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Thais Coan
DESENVOLVIMENTO DE POLMEROS HBRIDOS
ORGNICO-INORGNICOS PARA APLICAO COMO
REVESTIMENTOS PROTETORES
Tese submetida ao Programa de Ps-
graduao em Engenharia Qumica da
Universidade Federal de Santa
Catarina para a obteno do Grau de
Doutor em Engenharia Qumica
Orientador: Prof. Dr. Ricardo Antonio
Francisco Machado
Coorientador: Prof. Dr. Dachamir
Hotza
Florianpolis
2014
Esta tese dedicada a minha me,
minhas irms e meu marido.
AGRADECIMENTOS
Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC) e Universitt
Bayreuth (Alemanha). Aos Departamentos de Engenharia Qumica e Engenharia de
Alimentos da UFSC, Departamento de Qumica da UFSC e Institut fr
Materialforschung (IMA) da Uni-Bayreuth. Ao Laboratrio de Controle de Processos (LCP), Grupo de
Estudos de Processos Eletroqumicos e Eletroanalticos (GEPEEA) e
Lehrstuhl Keramische Werkstoffe pela infraestrutura disponibilizada
para o desenvolvimento deste trabalho.
Coordenao de Aperfeioamento de Pessoal de Nvel Superior
(CAPES).
Ao professor Ricardo A. F. Machado pela orientao.
Ao professor Almir Spinelli e o doutorando Fernando Souza pelo
suporte e orientao durante os ensaios de corroso.
Ao Gilvan pelas dicas, discusses, sugestes e pacincia durante
esses anos de doutorado.
minha me, Catarina, e minhas irms, Vanessa e Samanta, pelo
apoio.
s pessoas que de alguma forma contriburam para a concluso
deste trabalho.
RESUMO
O PMMA um polmero orgnico muito utilizado na formulao de
revestimentos e adesivos devido boa adeso em diversos substratos e
facilidade em produzir recobrimentos polimricos. Por outro lado, o
PMMA hidroflico, possui baixa resistncia trmica e baixa
resistncia aos fenmenos de corroso. Uma forma adequada de
melhorar as propriedades desse material atravs da combinao com
compostos inorgnicos, formando polmeros hbridos orgnico-
inorgnicos. Neste contexto, foram desenvolvidos polmeros hbridos
de PMMA/polissilazano com o objetivo de melhorar as propriedades
do componente orgnico visando aplicao como revestimento
protetor. Todavia, o oligossilazano selecionado neste trabalho,
HTT1800, quando em contato com a umidade e oxignio, forma
reticulaes que produzem um polmero termofixo e insolvel,
impossibilitando a aplicao como revestimento. Sendo assim, a
polimerizao em soluo com atmosfera de argnio foi a tcnica
selecionada para a sntese dos materiais hbridos, pois impede o
contato dos componentes de partida com ar e umidade. Os polmeros e
os revestimentos hbridos desenvolvidos foram caracterizados para
avaliar a influncia do HTT1800 nas propriedades finais desses
materiais em relao ao PMMA puro. A partir dos resultados da
extrao soxhlet, observou-se que os polmeros hbridos sintetizados
com at 25% em massa de HTT1800 apresentaram baixo grau de
reticulao e, por isso, deram origem a solues polimricas
adequadas para deposio nos substratos metlicos. Adicionalmente,
as curvas de TGA e DTA evidenciaram que a incluso do HTT1800
aumentou a estabilidade trmica do PMMA e, a partir dos resultados
de GPC, observou-se a diminuio das massas molares dos materiais
hbridos em relao ao PMMA puro. Alm disso, o oligossilazano
melhorou a adeso dos revestimentos no substrato metlico e conferiu
hidrofobicidade aos revestimentos produzidos. Os testes de corroso
comprovaram a eficincia de proteo dos revestimentos hbridos em
comparao com o substrato sem revestimento e com o PMMA puro.
Desta forma, o desenvolvimento dos polmeros hbridos orgnico-
inorgnicos de PMMA/HTT1800 permitiu a obteno de
revestimentos protetores com propriedades superiores s observadas
em revestimentos de PMMA puro.
Palavras-chave: polmero hbrido orgnico-inorgnico, poli(metacrilato
de metila), polissilazano, revestimentos protetores.
ABSTRACT
PMMA is an organic polymer that has increasingly been used as
coatings and adhesives due to its good adhesion in different types of
substrates and excellent film-forming performance. However, PMMA
is hydrophilic and shows low thermal and corrosion resistance. A
suitable way to enhance the properties of this material is the
combination with inorganic compounds to form organic-inorganic
hybrid polymers. In this work, hybrid polymers of
PMMA/polysilazane were synthesized aiming the improvement of the
organic component properties for application as protective coatings.
However, the selected oligosilazane, HTT1800, is a very reactive
compound, which undergoes cross-linking if in contact with water
and/or oxygen. The cross-linking leads to a thermoset and insoluble
polymer and hinders the application as coating. Therefore, the solution
polymerization in argon atmosphere was the chosen technique for the
synthesis, preventing the contact with air and humidity. Different
characterizations were carried out to evaluate the influence of the
HTT1800 in the final properties of the developed hybrid polymers and
of the coatings in comparison to the pure PMMA. Soxhlet extraction
results showed that a low cross-linking degree is obtained when
HTT1800 content in the initial mixture do not exceed 25 wt%,
producing polymeric solutions with adequate characteristics for the
formation of hybrid films on the metal substrate. Additionally, TG and
DTA analyses indicated that the addition of HTT1800 increased the
thermal stability of the PMMA and the GPC analysis results showed a
decrease of the hybrid polymers molecular weight in comparison to
the pure PMMA. Furthermore, the oligosilazane improved the
adhesion of the coatings on the metal substrate and the hydrophobicity
of the developed films. The corrosion tests showed that the hybrid
coatings had better anticorrosive performance in comparison to the
uncoated substrate and to the pure PMMA. Thus, the development of
organic-inorganic hybrid polymers of PMMA/HTT1800 enabled the
production of protective coatings with enhanced properties if
compared to pure PMMA.
Keywords: organic-inorganic hybrid polymers, poly(methyl
thacrylate), polysilazane, protective coatings.
LISTA DE FIGURAS
Figura 1 - Reao de polimerizao do MMA. ..................................................33 Figura 2 - Frmula estrutural dos precursores polimricos. ...............................37 Figura 3 - Sntese de polissilazanos a partir de um clorossilano com amnia. ..39 Figura 4 - Estrutura bsica do oligossilazano HTT1800. ...................................46 Figura 5 - Fluxograma da metodologia experimental. .......................................61 Figura 6 Reator de alumnio utilizado nas polimerizaes em soluo. .........64 Figura 7 Equipamento para extrao soxhlet. .................................................66 Figura 8 Mtodo dip-coating. .........................................................................72 Figura 9 (a) ferramenta do kit de adeso e (b) quadrados formados aps passagem da ferramenta, segundo a norma ASTM D 3359. ..............................74 Figura 10 ngulo de contato. .........................................................................77 Figura 11 Ensaios de corroso realizados no potenciostato conectado clula eletroqumica e ao microcomputador. ................................................................78 Figura 12 Representao da clula eletroqumica. ..........................................79 Figura 13 Diagrama de impedncia de Nyquist para um sistema eletroqumico. ....................................................................................................80 Figura 14 Espectros no infravermelho dos polmeros: (a) PMMA, (b) HTT1800, (c) 25/75 PMMA/HTT1800, (d) 40/60 PMMA/HTT1800, (e) 60/40
PMMA/HTT1800, (f) 75/25 PMMA/HTT1800 e (g) 90/10 PMMA/HTT1800.
