4
Материалы Международной научно-технической конференции, 20 – 24 ноября 2017 г. МОСКВА INTERMATIC – 2 0 1 7, часть 2 МИРЭА СВОЙСТВА ПОВЕРХНОСТИ ТОЛСТЫХ ПЛЕНОК ОЛОВА В ЗАВИСИМОСТИ ОТ МАТЕРИАЛА ТИГЛЯ, ПОЛУЧЕНЫХ ОСАЖДЕНИЕМ ПРИ МАГНЕТРОННОМ РАСПЫЛЕНИИ МИШЕНИ © 2017 г. М.В. МАКАРОВА Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана e-mail: [email protected] Введение Одним из важных технологических этапов при сборке электронного изделия яв- ляется нанесения припоя, чаще всего изготовленного на основе олова. В настоящее время в устройствах и приборах микроэлектроники, например, электровакуумных при- борах, термоэлектрических (ТЭ) модулях, для сборки используется ручная или авто- матизированная пайка. Точность сборки сильно зависит от качества нанесения припоя и его равномерности, что в свою очередь существенно влияет на возможность улуч- шать выходные параметры приборов, а также возможность автоматизации процесса сборки [1]. Припои в автоматизированных установках наносятся методом трафаретной печати или специальными дозаторами, а также гальваническим осаждением или осаж- дением методом магнетронного распыления [2-4]. При гальваническом осаждении слоя олова неравномерность получаемого покрытия слишком велика [5]. Использование классического метода магнетронного распыления обеспечивает заданную равномер- ность покрытия и воспроизводимость толщины осаждаемых пленок. Для реализации вакуумной технологии нанесения пленок возможно использовать метод ионного рас- пыления в магнетронных системах в парах мишени при жидкофазном магнетронном распылении (ЖФМР) мишени, что позволяет обеспечить высокую скорость осаждения, составляющую десятки микрометров в минуту. При этом за счет наличия ионизирован- ной фазы достигаются высокие показатели адгезии [6]. Метод ЖФМР часто применяется для осаждения толстых пленок меди для раз- личных изделий микроэлектроники и силовой электроники [6‒8]. Одним из недостатков метода ЖФМР является наличие вкраплений в припо- верхностный слой осаждаемой пленки. Поскольку основным критерием качества для слоя припоя является его чистота, то наличие микрочастиц тугоплавких металлов в пленке припоя из олова не допустимо из-за образования зоны неприпоя изделия в микроэлектронике, что приводит в области вкрапления образованию барьерных слоев препятствующим пайке. В работе исследованы процессы формирования пленок олова при жидкофаз- ном магнетронном распылении мишени и их поверхностные свойства. Образцы и методика исследования Образцы пленок олова получали в вакууме методом жидкофазного магнетрон- ного распыления. На рис. 1 представлена схема узла устройства планарного жидко- фазного магнетрона с тиглем для напыления пленок олова. Здесь на подложкодержа- теле 1 устанавливается подложка 2 на которую осаждается пленка 3. Твердое грану- лированное олово помещается в тигель 6, диаметром 86 мм, установленный на магне- тронной распылительной системе (МРС) 7. По мере протекания процесса твердые гра- нулы олова переходят в жидкую фазу, которая является жидкой мишенью 5 жидкофаз- ного магнетрона. 315

МОСКВА INTERMATIC – 2 0 1 7, часть 2 МИРЭА © 2017 г. …Материалы Международной научно-технической конференции,

  • Upload
    others

  • View
    4

  • Download
    0

Embed Size (px)

Citation preview

Page 1: МОСКВА INTERMATIC – 2 0 1 7, часть 2 МИРЭА © 2017 г. …Материалы Международной научно-технической конференции,

Материалы Международной научно-технической конференции, 20 – 24 ноября 2017 г.

