG 시장 점유율 1위,

반도체향 RPG/RFG 점유율 잠식 초

기 단계 감안 업종 내 PER 평균 상단

적용 가능

2010년을 전후로 반도체/디스플레이 장비 국산화가 본격화 된 것과 비교해서 공정 부품 분

야에서는 아직 국내 업체들의 진출이 상대적으로 미미하다. 그 와중에서도 디스플레이 공정

부품 RPG 분야 에서 시장 점유율 1위는 밸류에이션 프리미엄 요인이다.

한편, 국내 반도체/디스플레이 공정 부품 업체들의 최근 2년(2016~2017)간 평균 PER은

13.4배다. 업체마다 해당 시장 내 경쟁 지위에 따라 상이한 멀티플을 적용받고 있다. 뉴파워

프라즈마는 디스플레이 RPG 분야 점유율 1위이며 RFG 시장에서 글로벌 업체들의 점유율

을 잠식해나가는 초입단계라는 점에서 업종 내 멀티플 상단 적용이 가능하다고 판단된다.

표 1. 국내 공정 부품 업체 Valuation Table

Name 와이엠씨 SKC 솔믹스 ISC 리노공업 디엔에프 원익QnC

Nation KR KR KR KR KR KR

단위 KRW KRW KRW KRW KRW KRW

주가(원) 23,150 5,140 18,300 62,400 14,250 14,550

시가총액(백만원) 228,377 316,079 253,818 951,124 153,356 382,490

매출액 2016 122,808 94,482 93,636 112,789 58,222 138,956

(백만원) 2017F 174,000 137,300 116,100 - 75,379 190,700

2018F 228,900 176,600 144,700 - 87,288 227,467

영업이익 2016 10,856 17,342 11,014 39,316 12,089 18,007

(백만원) 2017F 24,300 25,000 30,900 - 14,477 32,800

2018F 28,900 34,600 44,400 - 17,922 41,650

순이익 2016 9,170 -35,619 9,830 35,396 10,436 43,598

(백만원) 2017F 20,000 23,300 22,800 - 14,347 29,000

2018F 25,400 29,100 34,100 - 18,472 35,500

EPS (원) 2016 983 -763 709 2,343 979 1,659

2017F 2,029 378 1,641 - 1,339 1,105

2018F 2,577 473 2,458 - 1,593 1,366

PER (x) 2016 10.8 13.7 22.7 18.5 16.8 5.4

2017F 11.4 13.6 11.2 - 10.6 13.2

2018F 9.0 10.9 7.4 - 8.9 10.7

BPS (원) 2016 5,335 532 10,878 13,299 6,672 5,648

2017F 6,864 927 11,919 - 8,061 6,885

2018F 9,322 1,408 14,213 - 9,786 8,264

PBR (x) 2016 2.0 9.0 1.5 3.3 2.5 1.6

2017F 3.4 5.5 1.5 - 1.8 2.1

2018F 2.5 3.7 1.3 - 1.5 1.8

EV/EBITDA (x) 2016 6.3 13.1 10.8 11.7 10.4 10.5

2017F - - 6.2 - 7.5 10.1

2018F - - 4.4 - 5.6 7.8

ROE (%) 2016 20.2 -135.6 6.7 18.7 15.8 34.6

2017F 34.1 51.9 14.4 - 18.3 17.6

2018F 31.8 40.5 18.8 - 21.0 18.0

자료: Bloomberg, 하나금융투자


4

2) 글로벌 공정 부품 업체 평균 PER 17.8배

직접 경쟁사 최근 2년 평균 PER은

각각 18배, 15배

뉴파워프라즈마가 RPG, RFG 시장에서 경쟁하고 있는 메이저 경쟁 업체들의 2017년 말 기

준 PER은 각각 18.2배, 14.9배다. 뉴파워프라즈마와 직접 경쟁하고 있지는 않지만 유사 사

업군을 주요 매출원으로 하는 글로벌 Peers들까지 포함하여 산출된 최근 2년(2016~2017)

간 평균 PER은 17.8배다.