...........................................................................................................................85 Figura 15 Sobreposio dos espectros do HTT1800 puro e dos polmeros hbridos no nmero de ondas entre 1580 e 1600 cm
-1. .......................................86
Figura 16 Espectros no infravermelho dos polmeros hbridos reticulados (a) 25/75 PMMA/HTT1800 e (b) 40/60 PMMA/HTT1800. ...................................88 Figura 17 Reaes de hidrlise e policondensao do oligossilazano HTT1800. ..........................................................................................................89 Figura 18 Curvas de TGA dos polmeros: (a) PMMA, (b) 90/10 PMMA/HTT1800, (c) 75/25 PMMA/HTT1800, (d) 60/40 PMMA/HTT1800,
(e) 40/60 PMMA/HTT1800, (f) 25/75 PMMA/HTT1800 e (g) HTT1800. .......90 Figura 19 Curvas de DTA dos polmeros: (a) PMMA, (b) 90/10 PMMA/HTT1800, (c) 75/25 PMMA/HHTT180, (d) 60/40 PMMA/HTT1800,
(e) 40/60 PMMA/HTT1800, (f) 25/75 PMMA/HTT1800 e (g) HTT1800. .......92 Figura 20 - Massas molares mdia ponderal ( wM ) e mdia numrica ( nM ) dos
polmeros sintetizados. ......................................................................................95 Figura 21 Densidade ptica das solues PMMA, HTT1800 e 90/10 PMMA/HTT1800 no comprimento de onda 295 nm. ........................................97 Figura 22 Densidade ptica das solues 75/25 PMMA/HTT1800, 60/40 PMMA/HTT1800, 40/60 PMMA/HTT1800, 25/75 PMMA/HTT1800 no
comprimento de onda 410 nm. ..........................................................................98 Figura 23 Espessura dos revestimentos de PMMA e HTT1800 em funo da velocidade de subida. .......................................................................................100 Figura 24 Regies formadas durante a retirada do substrato metlico da soluo polimrica. ..........................................................................................101
Figura 25 Espessura dos revestimentos hbridos PMMA/HTT1800 em funo da velocidade de subida. .................................................................................. 102 Figura 26 Micrografias da seo transversal dos revestimentos (a) HTT1800, (b) PMMA e (c) 90/10 PMMA/HTT1800 com aumento de 2000x e (d) 75/25
PMMA/HTT1800 com 3500x de aumento. ..................................................... 104 Figura 27 Micrografias dos revestimentos aps teste de adeso com aumento de 30x: (a) PMMA puro; (b) HTT1800; (c) 90/10 PMMA/HTT1800; (d) 75/25
PMMA/HTT1800; (e) 60/40 PMMA/HTT1800; (f) 40/60 PMMA/HTT1800 e
(g) 25/75 PMMA/HTT1800. ........................................................................... 105 Figura 28 Micrografias dos revestimentos aps teste de adeso com aumento de 50x: (a) PMMA puro; (b) 90/10 PMMA/HTT1800 e (c) 25/75
PMMA/HTT1800. ........................................................................................... 106 Figura 29 Mecanismo de adeso entre o polissilazano e o substrato metlico. ......................................................................................................................... 108 Figura 30 Medidas de ngulos de contato com gua do substrato metlico sem revestimento e revestido com: PMMA, HTT1800 e polmeros hbridos (90/10
PMMA/HTT1800, 75/25 PMMA/HTT1800, 60/40 PMMA/HTT1800; 40/60
PMMA/HTT1800 e 25/75 PMMA/HTT1800). ............................................... 109 Figura 31 Diagramas de Nyquist dos substratos revestidos com PMMA puro, HTT1800 puro, 90/10 PMMA/HTT1800, 75/25 PMMA/HTT1800 e do
substrato sem revestimento. ............................................................................. 112 Figura 32 Curvas de polarizao potenciodinmica dos substratos revestimentos com PMMA puro, HTT1800 puro, s polmeros hbridos 90/10
PMMA/HTT1800, 75/25 PMMA/HTT1800 e do substrato sem revestimento.
......................................................................................................................... 116 Figura 33 Imagens obtidas via microscopia ptica antes e aps os ensaios de corroso com aumento de 16x. ........................................................................ 119
LISTA DE TABELAS
Tabela 1 - Reaes que geram reticulao dos oligossilazanos. ........................40 Tabela 2 - Reagentes utilizados na tese. ............................................................62 Tabela 3 Composio qumica do substrato metlico. ....................................63 Tabela 4 Condies experimentais utilizadas nas polimerizaes em soluo. ...........................................................................................................................65 Tabela 5 Composies de MMA e HTT1800 utilizadas na sntese. ...............65 Tabela 6 Percentuais dos polmeros utilizados em relao ao solvente THF. .70 Tabela 7 Classificao do teste de adeso segundo a norma ASTM D 3359. .75 Tabela 8 Grau de reticulao dos polmeros. ..................................................84 Tabela 9 Perdas de massa das amostras na temperatura de 300 C.................94 Tabela 10 Espessura dos revestimentos hbridos em funo da velocidade de subida. ..............................................................................................................103 Tabela 11 Parmetros eletroqumicos obtidos a partir do diagrama de Nyquist e eficincia de proteo....................................................................................114
LISTA DE ABREVIATURAS E SIGLAS
ABSE Polycarbosilazane (policarbossilazano)
AIBN 2,2-azobisisobutyronitrile (2,2-azobisobutironitrila) AISI 316L American Iron and Steel Institute stainless steel 316L (ao
inoxidvel 316L)
ATR Attenuated total reflectance (reflectncia total atenuada) BN Boron nitride (nitreto de boro)
BPO Benzoyl peroxide (perxido de benzola) cBN Cubic boron nitride (nitreto cbido de boro)
DCP Dicumyl peroxide (perxido de dicumila)
DMF Dimethylformamide) (dimetilformamida) DSC Differential scanning calorimetry (calorimetria diferencial
de varredura)
DTA Differential thermal analysis (termogravimetria derivada) ECS Eletrodo de calomelano saturado
EIE Espectroscopia de impedncia eletroqumica
FTIR Fourier transform infrared spectroscopy (espectroscopia
de infravermelho por transformada de Fourier)
GDOES Discharge optical emission spectroscopy (espectroscopia de emisso ptica por descarga luminescente)
GPC Gel permeation chromatography (cromatografia de
permeao em gel)
HPLC High-performance liquid cromatography (cromatografia
lquida de alto desempenho)
IPNs Interpenetrating polymer networks (rede polimrica
interpenetrante)
LPO Lauryl peroxide (perxido de laurola) MEV Microscpio eletrnico de varredura
MEV/EDS Microscpico eletrnico de varredura/espectroscopia de
energia dispersiva de raios-x)
MMA Methyl methacrylate (metacrilato de metila)
MPTS 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane (3-metacriloxipropiltrimetoxisilano)
PHPS Perhydropolysilazane (perhidropolissilazano) PMMA Poly(methyl methacrylate) (poli(metacrilato de metila))
POSS Polyhedral oligomeric silsesquioxane (polidrico de
silsesquioxano)
PVB Poly(vinyl butiral) (poli(vinil butiral))
Semi-IPNs Semi-interpenetrating polymer networks (rede polimrica
semi-interpenetrante)
TEOS Tetraethoxysilane (tetraetoxisilano)
TGA Thermogravimetric analysis (anlise termogravimtrica)
THF Tetrahydrofuran (tetrahidrofurano) TMSPM 3(trimethoxysilyl)propyl methacrylate
3(trimetoxisilil)propil metacrilato
LISTA DE SMBOLOS
Letras gregas
Cdl Capacitncia
Dm Cadeias polimricas desativadas de tamanho m Dm+n Cadeias polimricas desativadas de tamanho m+n
Dn Cadeias polimricas desativadas de tamanho n
E(%) Eficincia de proteo
Ecorr Potencial de corroso
I Molcula do iniciador
icorr Corrente de corroso
jcorr Densidade de corrente de corroso
kd Constante cintica de decomposio do iniciador kiq Constante cintica de iniciao qumica
kp Constante cintica de propagao
ktc Constante cintica de terminao por combinao ktd Constante cintica de terminao por desproporcionamento
ktr Constante cintica de terminao por transferncia de cadeia ka Constante cintica de terminao por transferncia de cadeia
M Molcula do monmero
P1 Cadeias polimricas ativas primrias Pm Cadeias polimricas ativas de tamanho m
Pn Cadeias polimricas ativas de tamanho n Pn+1 Cadeias polimricas ativas de tamanho n+1
R Radical livre
Rcorr Taxa de corroso
Rp Resistncia polarizao
Rs Resistncia hmica da soluo
Tg Temperatura de transio vtrea
X Molcula de monmero, iniciador, solvente ou polmero
-Zi Componente imaginrio
Zr Componente real
Relao entre as capacitncias AC ngulo de contato
SUMRIO
1 INTRODUO ............................................................................ 25 1.1 OBJETIVOS ............................................................................... 27 2 REVISO BIBLIOGRFICA .................................................... 29 2.1 MATERIAIS HBRIDOS ORGNICO-INORGNICOS ......... 29 2.2 POLI(METACRILATO DE METILA) ...................................... 31 2.2.1 Polimerizao em soluo do metacrilato de metila.......................32 2.2.2 Alternativas para melhorar as propriedades do PMMA...............35 2.3 POLMEROS INORGNICOS COM SILCIO NA CADEIA