МОСКВА INTERMATIC – 2 0 1 7, часть 2 МИРЭА

СВОЙСТВА ПОВЕРХНОСТИ ТОЛСТЫХ ПЛЕНОК ОЛОВА В ЗАВИСИМОСТИ ОТ МАТЕРИАЛА ТИГЛЯ, ПОЛУЧЕНЫХ ОСАЖДЕНИЕМ

ПРИ МАГНЕТРОННОМ РАСПЫЛЕНИИ МИШЕНИ

© 2017 г. М.В. МАКАРОВА

Московский государственный технический университет им. Н.Э. Баумана e-mail: [email protected]

Введение

Одним из важных технологических этапов при сборке электронного изделия яв-ляется нанесения припоя, чаще всего изготовленного на основе олова. В настоящее время в устройствах и приборах микроэлектроники, например, электровакуумных при-борах, термоэлектрических (ТЭ) модулях, для сборки используется ручная или авто-матизированная пайка. Точность сборки сильно зависит от качества нанесения припоя и его равномерности, что в свою очередь существенно влияет на возможность улуч-шать выходные параметры приборов, а также возможность автоматизации процесса сборки [1]. Припои в автоматизированных установках наносятся методом трафаретной печати или специальными дозаторами, а также гальваническим осаждением или осаж-дением методом магнетронного распыления [2-4]. При гальваническом осаждении слоя олова неравномерность получаемого покрытия слишком велика [5]. Использование классического метода магнетронного распыления обеспечивает заданную равномер-ность покрытия и воспроизводимость толщины осаждаемых пленок. Для реализации вакуумной технологии нанесения пленок возможно использовать метод ионного рас-пыления в магнетронных системах в парах мишени при жидкофазном магнетронном распылении (ЖФМР) мишени, что позволяет обеспечить высокую скорость осаждения, составляющую десятки микрометров в минуту. При этом за счет наличия ионизирован-ной фазы достигаются высокие показатели адгезии [6].

Метод ЖФМР часто применяется для осаждения толстых пленок меди для раз-личных изделий микроэлектроники и силовой электроники [6‒8].

Одним из недостатков метода ЖФМР является наличие вкраплений в припо-верхностный слой осаждаемой пленки. Поскольку основным критерием качества для слоя припоя является его чистота, то наличие микрочастиц тугоплавких металлов в пленке припоя из олова не допустимо из-за образования зоны неприпоя изделия в микроэлектронике, что приводит в области вкрапления образованию барьерных слоев препятствующим пайке.

В работе исследованы процессы формирования пленок олова при жидкофаз-ном магнетронном распылении мишени и их поверхностные свойства.

Образцы и методика исследования

Образцы пленок олова получали в вакууме методом жидкофазного магнетрон-ного распыления. На рис. 1 представлена схема узла устройства планарного жидко-фазного магнетрона с тиглем для напыления пленок олова. Здесь на подложкодержа-теле 1 устанавливается подложка 2 на которую осаждается пленка 3. Твердое грану-лированное олово помещается в тигель 6, диаметром 86 мм, установленный на магне-тронной распылительной системе (МРС) 7. По мере протекания процесса твердые гра-нулы олова переходят в жидкую фазу, которая является жидкой мишенью 5 жидкофаз-ного магнетрона.

315

Page 2: МОСКВА INTERMATIC – 2 0 1 7, часть 2 МИРЭА © 2017 г. …Материалы Международной научно-технической конференции,

Рис. 1. Схема узла устройства планарного жидкофазного магнетрона: 1 – под-ложкодержатель, 2 – подложка, 3 – пленка материала, 4 – пары материала мишени, 5 – мишень, 6 – тигель, 7 – магнетронная распылительная система.

Физический процесс осаждения образцов пленок методом ЖФМР складывается из двух процессов: физическое распыление материала ионами рабочего газа, как при классическом магнетронном распылении, и его термическое испарение. Разогрев и требуемая температура мишени обеспечивается и поддерживается за счет ионной бомбардировки. Реализация процесса ЖФМР возможна в высоком вакууме ~ 10-4 Па и ниже, но при этом давление насыщенных паров материала над тиглем (мишенью) в ходе процесса должно быть более 10-2 Па. Если невозможно добиться такого давления насыщенных паров материала над тиглем, то недостающую часть можно компенсиро-вать добавлением рабочего газа [7].