표 2. 글로벌 공정 부품 업체 Valuation Table

Name MKS AE BROOKS AUTO ULTRA CLEAN Towa

Nation US US US US JAPAN

주가(Local) 106.7 69.7 26.9 20.2 2,287.0

시가총액(백만원) 6,297,533 3,005,710 2,063,124 843,935 565,007

매출액 2016 1,503,565 561,458 650,195 653,254 214,018

(백만원) 2017F 2,041,593 713,902 762,531 982,606 313,403

2018F 2,269,035 803,761 843,044 1,078,412 340,437

영업이익 2016 182,547 147,249 4,918 25,992 18,720

(백만원) 2017F 499,571 227,781 101,367 103,862 48,881

2018F 610,572 256,131 132,085 117,091 55,398

순이익 2016 121,657 147,942 -80,620 11,667 17,274

(백만원) 2017F 345,139 201,002 92,158 84,462 33,580

2018F 475,307 220,305 111,232 95,878 38,294

EPS (원) 2016 2,275 3,726 -1,172 360 691

2017F 6,297 4,997 1,310 2,473 1,343

2018F 8,542 5,568 1,533 2,745 1,531

PER (x) 2016 23.3 18.7 - 27.2 10.0

2017F 18.2 14.9 22.9 8.7 16.6

2018F 13.4 13.4 18.8 7.8 14.6

BPS (원) 2016 27,948 11,926 8,853 7,922 8,761

2017F 33,252 - 9,807 - 10,995

2018F 39,270 - 11,820 - 12,395

PBR (x) 2016 2.6 5.5 1.7 1.5 0.8

2017F 3.6 - 3.1 - 2.0

2018F 2.9 - 2.4 - 1.8

EV/EBITDA (x) 2016 15.2 14.0 26.2 9.8 5.1

2017F 10.9 - 15.2 - 8.3

2018F 8.7 - 11.5 - 7.6

ROE (%) 2016 8.7 38.9 - 11.7 4.8 8.5

2017F 24.2 37.1 8.9 24.9 11.8

2018F 22.6 29.8 11.0 22.3 -

자료: Bloomberg, 하나금융투자


5

3) Target Multiple 15.6배

국내 및 글로벌 업체 Peers 평균

멀티플 적용

상기 내용을 종합하여 2018년 예상 EPS에 Target PER 15.6배를 적용, 목표주가 53,000

원을 제시한다. Target PER 15.6배는 국내 공정 부품 업계 최근 2년간 평균 PER 13.4배

와 글로벌 경쟁사 및 공정 부품 업계 최근 2년 평균 PER 17.8배의 중간 값이다. 직접적으

로 경쟁하는 메이저 경쟁사들의 경우 시장 규모가 큰 반도체 시장 내에서 점유율을 확보하

고 있어 이들과 같은 멀티플을 적용하기는 어렵다고 판단된다. 다만 뉴파워프라즈마는 현재

디스플레이 RPG 시장 내 점유율 1위를 확보하고 있고 반도체 RFG 성장 가능성(경쟁사 점

유율 잠식)이 매우 크다는 점에서 국내 기타 공정 부품 업체들보다는 밸류에이션 프리미엄

적용이 가능하다고 판단된다. 한편, 2016년까지의 시장 내 점유율 유지 및 국내 Peers 평균

멀티플을 적용한 목표주가는 38,000원(표8 참조)으로 다운사이드 리스크 역시 제한적이라고

판단된다.

표 3. 뉴파워프라즈마 적정주가 산출 시나리오 분석(Base)

Base

2017F 2018F 2019F

부문별 M/S 가정 Display RPG 66% 70% 77%

RF 30% 35% 37%

Semiconductor RPG 22% 21% 21%

RF 0% 3% 3%

EPS 추이 2,375 3,391 4,271

국내 공정 부품 업계 평균 PER 13.4배 적용 TP 31,831 45,444 57,228

글로벌 경쟁사 및 공정 부품 업계 평균 PER 17.8배 적용 TP 42,284 60,367 76,019

(1)/(2) 평균 PER 15.6배 적용시 TP 37,057 52,906 66,624

자료: 하나금융투자

표 4. 뉴파워프라즈마 적정주가 산출 시나리오 분석(Bull)

Bull

2017F 2018F 2019F


RF 30% 35% 37%


RF 0% 5% 10%

EPS 추이 2,375 3,721 5,391



(1)/(2) 평균 PER 15.6배 적용시 TP 37,057 58,042 84,098


표 5. 뉴파워프라즈마 적정주가 산출 시나리오 분석(Bear)

Bear

2017F 2018F 2019F


RF 30% 30% 30%


RF 0% 0% 1%

EPS 추이 2,375 2,821 3,533



(1)/(2) 평균 PER 15.6배 적용시 TP 37,057 44,001 55,117



6

2. 투자포인트 및 실적

1) 투자포인트 : 플라즈마 시장 성장 + 안정적 교체수요 + 반도체 비중 확대

OLED 및 3D NAND 시장 성장에

따른 증착/식각 수요 증가… 플라즈

마 부품 수요 역시 비례해서 증가

뉴파워프라즈마의 RPG, RFG 부품이 CVD 및 Asher 장비에 부착되서 메이저 반도체/디스

플레이 업체들에게 납품되기 때문에 기본적으로 메이저 업체들의 CAPEX 싸이클, 그 중에

서도 CVD 및 Asher 장비 시장의 성장과 비례해서 성장해왔다.