PRINCIPAL ...................................................................................... 36 2.3.1 Polissilazanos......................................................................................38 2.4 CORROSO ............................................................................... 48 2.4.1 Materiais hbridos com propriedades anticorrosivas.....................50 3 MATERIAIS E MTODOS ........................................................ 61 3.1 REAGENTES E SUBSTRATO METLICO ............................ 61 3.2 UNIDADE E PROCEDIMENTO EXPERIMENTAL DA
POLIMERIZAO EM SOLUO ............................................... 63 3.2.1 Polimerizao em soluo..................................................................63 3.3 CARACTERIZAES DOS POLMEROS SINTETIZADOS . 65 3.3.1 Extrao Soxhlet com THF...............................................................66 3.3.2 Espectroscopia de Infravermelho por Transformada de Fourier
(FTIR).......................................................................................................... 67 3.3.3 Anlise Termogravimtrica (TGA)..................................................68 3.3.4 Cromatografia de Permeao em Gel..............................................68 3.4 PREPARAO E CARACTERIZAO DAS SOLUES DE
PMMA E PMMA/HTT1800 ............................................................. 69 3.4.1 Preparao das solues....................................................................69 3.4.2 Espectroscopia na Regio do Ultravioleta e Visvel (UV-Vis)........70 3.5 LIMPEZA DO SUBSTRATO METLICO E DEPOSIO DOS
REVESTIMENTOS POLIMRICOS .............................................. 71 3.5.1 Limpeza do substrato metlico.........................................................71 3.5.2 Deposio dos revestimentos polimricos nos substratos metlicos.72 3.6 CARACTERIZAES DOS REVESTIMENTOS .................... 73 3.6.1 Espessura.............................................................................................73 3.6.2 Teste de Adeso...................................................................................73 3.6.3 Microscopia Eletrnica de Varredura (MEV).................................76 3.6.4 Gonimetro ngulo de Contato......................................................76 3.6.5 Ensaios de Corroso...........................................................................77 4 RESULTADOS E DISCUSSO ................................................. 83 4.1 CARACTERIZAES DOS POLMEROS SINTETIZADOS . 83 4.1.1 Extrao Soxhlet com THF...............................................................83
4.1.2 Espectroscopia de Infravermelho por Transformada de Fourier
(FTIR)............................................................................................................84 4.1.3 Anlise Termogravimtrica (TGA)....................................................90 4.1.4 Cromatografia de permeao em gel (GPC).....................................95 4.2 CARACTERIZAES DAS SOLUES POLIMRICAS EM
THF ................................................................................................... 96 4.2.1 Espectroscopia de UV-Vis...................................................................96 4.3 CARACTERIZAES DOS REVESTIMENTOS .................... 99 4.3.1 Espessura dos revestimentos.............................................................. 99 4.3.2 Teste de Adeso..................................................................................104 4.3.3 Gonimetro ngulo de Contato.....................................................108 4.3.4 Ensaios de Corroso...........................................................................111 5 CONCLUSO...........................................................................................121 5.1 SUGESTES PARA TRABALHOS FUTUROS ...................... 124 REFERNCIAS .............................................................................. 125
1 INTRODUO
Individualmente, um nmero muito reduzido de materiais puros
engloba todas as propriedades qumicas, fsicas e mecnicas necessrias
para uma determinada aplicao (ZOPPI; NUNES, 1997). O
poli(metacrilato de metila) (PMMA), por exemplo, um polmero
orgnico muito utilizado na formulao de revestimentos e adesivos
devido boa adeso em diversos substratos, elevada transparncia e
facilidade em produzir recobrimentos polimricos. Por outro lado, o
PMMA hidroflico, possui baixa resistncia trmica, baixa resistncia
a ataque cido e baixa resistncia aos fenmenos de corroso (ZOU et
al., 2007; LI et al., 2009). Assim, uma forma adequada de melhorar as
propriedades desse material orgnico atravs da combinao com
compostos inorgnicos para formar polmeros hbridos orgnico-
inorgnicos.
Os polmeros hbridos orgnico-inorgnicos permitem formar
produtos com propriedades complementares que no so encontradas em
materiais convencionais (RUBIO et al., 2005; LEE et al., 2013) e por
isso, so considerados uma alternativa para diversas aplicaes (JOS;
PRADO, 2005; CARBAJAL-DE LA TORRE et al., 2009).
Neste contexto, os materiais inorgnicos que possuem silcio na
cadeia principal so bastante promissores, pois possuem estabilidade
trmica, estabilidades s intempries, hidrofobicidade, resistncia
oxidao, resistncia corroso e excelente adeso em substratos
metlicos (KAN et al., 1996; ZOU et al., 2005(a); LIN et al., 2005; LI
et al., 2009; GARDELLE et al., 2011). Esses polmeros inorgnicos
so classificados de acordo com o componente existente na cadeia
principal (COLOMBO et al., 2010). Entre eles, os oligossilazanos,
com Si-N na cadeia principal, possuem caractersticas apropriadas para
o desenvolvimento de revestimentos em substratos metlicos, seja na
forma polimrica ou cermica. Os revestimentos desenvolvidos com
esses materiais so utilizados em aplicaes especficas e que
necessitam de elevada resistncia trmica, resistncia qumica e/ou
resistncia corroso. Assim, utilizar apenas o oligossilazano em
condies de trabalho mais amenas torna a aplicao invivel devido
ao elevado custo do produto. Entretanto, a incluso desse componente
inorgnico na sntese do PMMA uma alternativa promissora, pois
permite melhorar as propriedades do polmero orgnico. Todavia, uma
particularidade dos oligossilazanos que, em contato com umidade e
oxignio, formam polmeros termofixos e insolveis devido
26
formao de reticulaes (TOREKI et al., 1990; CHAVEZ et al.,
2010), que pode prejudicar a aplicao do produto sintetizado.
Dessa forma, a polimerizao em soluo com atmosfera de
argnio foi a tcnica selecionada neste trabalho para sintetizar os
polmeros orgnico-inorgnicos PMMA/polissilazano HTT1800, pois
a mais adequada para produzir materiais hbridos com baixo grau de
reticulao. Este sistema, alm de utilizar monmero e iniciador,
emprega um solvente orgnico no meio reacional ao invs de gua,
que evita, nesse caso, a obteno de compostos insolveis. Alm disso,
utilizou-se atmosfera de argnio, pois alm de manter o meio reacional
inerte, isto , livre de oxignio, possui densidade superior ao
nitrognio que permite manter o sistema inerte por mais tempo.
Na literatura h estudos que descrevem, por exemplo, a
incorporao de nanopartculas na matriz do PMMA e formao de
polmeros hbridos PMMA/polissiloxano (material inorgnico que
possui Si-O na cadeia principal) como revestimentos protetores de
substratos metlicos. Entretanto, o desenvolvimento de polmeros
hbridos PMMA/polissilazano com o objetivo de formar revestimentos
protetores ainda no foi descrito na literatura. Cabe ressaltar que uma
srie de trabalhos est sendo desenvolvida no Laboratrio de Controle
de Processos (LCP) do Departamento de Engenharia Qumica e
Engenharia de Alimentos (EQA) da Universidade Federal de Santa
Catarina (UFSC), utilizando a tcnica de polimerizao em soluo
com oligossilazano com o objetivo de conferir propriedades
diferenciadas ao material final. Abarca et al. (2013) sintetizaram
polmeros hbridos poliestireno/polissilazano com o objetivo de
melhorar a estabilidade trmica e as propriedades antichamas do
composto orgnico poliestireno. Ribeiro (2013) realizou a sntese de
acrilonitrila com oligossilazano com o objetivo de melhorar as
propriedades de processabilidade do composto inorgnico para
fabricao de fibras. Alm disso, Furtat, Uliana e Machado (2013)
incorporaram, pelo processo de extruso, oligossilazanos na matriz de
poliestireno cristal para avaliar as propriedades antichamas do produto
final. Os resultados obtidos at o momento pelo grupo de pesquisa se
mostram promissores para diversas aplicaes visto que os polmeros
desenvolvidos apresentaram, entre outras caractersticas, maior
estabilidade trmica e boas propriedades antichama. Todavia, tambm
refletem as dificuldades encontradas ao explicar os resultados obtidos
devido s interaes complexas entre os materiais e a falta de literatura
especializada.
27
Portanto, a utilizao de oligossilazanos como componente
inorgnico na sntese de polmeros hbridos inovadora, porm
complexa, uma vez que as reticulaes formadas pelos oligossilazanos
possuem mecanismos difceis de controlar, pois dependem tanto da
temperatura e do iniciador utilizado como tambm do oxignio e da
umidade ambiente (CHAVEZ et al., 2010).
1.1 OBJETIVOS
Este trabalho visou sintetizar polmeros hbridos de
PMMA/polissilazano HTT1800 com baixo grau de reticulao com o
objetivo de melhorar as propriedades do polmero orgnico para
possibilitar aplicao como revestimento protetor. Na primeira etapa,
os polmeros foram sintetizados e caracterizados, e na segunda,
buscou-se desenvolver revestimentos polimricos em substratos
metlicos para avaliar suas caractersticas protetoras.