Для олова, температура плавления составляет 231,9 оС, а температура дости-жения давления насыщенных паров 10-2 Па составляет 988 оС. При длительном вре-мени процесса осаждения подложки могут разогреваться до температур в 200 оС и бо-лее, что может привести к расплавлению легкоплавких материалов, уже осажденных на подложки.

В качестве материала положки использовали диски теллурида висмута, диа-метром 20 мм и толщиной 0,5 мм.

Толщину пленок измеряли с помощью микрометра Schut 0-2T. Скорость осаж-дения рассчитывали путем деления толщины пленки на время её осаждения при опре-деленном давлении паров в вакуумной камере. Морфологический анализ проводили с помощью оптического микроскопа CarlZeiss.

Состав полученных образцов пленок олова контролировался с помощью рас-трового электронного микроскопа.

Результаты исследования

В системах жидкофазного магнетрона в качестве материалов тигля применяют тугоплакие материалы типа молибден или тантал. Тугоплавкий вольфрам применять в качестве тигля крайне не целесообразно из-за сложной технологии его изготовления.

В процессе жидкофазного осаждения олова из тигля на основе молибдена обна-ружена особенность технологического процесса: жидкий расплав олова мишени в тигле начинает течь по окружности против часовой стрелки с большой угловой скоростью 2…4 об/c. При этом из-за высокой скорости течения жидкого олова оголяется значитель-ная часть тигля, которая в зоне ионной эрозии активно распыляется. Поток распыленных частиц молибдена тигля внедряется в состав пленки олова на подложке. По мере выра-ботки распылением тигля ионным потоком магнетрона, в пленке олова создаются ме-таллические кластеры вещества тигля в виде микро- и наноразмерных частиц.

Тигель из молибдена. Процесс осаждения пленки с использованием молибде-нового тигля реализован в режиме самораспыления. Поскольку расплавленное олово мишени при течении со скоростью 2…4 об/с образует локальные зоны оголенного тиг-

316

Page 3: МОСКВА INTERMATIC – 2 0 1 7, часть 2 МИРЭА © 2017 г. …Материалы Международной научно-технической конференции,

ля, что ограничивает загрузку олова из-за существенного риска так выплескивания че-рез стенки тигля.

Сканирование поверхности пленки олова показало наличие в её составе нано-частиц молибдена в количестве до 11,7 %. Образцы имеют серый цвет, что свидетель-ствует о наличии на поверхности материала тигля. Пленка имеет гладкую морфологию поверхности, т.е. без капельной фазы, проколов и прочих видимых дефектов. Толщина пленки составляет 6 мкм за время процесса 12 мин при скорости осаждения на верти-кальную подложку ~ 5 мкм/мин.

Тигель из графита. Процесс осаждения пленки с использованием графитового тигля реализован в режиме самораспыления с добавлением рабочего газа аргона в количестве 25 см3/мин и без подачи рабочего газа процесс крайне нестабилен. Из-за распыления графита пленка олова имеет темно-серый цвет из-за образования струк-туры композита состава Sn-C. Суммарная толщина пленки составила 2 мкм за время 12 мин при скорости осаждения 1,6 мкм/мин (на стоячую подложку). При этом осаж-денная пленка имеет гладкую поверхность без капельной фазы, сквозных пор и прочих видимых дефектов.

Тигель из тантала. Процесс осаждения пленки с использованием танталового тигля реализован в режиме с частичной подачей рабочего газа. Пленка олова имеет белоснежный цвет, что свидетельствует о чистоте осажденного оловянного покрытия. Поверхность пленки олова гладкая, без капельной фазы, проколов и прочих видимых дефектов. Толщина пленки при самостоятельном гашении аномально тлеющего раз-ряда - 6,5 мкм, время процесса – 20 мин, при остановке технологического процесса по времени толщина составила 3 мкм, время осаждения – 15 мин. Скорости осаждения: 3,2 мкм/мин и 2 мкм/мин на стоячую подложку (рис. 1, поз. 2). Установлено, что олово имеет высокую смачиваемость с танталом и не происходит оголения тигля в процессе осаждения пленки. Особенностью этого технологического процесса стало отсутствие возможности выхода магнетрона в режим самораспыления.