(1) 다만 해당 장비 시장의 성장과 ‘1:1’의 함수 관계라고 보기 보다는 ‘1:`1+@’ 성장이라고

보는 것이 합리적이다. OLED 및 3D NAND 시장 성장에 따라 증착 및 세정 단계에서 플라

즈마 수요가 증가하고 있기 때문에 ‘그림2’와 같이 플라즈마 시장은 반도체/디스플레이 장비

시장 성장 보다 높은 성장률(연평균 7%)을 보이고 있다.

(2) 2016,2017년 메이저 디스플레이 업체의 사상 최대 CAPEX 이후 기존 라인들에서 RPG

교체 수요가 지속적으로 발생하고 있는 것 역시 중요하다. 신규 설비 투자 시 초기 점유율은

높지 않았으나 부품 교체 수요를 잠식해나가면서 글로벌 디스플레이 RPG 시장 점유율을

70% 수준까지 높인 점은 향후 안정적 교체 수요 확보 측면에서 매우 긍정적이다.

(3) 한편, 반도체 RFG 시장에서도 2018년부터 경쟁사 점유율을 잠식해 나갈 것으로 보이기

때문에 전사 실적 성장률은 이보다 가파를 것으로 전망된다.

그림 1. 글로벌 반도체/디스플레이 CVD 장비 투자 규모 추이 및 전망

RPG, RFG 장비 모두 CVD 장비에

부착되기 때문에 글로벌 반도체/

디스플레이 업체들의 CAPEX 증가에

비례해서 실적 증가

0

2,000

4,000

6,000

8,000

10,000

12,000

2013 2014 2015 2016 2017F 2018F 2019F 2020F

(백만$) Display Semiconductor


그림 2. 반도체/디스플레이 Plasma 시장 규모 추이 및 전망

증착 및 식각 스텝 수 증가로 인해

플라즈마 부품 시장 규모는 전체

반도체/디스플레이 CAPEX 시장 규모

보다 높은 성장률 전망

-

200

400

600

800

1,000

1,200

2013 2014 2015 2016 2017F 2018F 2019F 2020F

(백만$)



7

표 6. 글로벌 디스플레이 장비 시장 규모 추이 및 전망 (단위 : 백만$)

Year PVD CVD Exposure Coater Dry Etch Dry Strip Wet Etch Wet Strip Wet clean ELA Implant 기타 Total

2013 $188 $357 $1,025 $302 $227 $75 $35 $65 $78 $157 $197 $923 $3,629

2014 $339 $435 $918 $334 $335 $42 $50 $72 $82 $59 $74 $1,109 $3,849

2015 $365 $504 $915 $299 $335 $46 $53 $78 $80 $89 $114 $1,046 $3,924

2016 $455 $839 $1,839 $559 $628 $141 $77 $143 $131 $524 $274 $2,112 $7,722

2017F $539 $959 $2,155 $655 $739 $86 $84 $177 $154 $682 $219 $2,688 $9,137

2018F $598 $993 $2,183 $693 $792 $99 $90 $180 $143 $628 $210 $3,011 $9,620

2019F $460 $729 $1,618 $547 $647 $61 $76 $111 $100 $405 $122 $2,218 $7,094

2020F $251 $552 $1,130 $360 $370 $67 $47 $85 $76 $510 $154 $1,817 $5,419

2021F $305 $537 $1,176 $391 $403 $57 $59 $88 $74 $372 $115 $1,490 $5,067

2022F $338 $541 $1,115 $348 $369 $36 $57 $88 $68 $234 $77 $1,643 $4,914


표 7. 글로벌 반도체 장비 시장 규모 추이 및 전망 (단위 : 백만$)