Para tanto, os objetivos especficos do estudo compreenderam:
1. Sintetizar os polmeros hbridos orgnico-inorgnicos via polimerizao em soluo com atmosfera de argnio;
2. Avaliar a influncia do HTT1800 no grau de reticulao, na interao com o PMMA, na estabilidade trmica e na massa
molar dos polmeros sintetizados;
3. Desenvolver solues polimricas, a partir dos materiais desenvolvidos, para possibilitar a deposio dos revestimentos
em substratos metlicos via processo dip-coating;
4. Avaliar a influncia do HTT1800 nas propriedades finais dos revestimentos polimricos protetores.
Este documento foi dividido em quatro partes para facilitar a
apresentao. O Captulo 2 traz a fundamentao terica necessria ao
desenvolvimento deste trabalho, abordando as definies e
classificaes de materiais hbridos e uma reviso bibliogrfica sobre
os componentes orgnico (PMMA) e inorgnico (polissilazano
HTT1800). Alm disso, esse captulo aborda a corroso de metais que
engloba as caractersticas importantes como adeso e ngulo de
contato dos revestimentos protetores. No Captulo 3 so descritos as
metodologias adotadas, os procedimentos experimentais bem como as
caracterizaes realizadas ao longo do trabalho. Os resultados e as
discusses esto apresentados no Captulo 4 e por fim, as concluses e
sugestes para trabalhos futuros constam no Captulo 5.
2 REVISO BIBLIOGRFICA
Neste captulo esto abordados aspectos considerados relevantes
ao contexto do presente trabalho e que se encontram disponveis na
literatura. Na primeira parte, o captulo apresenta uma reviso sobre as
definies e classificaes dos materiais hbridos orgnico-inorgnicos.
Em seguida, aborda os componentes que sero utilizados na sntese do
polmero hbrido obtido a partir de poli(metacrilato de metila) e
oligossilazano HTT1800, bem como as aplicaes e mecanismos de
reao desses materiais. Por fim, a corroso de metais, os mtodos de
preveno e a utilizao de materiais hbridos com propriedades
anticorrosivas so apresentados.
2.1 MATERIAIS HBRIDOS ORGNICO-INORGNICOS
Individualmente, um nmero muito reduzido de materiais puros
engloba todas as propriedades qumicas, fsicas e mecnicas necessrias
para uma determinada aplicao (ZOPPI; NUNES, 1997). Dessa forma,
a sntese de materiais hbridos tem sido amplamente estudada, pois
permite formar produtos com diferentes propriedades, resultantes da
combinao de compostos distintos. A definio mais aceita de
materiais hbridos afirma que estes so formados a partir de
combinaes entre diferentes materiais em nvel molecular (JOS;
PRADO, 2005; KICKELBICK, 2007). Esses materiais tm sido
utilizados em diversas aplicaes biomdica, membranas, microcomponentes, pticas, catlise, sensores e revestimentos de
substratos metlicos devido s propriedades fsico-qumicas e facilidade na sntese (MAMMERI et al., 2005; COLOMBO et al.,
2010).
Dentre os materiais hbridos, os compostos formados a partir da
combinao de materiais orgnico e inorgnico tem sido motivo de
diversas pesquisas. O interesse se deve formao de produtos com
propriedades complementares que no so encontradas em materiais
convencionais (RUBIO et al., 2005, LEE et al., 2013) e por isso, so
considerados uma alternativa para diversas aplicaes (JOS; PRADO,
2005; CARBAJAL-DE LA TORRE et al., 2009).
Os materiais hbridos orgnico-inorgnicos apresentam
excelentes propriedades mecnicas, pticas e trmicas, pois combinam,
por exemplo, a estabilidade dos materiais inorgnicos com a
versatilidade de materiais polimricos (GRAZIOLA et al., 2012). Dessa
30
forma, uma nova rea na cincia dos materiais comeou a ser explorada
(MAMMERI et al., 2005).
Os materiais hbridos orgnico-inorgnicos so classificados em
funo da interao entre as fases orgnica e inorgnica. A classificao
mais aceita divide esses materiais em duas classes (SANCHEZ; RIBOT,
1994; BESHER; MACKENZIE, 1998; LEBEAU; SANCHEZ, 1999;
MAMMERI et al., 2005; GUO; YAN, 2010; FREITAS, 2011;
CATAURO et al. 2013). Na classe I as interaes qumicas entre os
componentes orgnico e inorgnico so fracas e ocorrem,
predominantemente, via ligaes de Van der Waals e ligaes de
hidrognio. Os materiais da Classe I podem ser obtidos por diferentes
rotas: a) componentes orgnicos podem ser imobilizados numa rede
inorgnica, basicamente pela mistura homognea destas molculas em
solvente comum; b) via polimerizao, no qual o polmero obtido fica
entrelaado rede inorgnica proveniente da reticulao formada pelo
componente inorgnico, o que gera uma rede polimrica semi-
interpenetrante (semi-interpenetrating polymer networks: semi-IPNs); c)
formao simultnea de redes independentes, onde os componentes
reticulam e geram uma rede polimrica interpenetrante (interpenetrating polymer networks: IPNs); na classe II os componentes orgnico e
inorgnico possuem ligaes covalentes ou inico-covalentes entre si.
Em alguns casos podem existir ligaes laterais fracas ao longo da
cadeia principal. Adicionalmente, os autores Jos e Prado (2005) e Sakai
et al. (2012) classificam como classe III os hbridos orgnico-
inorgnicos que possuem a combinao dos dois tipos de interaes
descritos nas classes I e II.
Assim, pode-se afirmar que as propriedades dos materiais
hbridos orgnico-inorgnicos dependem tanto dos componentes
utilizados quanto da interao entre eles (LEBEAU; SANCHEZ, 1999;
GRAZIOLA et al., 2012). O tipo de interao entre as fases orgnica e
inorgnica definido pela aplicao final; interaes mais fracas so
utilizadas quando a mobilidade de um componente no outro
necessria, por exemplo, para polmeros condutores onde o on
inorgnico precisa migrar na matriz polimrica (KICKELBICK, 2007)
ou quando esses materiais devem ser solveis em determinado solvente
para posterior aplicao como revestimento.
O processo mais utilizado para sintetizar materiais hbridos
orgnico-inorgnicos o sol-gel. Este mtodo permite incorporar
polmeros orgnicos na rede inorgnica a partir de precursores em meio
lquido (YAMADA; YOSHINAGA; KATAYAMA, 1997; JOS;
PRADO, 2005; WANG; BIERWAGEN, 2009; KAJIHARA, 2013).
31
Geralmente, a formao do sol-gel ocorre em quatro etapas: a) hidrlise;
b) condensao e polimerizao do monmero, permitindo formar as
cadeias e partculas; c) crescimento das partculas; d) aglomerao das
estruturas polimricas e formao de reticulaes que formam o gel
(WANG; BIERWAGEN, 2009). No processo sol-gel possvel se obter
produtos com elevada pureza, homogeneidade e pode ser realizado a
baixas temperaturas (NOVAK, 1993; CHATTERJEE; NASKAR, 2006;
TOHIDIFAR et al., 2012; CATAURO et al., 2013). Diversos trabalhos
abordam esse mtodo para obteno de materiais hbridos com
propriedades anticorrosivas (MESSADDEQ et al., 1999; CHOU et al.,
2001; ONO; TSUGE; NISHI, 2004; LIU et al., 2005; YEH et al., 2006;
POZNYAK et al., 2008; ROSERO-NAVARRO et al., 2009; ROMANO
et al., 2011; SAKAI et al., 2012; RAHIMI; MOZAFFARINIA;
NAJAFABADI, 2013).
Entretanto, o sol-gel no adequado para o estudo apresentado
nesta tese, pois o material inorgnico selecionado, oligossilazano
HTT1800, forma uma rede com elevado grau de reticulao quando em
contato com umidade e oxignio. Essa rede d origem a um polmero
termofixo e insolvel que impossibilita posterior aplicao nas
superfcies metlicas. Sendo assim, a polimerizao em soluo com
atmosfera de argnio foi o mtodo selecionado para obteno dos
polmeros hbridos orgnico-inorgnicos de PMMA/HTT1800. O
objetivo obter um produto com caractersticas superiores ao PMMA
puro e que possa ser utilizado como revestimento protetor de substratos
metlicos.
2.2 POLI(METACRILATO DE METILA)
O poli(metacrilato de metila) (PMMA) muito utilizado na
formulao de revestimentos e adesivos devido facilidade em produzir
um recobrimento polimrico e boa adeso em diversos substratos. Por
outro lado, o PMMA possui baixa resistncia trmica e baixa resistncia
aos fenmenos de corroso (ZOU et al., 2007; LI et al., 2009).
O PMMA pode ser sintetizado por diferentes tcnicas:
polimerizao em suspenso, polimerizao em emulso, polimerizao
em massa e polimerizao em soluo. O tipo de polimerizao
utilizado depende principalmente da aplicao do produto final.
Neste trabalho, a polimerizao em soluo foi a tcnica
selecionada para sintetizar os materiais hbridos orgnico-inorgnicos
PMMA/HTT1800, pois como no utiliza gua no sistema reacional,
permite produzir materiais com baixo grau de reticulao.