Морфология поверхности пленок олова. Картины морфологии поверхности пленок олова, осажденных в процессе ЖФМР из тиглей изготовленных из молибдена, графита и тантала представлены на рис. 2. Морфологический анализ поверхностей показывает, что пленки олова при осаждении методом ЖФМР на различные типы под-ложек из трех различных тиглей однородные, сплошные, не имеют сквозных проколов и больших вкраплений в виде капельной фазы.

а) б) в)

Рис. 2. Картина поверхности пленки олова, осажденной на термоэлектрический материал из тигля на основе: а) молибдена; б) графита; в) тантала.

Пленка олова, осажденная из графитового тигля, имеет наиболее мелкозерни-

стую структуру, чем остальные, что свидетельствует о доминировании процесса рас-пыления графита над испарением олова. Образцы, полученные из танталового и мо-либденового тигля имеют идентичную структуру. Различие составляет только наличие микро- и наночастиц на поверхности пленки олова, осажденной из молибденового тиг-ля, частиц вещества тигля, которые образуют локальные барьерные слой при исполь-зовании её в качестве припоя.

317

Page 4: МОСКВА INTERMATIC – 2 0 1 7, часть 2 МИРЭА © 2017 г. …Материалы Международной научно-технической конференции,

Наилучшим образом с точки зрения качества получаемого покрытия олова про-явил себя тигель из тантала. Высокая смачиваемость олова и тантала препятствует образованию пустых зон и распылению материала тигля, что позволяет получать чис-тые пленки олова без сторонних вкраплений, что крайне важно для качества припоя.

Вывод

Исследовано влияние материала тигля на свойства осаждаемой пленки олова при жидкофазном магнетронном распылении мишени. Использование тигля из молиб-дена и графита приводит к загрязнению покрытия олова (примесями) частицами мате-риала тигля из-за распыления вещества тигля. Использование тигля из тантала позво-ляет получать сверхчистые, сплошные, однородные пленки олова высокого качества.

СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ

1. Алексеев C.Н. Электровакуумные приборы. Учебное пособие. – Ульяновск: УлГТУ, 2003. – 158 с.

2. Данилин Б.С., Сырчин В.К. Магнетронные распылительные системы. – М.: Изд-во Микроэлектроника, 1977. – 198 с.

3. Разумнева Н. Прямая печать проводящих материалов. URL: https://www.dipaul.ru/ /pressroom/pryamaya-pechat-provodyashchikh-materialov/ (дата обращения: 25.08.2017).

4. Иванов В.И., Лучников П.А., Сигов А.С. Ионные технологии в производстве изделий электронной техники / под ред. А.С. Сигова. – М.: Энергоатомиздат, 2010. – 206 с.

5. Лукомский Ю.Я., Гамбург Ю.Д. Физико-химические основы электрохимии. – М.: Изд-во Интеллект, 2008. 424 с.

6. Каданер Л.И. Равномерность гальванических покрытий. – Харьков: Изд-во Харьков-ского ордена трудового красного знамени государственного университета им. А.М. Горького, 1961. –414 с.

7. Макарова М.В., Моисеев К.М. Исследование свойств медных пленок, полученных методом ионного распыления в магнетронных системах в парах мишени. // Вакуум-ная техника, материалы и технологии. М.: КВЦ «Сокольники». 2017. С. 124–128.

8. Макарова М.В., Васильев Д.Д., Моисеев К.М. Процесс ионного распыления в магне-тронных системах в парах мишени. // Будущее машиностроения. – М.: МГТУ им. Н.Э. Баумана, 2016. – С. 298–305.

318