2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017F 2018F 2019F 2020F

포토 6,762 8,845 6,586 6,496 6,994 6,105 6,385 6,749 6,856 7,681 7,482

PR 처리 1,541 1,988 1,618 1,306 1,580 1,446 1,486 1,570 1,581 1,649 1,594

이온/불순물 주입 1,023 1,203 1,033 813 833 1,032 982 1,065 1,091 1,159 1,045

산화/확산 1,240 1,347 907 843 783 755 879 901 856 897 812

증작 7,791 8,011 5,891 5,635 7,023 6,898 7,187 7,680 8,016 8,573 8,175

식각/세정 8,288 8,691 7,373 6,624 8,889 9,406 10,458 10,970 10,995 11,635 11,032

Total 28,655 32,097 25,420 23,730 28,117 27,658 27,379 28,936 29,394 31,595 30,140



8

2) 2018년 영업이익 331억원 YoY +45% 증가 전망

반도체향 RFG 제품 매출 기대감 2018년 실적은 매출 1,595억원(YoY +44%), 영업이익 331억원(YoY +45%)으로 가파른 성

장이 전망된다. 1) 최대고객사의 2016, 2017년 사상 최대 CAPEX 이후 라인별 부품 교체

수요, 2) 중국 OLED 투자에 따른 장비 업체 신규 부품 수요, 3) 반도체향 RF 신규 매출이

주요 성장 모멘텀이다.

표 8. 뉴파워프라즈마 실적 추이 및 전망

1Q17 2Q17 3Q17 4Q17F 1Q18F 2Q18F 3Q18F 4Q18F 2016 2017F 2018F 2019F

매출 31.1 29.3 27.2 23.2 32.4 35.6 42.1 49.4 67.4 110.8 159.5 185.3

디스플레이 RPG 10.2 5.0 8.5 7.2 7.4 8.2 9.8 12.3 21.3 30.8 37.6 45.3

RF 8.5 12.6 7.8 8.1 10.3 11.4 13.8 16.6 20.0 37.0 52.2 61.5

반도체 RPG 10.5 9.8 8.9 4.8 7.5 8.6 10.8 13.5 16.5 33.9 40.4 44.1

RF 0.0 0.0 0.0 1.1 4.6 4.9 5.2 5.5 0.6 1.1 20.3 25.3

유지보수 2.0 2.0 2.0 2.0 2.5 2.5 2.5 1.5 9.0 8.0 9.0 9.0

영업이익 6.7 7.4 8.7 10.3 10.2 10.3 10.6 10.9 12.6 22.8 33.1 42.0

영업이익률 22% 24% 24% 11% 21% 21% 21% 21% 19% 21% 21% 23%

순이익 5.6 5.8 5.7 2.2 5.7 6.3 7.4 8.7 11.0 19.3 28.0 35.2

순이익률 18% 20% 21% 10% 18% 18% 17% 18% 16% 17% 18% 19%


그림 3. 뉴파워프라즈마 실적 추이 및 전망

반도체향 RFG 매출 실적 기여 전망

0.0

10.0

20.0

30.0

40.0

50.0

60.0

1Q17 2Q17 3Q17 4Q17F 1Q18F 2Q18F 3Q18F 4Q18F

디스플레이 RPG 디스플레이 RF 반도체 RPG 반도체 RF 유지보수



9

3. 주요 제품

1) RPG(Remote Plasma Generator)

반도체/디스플레이 증착 이후 잔존

부산물 세정하기 위한 필수 부품

반도체, 디스플레이 공정 중 CVD 장비에 부착되는 부품이다. SK머티리얼즈가 반도체/디스

플레이 회사에 납품하는 세정 가스인 NF3가 CVD 챔버내에서 N 과 F 로 분해되도록 도와

주는 전압 장치다. 이렇게 분해된 F는 박막 공정 후 챔버 내에 잔존하는 부산물(Si)과 결합

하게 되는데 이 결합 물질을 밖으로 배출하면서 챔버내 세정이 이뤄지게 된다.

반도체 미세 공정 전환 및 층수 증가에 따라 증착 횟수가 늘어나고 자연히 부산물도 늘어난

다. 이에 따라 NF3 수요가 증가하고 NF3를 분해하기 위한 RPG 요구 스펙도 높아질 수밖

에 없다. 예를 들어 기존에는 8리터 수준의 NF3 처리를 위한 RPG가 필요했다면 이제는

20리터 이상 처리가 가능한 RPG가 요구된다. 이에 따라 제품 ASP도 높아진다. 중요한 것

은 NF3를 N 과 F로 분해할 때 분해하는 반응기와 F가 이동 하는 통로가 필연적으로 마모

된다는 것이다. 이 때문에 1.5~2년에 한번 부품 교체가 필수적이다.