32
2.2.1 Polimerizao em soluo do metacrilato de metila
A polimerizao em soluo um sistema que, alm de utilizar
monmero e iniciador, emprega um solvente no meio reacional. Na
polimerizao do metacrilato de metila (MMA), os solventes mais
utilizados so benzeno e tolueno, e como iniciadores os mais comuns
so perxido de benzola (BPO), 2,2-azobisisobutironitrila (AIBN) e
perxido de dicumila (DCP). As principais vantagens desse mtodo so:
fcil controle da temperatura do meio reacional e possibilidade de
realizar reaes com reagentes que possuam sensibilidade umidade,
uma vez que utiliza solvente como meio contnuo. Por outro lado,
apresenta como desvantagens: custo, toxicidade e dificuldade de
remoo do solvente.
A frao volumtrica do solvente, a temperatura e a concentrao
de iniciador so fatores que influenciam na polimerizao em soluo,
pois afetam a converso e a massa molar do polmero final. Ao utilizar
uma elevada temperatura reacional ou concentrao de iniciador
possvel obter altas converses em menor tempo e obter polmeros com
menor massa molar (GHOSH; GUPTA; SARAF, 1998). Todavia, o
solvente pode atuar como agente de transferncia de cadeia,
promovendo a formao de um polmero de baixa massa molar (CECCI,
2013).
Ponnuswamy, Penlidis e Kiparissides (1998) realizaram reaes
de polimerizao em soluo do metacrilato de metila (MMA) em
batelada para validar com o modelo matemtico proposto pelos prprios
autores. Foram avaliadas diferentes concentraes do iniciador BPO
(0,05 mol L1 e 0,1 mol L
-1) e temperaturas reacionais (65 C, 70 C e 75
C) para verificar a influncia na converso e massa molar do polmero
obtido. Os autores observaram que o aumento na temperatura reacional,
mantendo os demais parmetros constantes, ocasiona um aumento na
converso enquanto a massa molar diminui. Esse comportamento foi
atribudo autoacelerao da reao que decompe rapidamente os
radicais do iniciador. O mesmo resultado foi obtido por Ghosh et al.
(1998) ao sintetizar PMMA via polimerizao em massa e soluo nas
temperaturas de 50 C e 70 C utilizando BPO como iniciador e
benzeno como solvente.
O mecanismo cintico da polimerizao em soluo do MMA
ser abordado a seguir.
33
2.2.1.1 Mecanismo cintico da polimerizao em soluo do MMA
O poli(metacrilato de metila) obtido a partir da polimerizao
por crescimento de cadeia (poliadio) via radicais livres. Este
mecanismo ativado por um iniciador, que rompe a ligao do grupo
vinlico e promove a reao de polimerizao, segundo o esquema da
Figura 1.
Figura 1 - Reao de polimerizao do MMA.
Fonte: do autor.
A cintica de polimerizao vinlica via radicais livres foi descrita
por Billmeyer (1971), Rodriguez (1982) e Odian (1991). O mecanismo
de reao composto de trs etapas fundamentais: iniciao, propagao
e terminao. Importante ressaltar que podem ocorrer ainda outras
reaes, chamadas de reaes de transferncia de cadeia, em que ocorre
a desativao de uma cadeia polimrica em crescimento, deslocando o
radical para outra espcie presente no meio (LOUIE; CARRATT;
SOONG, 1985; RAFIZADEH, 2001; BRESOLIN, 2013). Essa reao
pode gerar o crescimento de uma nova cadeia ou, quando ocorre com
outra molcula de polmero, pode gerar ramificaes (JNIOR; 2012).
A iniciao composta por duas etapas. Na primeira etapa, o
iniciador ( I ) decomposto, formando um par de radicais livres ( R ). Esses radicais reagem com as molculas de monmero ( M ) formando a cadeia polimrica primria ( 1P ). As reaes de decomposio do
iniciador e a formao da cadeia polimrica primria esto
representadas, respectivamente, nas equaes (1) e (2):
RI dk 2
(1)
1PMRiqk
(2)
Onde:
34
dk : constante cintica da reao de decomposio do iniciador;
iqk : constante cintica da reao de iniciao qumica.
A etapa de propagao consiste na formao de uma nova cadeia
polimrica ativa e a fase onde acontece o crescimento do polmero. A
reao ocorre entre a cadeia polimrica primria ativa ( nP ), obtida na
iniciao, e o monmero ( M ) para formar uma nova cadeia intermediria ativa ( 1nP ), conforme Equao (3):
1nk
n PMPp (3)
Onde:
pk : constante cintica da reao de propagao.
Dessa forma, a cada nova etapa de reao, uma nova molcula de
monmero adicionada ao radical formado na etapa anterior.
importante ressaltar que as macromolculas formadas possuem taxas de
reaes diferentes devido s diferenas no comprimento de cadeias.
Entretanto, todas as taxas convergem para valores semelhantes. Essa
hiptese conhecida como Hiptese de Cadeia Longa e admite que
todas as cadeias apresentem a mesma reatividade, independente do
nmero de unidades monomricas (ODIAN, 1991; MACHADO, 2000).
A terminao a etapa final de crescimento de uma cadeia
polimrica numa reao de poliadio via radicais livres. Esse estgio
responsvel pela desativao de uma molcula em crescimento para a
formao de um produto estvel. As reaes de terminao podem
ocorrer por combinao e/ou desproporcionamento. Quando a
interrupo causada pela reao de dois radicais livres formando uma
nica molcula de polmero, o processo chamado de combinao.
Quando causada pela transferncia de um tomo de hidrognio de uma
cadeia em crescimento para outra o processo denominado de
desproporcionamento. Neste caso, ocorre a saturao da extremidade de
uma cadeia e a formao de uma insaturao na outra, gerando duas
molculas diferentes de polmero (JNIOR, 2012).
Na polimerizao via radicais livres do MMA, o tipo de
terminao predominante determinado pela temperatura, pois medida
que a mesma aumenta, a contribuio da terminao por
desproporcionamento tambm aumenta (JONES et al., 1986; ODIAN,
35
1991). Segundo Rafizadeh (2001) em temperaturas reacionais abaixo de
40 C, a terminao por combinao predominante. Por outro lado, a
60 C a terminao por combinao corresponde a 40% enquanto
desproporcionamento corresponde a 60%. Assim, considera-se que, em
condies usuais, a terminao por desproporcionamento
predominante para a polimerizao do metacrilato de metila
(PONNUSWAMY; PENLIDIS; KIPARISSIDES, 1998; CHIU;
CARRAT; SOONG, 1983; SANGWAI et al., 2005).
As Equaes (4) e (5) representam, respectivamente, as
terminaes por desproporcionamento e combinao enquanto as
Equaes (6) e (7) representam as reaes de transferncia de cadeia.
mn
k
mn DDPPtd
(4)
mn
k
mn DPPtc
(5)
XDXP nk
ntr (6)
XPMX ak 1 (7)
Onde:
nP , mP , 1P : representam a cadeia polimrica ativa de tamanho n, m e 1;
mD , nD ; nmD : representam as cadeias polimricas desativadas
de tamanho n, m e n+m;
tck : constante cintica da terminao por combinao;
tdk : constante cintica da terminao por desproporcionamento;
trk , ak : constantes cinticas das reaes de transferncia de
cadeia;
X : molcula de monmero, iniciador, solvente ou polmero; M : molcula de monmero.
2.2.2 Alternativas para melhorar as propriedades do PMMA
Na literatura h estudos que descrevem a incorporao de
nanopartculas (slica, diferentes tipos de argila, dixido de titnio,
dixido de zircnia) em matriz polimrica de PMMA para melhorar as
36
propriedades trmicas e mecnicas alm da resistncia corroso
(MESSADDEQ et al., 1999; WANG et al., 2005; YEH et al., 2006;
SONG et al., 2008; SILVA; DAHMOUCHE; SOARES, 2010; HU et
al., 2011; SALADINO et al., 2012).
Trabalhos mais recentes abordam a combinao do PMMA com
polmeros inorgnicos que possuem silcio na cadeia principal. Esses
materiais possuem estabilidade trmica, estabilidade s intempries,
hidrofobicidade, resistncia oxidao, resistncia corroso, e boa
adeso em substratos metlicos (KAN et al. 1996; ZOU et al., 2007;
LIN et al., 2005; LI et al., 2009; GARDELLE et al., 2011).
Considerando que o objetivo do trabalho o desenvolvimento de
polmeros hbridos de PMMA com polmeros inorgnicos com silcio na
cadeia principal, o prximo tpico aborda as diferentes classes desses
materiais com nfase no oligossilazano por ser o reagente utilizado na
tese.