구체적으로 설명하자면, 반도체 및 디스플레이 TFT 공정 중 증착(Gas Deposition) 공정에

서 웨이퍼(반도체) 혹은 글라스(디스플레이)에 증착 물질이 입혀질 때, 화학물질(Si, 실리콘)

이 웨이퍼나 글라스뿐만 아니라 챔버 내부의 다른 부품에까지 달라붙게 된다. 이처럼 챔버

내부에 달라 붙는 오염 물질은 증착이 반복될수록 비례해서 늘어나게 된다. 이는 결국 반도

체 칩 불량을 야기하고 수율 저하로 이어진다.

이를 방지 하기 위해 공정 중간에 정기적으로 부식성 Gas(NF3)를 챔버에 투입하여 내부

를 세정한다. 이때 투입된 NF3는 그 자체로 Si를 씻어내지 못하기 때문에 N(질소)과 F(불

소)를 분리시켜줘야 한다. NF3가 분리 되려면 기체의 NF3가 플라즈마로 성질을 바꾸면서

분리되야 하는데 NF3를 분리시켜 주는 부품을 RPG(Remote Plasma Generator), 혹은

RPS (Remote Plasma Source)라고 부른다.

그림 4. 디스플레이 공정 중 아르곤 Gas 증착 Mechanism

자료: 한국 정보디스플레이 학회, Korean Information Display Society), 하나금융투자


10

세정 필수 원소인 불소는 화합물 형

태로만 존재… 화합물에서 불소를 따

로 떼어내기 위해 RPG가 챔버를 플

라즈마 상태로 만들어줌

뉴파워프라즈마의 수혜를 설명하기 위해 보다 쉽게 설명하면 챔버 내부의 불순물을 제거하

기 위해 F, 즉 불소가 필요하다. 학창 시절 치아 보호를 위해 학교에서 나눠 주던 불소를

생각하면 이해하기 쉽다. 미량의 불소는 세정 기능이 있어서 수돗물에 일부러 첨가하기도

하고 방부제, 살충제 등의 용도로 쓰이기도 한다. 다만 불소, 즉 F 원소는 자연계에서 불

소 자체로 존재하지 않고 화합물의 형태로만 존재한다. UF6, NF3 등 다양한 화합물에 녹

아 있는데 여기서는 삼 ‘불’ 화질소인 NF3에서 반도체/디스플레이 공정 중 챔버 내 세정의

역할을 담당하는 것이다.

반도체/디스플레이 공정 스텝 수 증가에 비례해서 세정 부품/소재 수요도 증가하고 있다.

OLED 및 3D NAND 생산량 증가는 이를 가속화시키고 있는데 특히 증착 및 식각 공정 스

텝 수 증가는 NF3 수요 증가로 이어지고 NF3를 분리시켜주는 RPG 부품 수요 증가로 이어

지고 있다. 특수가스 처리에 따른 부품 마모로 교체 수요가 꾸준히 발생한다는 것도 사업 안

정성 측면에서 긍정적 요인이다.

한편, RPG 혹은 RPS는 연속적인 클리닝을 위해 안정적 전압이 제공되어야 한다. 클리닝

도중에 비정상적인 출력저하가 발생하면 챔버 내에 잔류물이 남기 때문에 클리닝의 효율이

떨어지고 이는 웨이퍼 혹은 글라스의 수율 하락으로 이어진다. 이 때문에 안정적 전압 구동

이 필수적인데 뉴파워프라즈마의 RPG는 전압을 제공하는 전원이 분리되어 있어서 전압이

약해지면 20분만에 간단히 부품 교체가 가능하다. 경쟁사 제품의 경우 전원과 반응기

(Reactor)가 일체형으로 구성되어 있어서 부품 교체시 CVD 장비 가동 중단 이후 열이 식을

때까지 4시간 이상 대기해야 하기 때문에 공정 효율이 떨어진다.