2.3 POLMEROS INORGNICOS COM SILCIO NA CADEIA
PRINCIPAL
Os polmeros inorgnicos com silcio na cadeia principal so
conhecidos na rea de cermica como precursores polimricos ou
polmeros pr-cermicos, pois a partir de sua pirlise possvel obter
um material cermico. A pirlise um tratamento trmico durante a
qual, com o aumento da temperatura, ocorre um aumento do grau de
reticulao. Entre 400 C e 800 C ocorre a transio
orgnica/inorgnica que d origem s cermicas. A pirlise de
precursores polimricos teve incio na dcada de 60, com os trabalhos de
Aigner e Herbert (1960) e Chantrell e Popper (1965). Verbeek e Winter
(1974) apresentaram pela primeira vez a transformao de
polissilazanos, polissiloxanos e policarbossilanos em materiais
cermicos para aplicao em elevadas temperaturas. Yajima, Hayashi e
Imori (1975) converteram termicamente precursores em carbeto de
silcio (SiC). Desde ento, uma grande variedade de polmeros
precursores foi desenvolvida para ser utilizada na produo de materiais
cermicos binrios, ternrios e at quaternrios contendo Si em
combinao com C, N, O, B (SCHIAVON, 2002; COLOMBO et al.,
2010).
Cabe ressaltar que alguns precursores ditos polimricos so na
realidade oligmeros, pois possuem baixa massa molar. O precursor
polimrico selecionado para este trabalho (polissilazano HTT1800), por
37
exemplo, um oligmero e por isso, ser tratado ao longo desta tese
como oligossilazano.
Os precursores polimricos so divididos em classes de acordo
com os componentes existentes na cadeia principal, sendo os mais
utilizados: polissilanos, policarbossilanos, polissililcarbodiimidas,
polissiloxanos e polissilazanos. Na Figura 2 possvel visualizar a
forma estrutural bsica desses e dos demais materiais inorgnicos.
Figura 2 - Frmula estrutural dos precursores polimricos.
Fonte: adaptado de Colombo et al. (2010).
Cabe ressaltar que quando algum dos radicais R indicados nas
frmulas estruturais da Figura 2 possuir carbono, os precursores
polimricos podem ser classificados como: (a) poliorganossilano; (b)
poliorganocarbossilano; (c) poliorganossililcarbodiimida; (d)
poliorganossiloxano; (e) poliorganossilazano (COLOMBO et al., 2010).
Os polissilanos tem sua cadeia principal formada por ligaes Si-
Si. Esses precursores so amplamente utilizados em aplicaes de
fotocondutividade, luminescncia e para aplicaes que necessitam
38
resistncia trmica (MILLER; MICHL, 1989; WEST, 1989;
KREMPENER, 2012).
Os policarbossilanos possuem ligaes Si-C na cadeia principal,
podendo apresentar diversas formas estruturais, conforme demonstrado
na Figura 2. Dependendo da estrutura da cadeia, diferentes propriedades
podem ser obtidas. A linha de pesquisa mais estudada concentra-se na
rea das fibras de SiC (COLOMBO et al., 2010). Essas fibras so
utilizadas em compsitos de matriz metlica, cermica e polimrica,
sendo bastante resistentes em altas temperaturas.
As polissililcarbodiimidas apresentam na cadeia principal as
ligaes Si-N=C=N e so utilizadas principalmente para fabricao de
membranas. Vlger et al. (2006) utilizaram poliorganossililcarbodiimida
para fabricao de membranas de SiCN termicamente e quimicamente
estveis.
Os precursores polimricos conhecidos como polissiloxanos tm
o esqueleto de suas cadeias formado por ligaes alternadas de tomos
de silcio e oxignio (Figura 2). Esses precursores apresentam baixa
tenso superficial, hidrofobicidade, baixa temperatura de transio
vtrea, resistncia s intempries, resistncia qumica e trmica (KAN et
al., 1996; LEE; AKIBA; AKIYAMA, 2002; LIN et al., 2005; ZOU et
al., 2007; BAI et al., 2012). Estes materiais apresentam muitas
aplicaes em estado polimrico alm de serem precursores cermicos.
Algumas aplicaes comerciais destes compostos so: espumas
adesivas, lentes de contato com alta permeabilidade ao oxignio e
membranas a prova dgua (RIEDEL et al., 2006). Na literatura existem trabalhos utilizando o processo sol-gel para realizar a sntese de
polissiloxano com posterior aplicao como revestimento para proteo
contra a corroso de metais (SARMENTO et al., 2010; HAMMER et
al., 2013).
O polissilazano, por se tratar do material utilizado neste estudo,
ser descrito em maiores detalhes no prximo item.
2.3.1 Polissilazanos
Os polissilazanos so muito utilizados para obter cermicas do
sistema SiCN (KROKE et al., 2000; GARDELLE et al., 2011). Esses
precursores possuem ligaes Si-N ao longo de sua cadeia principal e
so obtidos principalmente a partir da reao de clorossilano com
amnia (TOREKI et al., 1990; YIVE et al., 1992; SCHIAVON, 2002;
COLOMBO et al., 2010), conforme Figura 3.
39
Figura 3 - Sntese de polissilazanos a partir de um clorossilano com amnia.
Fonte: do autor.
A reao apresentada na Figura 3 forma oligmeros, geralmente
cclicos, de baixa massa molar. Esses oligmeros, por possurem baixa
massa molar, so muito volteis e, durante o tratamento trmico, podem
evaporar ocasionando a reduo no rendimento cermico (LAVEDRINE
et al., 1991; YIVE et al., 1992; KROKE et al., 2000; COLOMBO et al.,
2010). As reticulaes dos oligossilazanos podem ser formadas
termicamente ou quimicamente a partir de perxidos ou catalisadores
(KROKE et al., 2000; SHIAVON, 2002; CHAVEZ et al., 2010). A
presena dos grupos funcionais Si-H, N-H e vinlico essencial para
obter um grau de reticulao adequado (LAVEDRINE et al., 1991;
BAHLOUL; PEREIRA; GOURSAT, 1993; CHAVEZ et al., 2010).
Assim, quanto maior a disponibilidade desses grupos reativos na
molcula, maior o grau de reticulao (YIVE et al., 1992). As quatro
reaes que geram a reticulao dos oligossilazanos esto apresentadas
na Tabela 1 (YIVE et al., 1992; KROKE et al., 2000; CHAVEZ et al.,
2010):
40
Tabela 1 - Reaes que geram reticulao dos oligossilazanos.
Nome da Reao
Mecanismo de Reao
Hidrossililao
Polimerizao
dos grupos vinlicos
Reaes de
transaminao
Reaes de
acoplamento
por desidrogenao
Quando a reticulao formada apenas termicamente, as reaes
ocorrem na seguinte sequncia: 1) reao de hidrossililao
(temperatura: entre 100 C e 120 C), 2) Reaes de acoplamento por
desidrogenao (nas temperaturas entre 300 C e 400 C) e reaes de
transaminao (250 C a 500 C) e 3) polimerizao dos grupos
vinlicos (300 C a 400 C). As taxas das reaes de hidrossililao e
polimerizao dos grupos vinlicos podem ser aceleradas,
respectivamente, na presena de catalisador e iniciador do tipo perxido
(LAVEDRINE et al., 1991; YIVE et al., 1992; CHAVEZ et al., 2010).
Cabe ressaltar que um elevado grau de reticulao forma polmeros
termorfixos e insolveis (LAVEDRINE et al., 1991; KROKE et al.,
2000). Assim, para a aplicao proposta, fundamental obter um
produto com baixo grau de reticulao antes da aplicao como
revestimento nos substratos metlicos. Um dos mtodos utilizados para determinar o grau de reticulao a extrao soxhlet (MERA et al.,
1999; ZOU et al., 2005(a); WANG et al., 2005; ZOU et al., 2007;
THOMAS; GILBERT; HOANG, 2006; IVANKOVIC et al., 2009;
ZHANG et al., 2013; WU et al., 2013).
41
Uma particularidade dos oligossilazanos que esses materiais
quando em contato com umidade e oxignio passam por reaes de
hidrlise e policondensao. A gua reage com a ligao Si-N para
produzir grupos silanis que condensam e formam unidades de siloxano
e, consequentemente, aumentam o grau de reticulao (TOREKI et al.,
1990; CHAVEZ et al., 2010). Dessa forma, para obter um produto com
baixo grau de reticulao necessrio manter o meio reacional livre de
umidade e oxignio. Sendo assim, conforme descrito anteriormente,
todas as reaes sero realizadas via polimerizao em soluo com
atmosfera de argnio.
A principal aplicao dos oligossilazanos est no
desenvolvimento de revestimentos para substratos metlicos, seja na
forma polimrica ou cermica. A seguir, sero descritos alguns trabalhos
existentes na literatura que abordam o assunto.
Gnthner et al. (2009a) estudaram o comportamento de diferentes
precursores (ABSE (policarbossilazano) e PHPS (polissilazano)) e a
influncia dos parmetros de ceramizao na formao, adeso e
composio dos revestimentos. A partir da anlise termogravimtrica
(TGA) em nitrognio, os autores observaram trs etapas de
decomposio: na primeira etapa, em torno de 200 C para o PHPS e
300 C para o ABSE, no houve perda de massa; na segunda etapa, em
temperaturas entre 200 C e 700 C para o PHPS e 300 C e 800 C para
o ABSE houve perda de massa devido transio de polmero em
cermica. No caso do PHPS houve liberao de Si-H e hidrognio
enquanto que o ABSE liberou amnia e metano; por fim, na terceira
etapa, acima de 700 C para o PHPS e 800 C para o ABSE, no houve
perda de massa significativa. A 1000 C o rendimento cermico para o
ABSE de 77% em massa e para o PHPS 85% em massa. Em ar, o
resultado de TGA do precursor ABSE mostrou um comportamento
semelhante e a principal perda de massa ocorreu ente 400 C e 600 C,
causada pela separao de amnia, metano e hidrognio. O rendimento
cermico do ABSE aps a pirlise a 1000 C em ar foi de 84% em
massa. Para o PHPS houve um ganho de massa devido oxidao do
silcio livre e gradativa substituio do nitrognio por oxignio,
ocasionando um rendimento cermico de 118% em massa na
temperatura de 1000 C. A composio qumica dos revestimentos foi
avaliada pela tcnica GDOES (glow discharge optical emission spectroscopy) em ar e nitrognio. Os autores detectaram oxignio na
superfcie do revestimento mesmo quando a pirlise foi realizada em
nitrognio. Este comportamento foi atribudo ao manuseio e
processamento dos revestimentos que, mesmo breves, expe os
42
materiais umidade e oxignio. Os autores observaram que a espessura
dos revestimentos proporcional concentrao do precursor na
soluo e velocidade com que a amostra erguida no processamento
por dip-coating. A excelente adeso entre o revestimento e o substrato
foi atribuda reatividade dos polissilazanos com grupos hidroxilas
presentes na superfcie do metal. O PHPS apresentou melhor proteo
contra oxidao devido ao seu maior rendimento cermico, atuando
como uma barreira fsica.
Kraus et al. (2009) desenvolveram revestimentos de precursor
polimrico ABSE (policarbossilazano) e carga passiva de nitreto de boro
cbico (cBN) para aplicao em substrato metlico. O procedimento
experimental, para obteno das solues, consistiu em dissolver o
ABSE e suspender o cBN (com auxlio de agente dispersante) em di-n-
butil-ter. Aps completa homogeneizao das misturas, estas foram
combinadas em um mesmo frasco e mantidas sob agitao mecnica. Os
substratos metlicos passaram por processo de limpeza com acetona e
isopropanol em banho de ultrassom. Os revestimentos foram aplicados
via dip-coating com diferentes velocidades de subida: 0,1, 0,3 e 0,5 m
min-1
. Os substratos recobertos com a mistura precursor/cBN passaram
por tratamento trmico (pirlise) a temperaturas entre 200 C e 800 C.
As anlises de TGA das amostras de cBN puro, ABSE puro e da mistura
ABSE/cBN/dispersante foram realizadas at 1000 C. O cBN puro no
apresentou perda de massa ao longo da anlise. A perda de massa do
ABSE ocorreu em duas etapas principais: na primeira etapa, entre 300
C e 500 C, a perda de massa foi atribuda liberao de amnia e na
segunda etapa, entre 500 C e 650 C, ocorreu predominantemente a
liberao de metano e hidrognio. A amostra de ABSE/cBN/dispersante
apresentou uma perda de massa de 4% a 300 C devido remoo do
dispersante. A perda de massa adicional de 8% acima de 300 C foi
atribuda aos gases liberados durante a reticulao e formao do
produto cermico do ABSE. Os autores observaram que a partir de 600
C o ABSE puro apresentou uma perda de massa de 15% enquanto a
amostra ABSE/cBN/dispersante perdeu 12%. A perda de massa menor
da amostra ABSE/cBN/dispersante foi consequncia da carga passiva de
cBN. Outro benefcio da incorporao do cBN foi a diminuio da
contrao do revestimento aps a pirlise. Com isso, os autores
conseguiram obter espessuras maiores em comparao ao ABSE puro,
mantendo os demais parmetros constantes. A partir das micrografias
das sees transversais dos revestimentos em diferentes temperaturas de
pirlise (200 C, 400 C, 600 C e 800 C), observou-se uma reduo na
porosidade dos revestimentos com o aumento da temperatura devido
43
maior contrao e, consequentemente, maior densidade do revestimento.
As micrografias das amostras pirolisadas a 200 C e 800 C
evidenciaram a presena de poros nos revestimentos, sendo estes
menores nas amostras pirolisadas a 800 C devido densificao
durante a pirlise. A boa adeso do revestimento com o substrato foi
atribuda formao de ligaes qumicas metal-O-Si. Para avaliar a
oxidao, os substratos, revestido e no revestido, foram submetidos a
diferentes temperaturas (500 C, 600 C e 700 C) e mantidos por 10
horas. O substrato revestido no apresentou mudana significativa,
mesmo na temperatura de 700 C. Em contrapartida, o substrato no
revestido teve aumento de massa, principalmente na temperatura de 700
C, atribudo oxidao do substrato. Os autores concluram que esse
tipo de revestimento pode ser utilizado para melhorar a resistncia
trmica do substrato metlico atuando tambm como barreira contra
oxidao.
Gnthner et al. (2009b), desenvolveram revestimentos com o
precursor polissilazano PHPS e diferentes tipos de cargas passivas (BN,
Si3N4, SiC, ZrO2). Dentre os materiais testados, apenas os resultados
com nitreto de boro (BN) foram satisfatrios. A metodologia empregada
consistiu em adicionar uma suspenso de BN a uma soluo de PHPS e,
aps a estabilizao da mistura, substratos metlicos (previamente
limpos) foram revestidos pelo processo dip-coating. Aps secagem em
estufa, os substratos revestidos passaram pelo processo de pirlise em ar
em temperaturas entre 500 C e 800 C. As espessuras dos
revestimentos foram ajustadas entre 5 m e 20 m. Os revestimentos
com dixido de zircnio (ZrO2) apresentaram problemas de
homogeneidade, pois as partculas da carga sedimentaram rapidamente
na soluo, levando a formao de um revestimento muito fino. Os
revestimentos com carbeto de silcio (SiC) e nitreto de silcio (Si3N4)
apresentaram bons resultados na inspeo visual, porm foi possvel
observar rachaduras nas micrografias das superfcies, obtidas por MEV.
Os revestimentos contendo BN mostraram boa homogeneidade e uma
superfcie livre de rachaduras. As anlises termogravimtricas das
amostras do PHPS puro, BN puro e PHPS/BN foram realizadas em ar
com o objetivo de avaliar o comportamento desses materiais durante a
pirlise. A anlise do PHPS mostrou um aumento de massa devido
oxidao do silcio livre e substituio do nitrognio por oxignio.
Ganho de massa significativo ocorreu entre 150 C e 500 C. O
rendimento cermico aps a pirlise em 1000 C foi de 111%.
Conforme esperado, BN puro no apresentou alterao de massa at 900
C, porm acima dessa temperatura houve um aumento de massa devido
44
formao de xido de boro. A perda de massa da amostra PHPS/BN
apresentou um perfil intermedirio queles do PHPS e BN puros. Alm
disso, nas temperaturas acima de 500 C no foi observado nenhuma
mudana; o rendimento em cermica na temperatura 1000 C foi de
107%. Os autores verificaram que a espessura crtica, acima do qual os
revestimentos sofreram rachaduras, foi de 12 m. Com a adio da
carga passiva, a contrao dos revestimentos durante a pirlise foi
menor, o que possibilitou obter uma espessura maior. A partir das
micrografias da superfcie dos revestimentos obtidas por MEV, os
pesquisadores observaram a homogeneidade na distribuio do BN na
matriz SiNO. A boa adeso do revestimento com o substrato foi
atribudo formao de ligaes qumicas metal-O-Si. A composio
qumica dos revestimentos foi avaliada pela tcnica GDOES (discharge
optical emission spectroscopy). Os resultados evidenciaram a existncia de B, N, Si e oxignio. A incorporao de oxignio foi atribuda
preparao da mistura precursor/carga passiva bem como da pirlise do
revestimento em ar. A anlise da proteo contra oxidao foi realizada
nos substratos metlicos, com e sem revestimento, na temperatura de
500 C por 100 horas. O metal sem revestimento apresentou uma
camada de xido de 20 m, escura e porosa. Os substratos com
revestimento de PHPS/BN, com espessuras de at 12 m,
permaneceram homogneos e livres de rachaduras.