그림 5. RPG(Remote Plasma Generator) 제품 개념도 그림 6. 뉴파워프라즈마 RPG 제품군

구분 Product Physical Application Process

NF3 Gas Power

Single

Body

Separate

Module

SEMI 6 slm 10kW √ PECVD

7 slm 10kW √

8 slm 10kW √

9 slm 10kW √

14 slm 15kW √ HDP CVD , PEALD,

ALD

Display 36 slm 18kW/20kW √ PECVD

자료: 뉴파워프라즈마, 하나금융투자 자료: 뉴파워프라즈마, 하나금융투자


11

그림 7. 글로벌 NF3 공급량 추이 및 전망

NF3 공급량 증가는 RPG 제품 신규

및 교체 수요 증가로 연결

0.0

5.0

10.0

15.0

20.0

25.0

30.0

0

5,000

10,000

15,000

20,000

25,000

30,000

2008 2009 2010 2011 2012 2013 2014 2015 2016 2017F 2018F

(%)(백만톤)Supply (MT) YoY growth (%)

자료: SK머티리얼즈, 하나금융투자

그림 8. RPS (Remote Plasma Source)

RPS의 성능은 안정적 전압 공급이

좌우

Cleaning후에도 잔류한(남아있는) 상태의 Particle

RPS

Wafer

Plasma

RPS

RPS RPS

Particle

F Radical

F radical을 이용한 chamber cleaning

수차례 혹은 여러시간에 걸친공정 진행 후의 Chamber 내부

RPS의 비정상적인 출력저하로 발생한불안정한 클리닝 후, 잔류(남아 있는) particle로 인해서 발생한 공정사고

자료: Arrows ENG, 하나금융투자


12

2) RFG(Remote Frequency Generator)

전공정장비 (CVD, Dry Etcher)가 웨

이퍼 혹은 글라스를 증착하고 깎아내

려면 챔버 내부가 플라즈마 상태로

유지되어야 하는데 이러한 공정 플라

즈마를 형성할 수 있게 Chamber에

고주파 전원을 공급하는 장치

반도체, 디스플레이 공정 중 CVD 장비(증착) 및 Dry Etch(식각) 공정에서 플라즈마를 발생

시키기 위한 부품이다. 전(前) 공정 단계인 CVD, Dry Etch 공정은 플라즈마를 이용하여 웨

이퍼 및 글라스 표면 위에 Si를 입히고 깎아 회로를 형성하는 과정을 거친다.

이러한 증착과 식각은 챔버 내부가 진공이면서 플라즈마 상태일 때 이뤄지기 때문에 공정

중 장시간동안 플라즈마 상태가 유지되어야 한다. 이처럼 챔버 내부를 플라즈마 상태로 만들

고 장시간 유지시켜주는 역할을 RFG(Remote Frequency Generator)가 담당한다. 즉, 전

공정장비 (CVD, Dry Etcher)에 공정 플라즈마를 형성할 수 있게 공정 Chamber에 고주파

전원을 공급하여 주는 장치다.

제조 공장에 일반적으로 공급되는 상업전원 (주파수 : 50/60Hz)의 교류전원(220V, 440V)

을 공급받아 13.56MHz 혹은 그 이상의 고주파로 변환하는 Converter 장치라고 생각하면

이해하기 쉽다. 플라즈마 상태로 바꾸기 위한 핵심 공정이 고주파 변환 이므로 ‘Frequency

generator’라고 불린다.

최근 반도체 회로의 패턴이 미세화 되고 3D구조로 입체화 되면서 공정이 매우 복잡해지고

이에 따라 여러 주파수(2MHz, 3.2MHz, 13.56MHz, 27.12MHz, 60MHz)를 사용하는

추세다. 주파수 영역 확대로 RFG 부품 수요 역시 비례해서 증가한다. 부품 마모에 따른

교체 수요 역시 꾸준히 발생한다.

그림 9. CVD 공정 중 챔버 내부에 고주파를 제공하여 플라즈마 상태로 바꿔주는 RF Power

자료: 전력전자학회, 하나금융투자


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그림 10. 반도체 공정 중 RF Power 수요처

자료: 반도체장비재료협회(SEMI), 하나금융투자

그림 11. 반도체/디스플레이 공정 중 RFG 역할 개념도

자료: 뉴파워프라즈마, 하나금융투자


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추정 재무제표

손익계산서 (단위: 십억원) 대차대조표 (단위: 십억원)

2015 2016 2017F 2018F 2019F 2015 2016 2017F 2018F 2019F

매출액 50.5 67.4 110.8 159.5 185.3 유동자산 42.0 80.0 89.3 124.4 149.7

매출원가 25.8 35.1 57.6 83.7 97.3 금융자산 27.5 53.6 62.8 68.0 94.6

매출총이익 24.7 32.3 53.2 75.8 88.0 현금성자산 9.7 9.0 18.2 23.0 49.1

판관비 16.8 19.8 30.4 42.7 46.0 매출채권 등 5.8 12.4 12.4 26.5 25.9

영업이익 8.0 12.6 22.8 33.1 42.0 재고자산 8.3 13.6 13.6 29.0 28.3

금융손익 0.4 (1.0) (0.4) 0.5 0.7 기타유동자산 0.4 0.4 0.5 0.9 0.9

종속/관계기업손익 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 비유동자산 39.6 47.3 54.4 64.5 72.6

기타영업외손익 1.1 1.9 1.2 0.5 0.4 투자자산 2.4 2.7 2.7 5.7 5.6

세전이익 9.5 13.4 23.6 34.2 43.1 금융자산 2.4 2.7 2.7 5.7 5.6

법인세 1.4 2.4 4.3 6.2 7.8 유형자산 27.8 32.3 39.7 47.1 55.6

계속사업이익 8.1 11.0 19.3 28.0 35.2 무형자산 1.1 3.1 2.8 2.5 2.2

중단사업이익 0.0 0.0 0.0 0.0 0.0 기타비유동자산 8.3 9.2 9.2 9.2 9.2

당기순이익 8.1 11.0 19.3 28.0 35.2 자산총계 81.6 127.3 143.7 189.0 222.3

비지배주주지분 순이익 (0.2) 0.0 0.0 0.0 0.0 유동부채 18.7 25.9 23.9 40.4 39.6

지배주주순이익 8.3 11.0 19.3 28.0 35.2 금융부채 10.2 10.2 6.8 7.7 7.7

지배주주지분포괄이익 8.8 10.9 19.3 28.0 35.2 매입채무 등 4.9 11.2 11.2 23.9 23.4

NOPAT 6.8 10.3 18.7 27.1 34.4 기타유동부채 3.6 4.5 5.9 8.8 8.5

EBITDA 9.3 14.5 24.8 35.0 43.7 비유동부채 9.1 1.7 1.7 3.7 3.6

성장성(%) 금융부채 6.5 0.0 0.0 0.0 0.0

매출액증가율 41.1 33.5 64.4 44.0 16.2 기타비유동부채 2.6 1.7 1.7 3.7 3.6

NOPAT증가율 33.3 51.5 81.6 44.9 26.9 부채총계 27.8 27.6 25.7 44.0 43.2

EBITDA증가율 27.4 55.9 71.0 41.1 24.9 지배주주지분 53.9 99.7 118.0 144.9 179.1

영업이익증가율 33.3 57.5 81.0 45.2 26.9 자본금 3.1 4.1 4.1 4.1 4.1

(지배주주)순익증가율 50.9 32.5 75.5 45.1 25.7 자본잉여금 4.0 37.8 37.8 37.8 37.8

EPS증가율 60.6 27.9 36.7 42.8 26.0 자본조정 (0.0) 0.1 0.1 0.1 0.1

수익성(%) 기타포괄이익누계액 (0.3) (0.4) (0.4) (0.4) (0.4)

매출총이익률 48.9 47.9 48.0 47.5 47.5 이익잉여금 47.1 58.1 76.3 103.3 137.4

EBITDA이익률 18.4 21.5 22.4 21.9 23.6 비지배주주지분 (0.1) 0.0 0.0 0.0 0.0

영업이익률 15.8 18.7 20.6 20.8 22.7 자본총계 53.8 99.7 118.0 144.9 179.1

계속사업이익률 16.0 16.3 17.4 17.6 19.0 순금융부채 (10.8) (43.4) (56.0) (60.2) (86.9)

투자지표 현금흐름표 (단위: 십억원)

2015 2016 2017F 2018F 2019F 2015 2016 2017F 2018F 2019F

주당지표(원) 영업활동 현금흐름 14.1 7.6 23.0 17.4 37.5

EPS 1,359 1,738 2,375 3,391 4,271 당기순이익 8.1 11.0 19.3 28.0 35.2

BPS 8,762 12,298 14,304 17,566 21,708 조정 5.0 3.2 6.1 1.9 1.7

CFPS 2,115 2,272 2,995 4,308 5,338 감가상각비 1.3 2.0 1.9 1.9 1.7

EBITDAPS 1,521 2,296 3,051 4,244 5,292 외환거래손익 (0.0) (0.1) (0.1) 0.0 0.0

SPS 8,252 10,640 13,649 19,333 22,462 지분법손익 0.0 (0.1) 0.0 0.0 0.0

DPS 0 130 130 130 130 기타 3.7 1.4 4.3 0.0 0.0

주가지표(배)

영업활동 자산부채

변동 1.0 (6.6) (2.4) (12.5) 0.6

PER N/A 13.1 11.0 8.9 7.1 투자활동 현금흐름 (11.8) (32.9) (8.8) (12.5) (10.2)

PBR N/A 1.9 1.8 1.7 1.4 투자자산감소(증가) (0.0) (0.3) 0.0 (3.0) 0.1

PCFR N/A 10.0 8.7 7.0 5.7 유형자산감소(증가) (2.0) (6.9) (8.8) (9.0) (9.9)

EV/EBITDA N/A 9.4 6.4 5.4 3.7 기타 (9.8) (25.7) 0.0 (0.5) (0.4)

PSR N/A 2.1 1.9 1.6 1.3 재무활동 현금흐름 6.2 24.7 (5.1) (0.2) (1.1)

재무비율(%) 금융부채증가(감소) 4.8 (6.5) (3.4) 0.9 (0.0)

ROE 16.9 14.3 17.7 21.3 21.8 자본증가(감소) 0.5 34.8 (0.0) 0.0 0.0

ROA 11.2 10.5 14.2 16.8 17.1 기타재무활동 0.9 (3.6) (0.6) 0.0 0.0

ROIC 17.0 23.5 35.0 39.7 41.0 배당지급 0.0 0.0 (1.1) (1.1) (1.1)

부채비율 51.7 27.7 21.7 30.4 24.1 현금의 증감 8.4 (0.6) 9.2 4.7 26.2

순부채비율 (20.1) (43.5) (47.4) (41.6) (48.5) Unlevered CFO 12.9 14.4 24.3 35.5 44.0

이자보상배율(배) 23.1 14.1 137.4 254.1 306.1 Free Cash Flow 11.2 0.6 14.1 8.4 27.6



15

투자의견 변동 내역 및 목표주가 괴리율

뉴파워프라즈마

날짜 투자의견 목표주가 괴리율(%)

평균 최고/최저

18.2.5 BUY 53,000

Analyst Change

18.1.2 1년 경과 5.00% 12.57%

17.1.1 BUY 27,450 -7.38% 13.11%

투자등급 관련사항 및 투자의견 비율공시

투자의견의 유효기간은 추천일 이후 12개월을 기준으로 적용

기업의 분류

BUY(매수)_목표주가가 현주가 대비 15% 이상 상승 여력 Neutral(중립)_목표주가가 현주가 대비 -15%~15% 등락 Reduce(매도)_목표주가가 현주가 대비 -15% 이상 하락 가능

산업의 분류

Overweight(비중확대)_업종지수가 현재지수 대비 15% 이상 상승 여력 Neutral(중립)_업종지수가 현재지수 대비 -15%~15% 등락 Underweight(비중축소)_업종지수가 현재지수 대비 -15% 이상 하락 가능

투자등급 BUY(매수) Neutral(중립) Reduce(매도) 합계

금융투자상품의 비율 91.5% 7.9% 0.7% 100.1%

* 기준일: 2018년 2월 3일

Compliance Notice

본 자료를 작성한 애널리스트(김현수)는 자료의 작성과 관련하여 외부의 압력이나 부당한 간섭을 받지 않았으며, 본인의 의견을 정확하게 반영하여 신의성실 하게 작성하였습니다 본 자료는 기관투자가 등 제 3자에게 사전 제공한 사실이 없습니다. 당사는 2018년 2월 5일 현재 해당회사의 지분을 1%이상 보유 하고 있지 않습니다 본 자료를 작성한 애널리스트(김현수)는 2018년 2월 5일 현재 해당 회사의 유가증권을 보유하고 있지 않습니다.

본 조사자료는 고객의 투자에 정보를 제공할 목적으로 작성되었으며, 어떠한 경우에도 무단 복제 및 배포 될 수 없습니다. 또한 본 자료에 수록된 내용은 당사가 신뢰할 만한 자료 및 정보로 얻어진 것이나, 그 정확성이나 완전성을 보장할 수 없으므로 투자자 자신의 판단과 책임하에 최종결정을 하시기 바랍니다. 따라서 어떠한 경우에도 본 자료는 고객의 주식투자의 결과에 대한 법적 책임소재의 증빙자료로 사용될 수 없습니다.

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I Equity Research 뉴파워프라즈마 (144960)imgstock.naver.com/upload/research/company/1517797716589.pdf · 2018. 2. 5. · DPS 원 0 130 130 130 130 hyunsoo Analyst 김현수