Gnthner et al. (2011), desenvolveram revestimentos espessos a
partir de polissilazanos. Alm de utilizar PHPS e HTT1800, foram
selecionadas cargas cermicas (BN, Si3N4, ZrO2) e aditivos vtreos
(8472, G018-198, 8470 e G018-311) para o desenvolvimento dos
revestimentos. Os testes preliminares mostraram que os revestimentos
formados com BN ou Si3N4 e os diferentes ps de vidro no forneceram
homogeneidade suficiente para realizar os testes posteriores. Em relao
aos ps de vidro, dois deles (8472 e G018-198) sedimentaram
rapidamente na soluo devido maior densidade e tamanho de
partcula. Como resultado, os revestimentos contendo estes vidros no
apresentaram homogeneidade. O melhor revestimento foi obtido com a
seguinte composio: HTT1800 como precursor, ZrO2 como carga
passiva, p de vidro 8470 (vidro de borosilicato) e p de vidro G018-
311. Dessa forma, os autores desenvolveram composies de HTT1800
contendo 30% a 80% em volume de carga e p de vidro (zircnia +
vidro). Pelos resultados obtidos por TGA, a converso do HTT1800
puro em cermica ocorreu em trs etapas. A primeira etapa ocorreu em
torno de 130 C sendo associada evaporao de oligmeros contidos
no precursor. Na segunda etapa, ocorreu a reticulao do precursor. Por
45
fim, na terceira etapa, entre 300 C e 700 C, houve liberao de NH3,
CH4 e CO2. O rendimento cermico na temperatura de 1000 C em ar foi
de 82%. Na amostra zircnia/p de vidro, no ocorreu perda de massa
significativa at 1000 C. O comportamento da amostra
HTT1800/ZrO2/vidro mostrou um perfil intermedirio queles do
HTT1800 puro e ZrO2/vidro. Alm disso, quanto maior o percentual de
ZrO2 e p de vidro utilizado, maior o rendimento cermico encontrado
pelos pesquisadores. Os autores tambm testaram dois tipos de
jateamento para remover os contaminantes e camada de xidos que
poderiam existir na superfcie do substrato metlico. No primeiro teste,
foi realizado o jateamento dos substratos com xido de alumnio
(Al2O3), conhecido como corundum, e no segundo, com partculas de
vidro. Analisando-se as micrografias obtidas no MEV, os autores
identificaram que o substrato com superfcie mais uniforme foi jateado
com vidro. Como os revestimentos formados por p de vidro/cermica
se tornaram porosos quando submetidos pirlise, os autores aplicaram
uma primeira camada de PHPS com espessura de 1 m aps a pirlise
para evitar a oxidao do substrato e problemas de adeso. Diferentes
composies de HTT1800/ZrO2/8470/G018-311 foram aplicadas nos
substratos com PHPS e submetidos temperatura de 700 C em ar. As
micrografias obtidas permitiram visualizar revestimentos uniformes,
densos e sem rachaduras. A espessura crtica encontrada pelos autores
foi de 100 m. Alm disso, os testes de oxidao demostraram que os
revestimentos resistem oxidao at 700 C.
Gardelle et al. (2011) avaliaram a degradao trmica e as
propriedades antichama dos revestimentos de HTT1800 aplicados em
substrato metlico. Na formulao, alm do HTT1800, os pesquisadores
incluram 50% em massa do retardante de chama tri-hidrxido de
alumnio. Os revestimentos foram depositados em substratos metlicos
que j possuam uma camada de resina epxi. Para efeito comparativo,
alm dos substratos no revestidos, os autores utilizaram como
referncia um substrato metlico recoberto com material intumescente
(conhecidos por possuir excelente propriedade antichama). A partir do
Torch Test observaram que as temperaturas encontradas no estado estacionrio para os metais sem revestimento, HTT1800 puro e
HTT1800/tri-hidrxido de alumnio foram, respectivamente, 380 C,
350 C e 325 C. O HTT1800 mesmo sem o retardante chama (tri-
hidrxido de alumnio) formou uma barreira, pois conseguiu diminuir a
temperatura do estado estacionrio em 30 C em relao ao substrato
sem revestimento. O substrato com material intumescente apresentou
uma temperatura de 200 C (diferena de 180 C em relao ao
46
substrato sem revestimento). A degradao trmica do HTT1800, obtida
por TGA em nitrognio, apresentou trs etapas. A primeira etapa de
degradao, entre 70 C e 250 C, corresponde h liberao de amnia e
oligmeros, sendo a perda de massa total de 3,5%. Na segunda etapa,
entre 250 C e 500 C, o gs liberado composto predominantemente de
amnia e corresponde a uma perda de massa de 6,9%. A maior perda de
massa (12%) ocorre em temperaturas superiores h 500 C devido
liberao de metano. Os autores simularam o comportamento antichama
do HTT1800 e observaram que a degradao ocorreu principalmente
durante os 12 primeiros minutos e aps 1 hora de exposio ao fogo,
ainda foi possvel obter uma massa residual do material de 74%.
De acordo com os trabalhos descritos, os polissilazanos so
bastante aplicados como revestimentos em substratos metlicos, pois
possuem excelente adeso, boa estabilidade trmica e excelente
resistncia corroso. Dentre os oligossilazanos, o HTT1800, alm de
possuir essas caractersticas importantes que podero contribuir para
melhorar as propriedades do PMMA, possui hidrocarbonetos em sua
estrutura (Figura 4) que conferem maior hidrofobicidade e flexibilidade
ao produto final (AZ, 2013). Hidrocarbonetos so considerados
hidrofbicos, pois a diferena de eletronegatividade entre os tomos de
carbono e hidrognio considerada baixa.
Figura 4 - Estrutura bsica do oligossilazano HTT1800.
Fonte: do autor.
Os subndices 0,2n e 0,8n da Figura 4 indicam as fraes molares
obtidas a partir da reao de co-amonlise do diclorometilvinilsilano
(H2C=CHSi(CH3)Cl2) com diclorometilsilano (CH3SiHCl2) (FLORES et
al., 2013). Apenas dois trabalhos que abordam a polimerizao de
oligossilazano foram encontrados na literatura.
No primeiro trabalho, Toreki et al. (1990) estudaram uma rota
alternativa para obter um polissilazano, com maior grau de reticulao e,
consequentemente, maior rendimento cermico. Na reao clssica para
47
sntese desse precursor (clorosilano com amnia) so gerados
subprodutos indesejados os quais precisam ser removidos e oligmeros de baixa massa molar que reduzem o rendimento cermico.
Assim, os autores realizaram reaes de polimerizao via radicais
livres em massa e em soluo do oligossilazano 1,3,5-trimetil-1,3,5-
trivilciclotrissilazano com diversos iniciadores: perxido de benzola
(BPO), perxido de laurola (LPO), azobis(isobutironitrila) (AIBN) e
perxido de dicumila (DCP). Na primeira parte, as reaes foram
realizadas em massa com atmosfera de nitrognio para evitar reaes de
hidrlise e condensao que ocorrem na presena de ar e umidade na
atmosfera. Estas reaes levam indesejvel incorporao de oxignio
tanto nos precursores quanto na cermica obtida aps a pirlise. Os
iniciadores BPO e o LPO, mesmo nas temperaturas tpicas de
polimerizao e com o perodo de 18 horas, no promoveram a
polimerizao. O AIBN tambm foi ineficiente, porm os autores
observaram polimerizao parcial aps 48 horas em 135 C. O iniciador
DCP foi efetivo na polimerizao do 1,3,5-trimetil-1,3,5-
trivilciclotrissilazano, quando utilizado nas concentraes entre 0,1% e
1,0% em massa e temperatura reacional entre 120 C e 150 C. A reao
de polimerizao em massa na temperatura de 135 C com 0,5% em
massa de DCP durante 12 horas produziu um polmero insolvel e
transparente com rendimento de 100%. Segundo os pesquisadores, a
eficincia do DCP pode ser explicada pela formao de radicais metilas
que so mais reativos com os grupos vinlicos dos oligossilazanos. Com
o iniciador definido nessa primeira etapa, os autores realizaram reaes
de polimerizao em soluo utilizando tolueno como solvente.
Diferentes propores de oligossilazano e tolueno na temperatura de 135
C por 18 horas foram avaliados. Os pesquisadores perceberam que
quanto maior a quantidade de 1,3,5-trimetil-1,3,5-trivilciclotrissilazano
utilizado em relao ao tolueno, maior a massa molar do polmero. Os
polmeros sintetizados nessa etapa eram solveis. Os polmeros obtidos
apresentaram rendimentos cermicos de at 80% em ar, comprovando
potencial para diversas aplicaes como fibras e revestimentos.
O segundo trabalho encontrado, desenvolvido por Schiavon,
Sararu e Yoshida (2002), reproduziram a sntese de Toreki et al. (1990)
e investigaram com maior profundidade as propriedades do produto
obtido, porm com nfase na aplicao como precursor cermico.
Cabe ressaltar que a polimerizao em soluo vem sendo
empregada recentemente para polimerizar monmeros orgnicos na
presena de oligmeros inorgnicos. O objetivo desses estudos
48
conferir propriedades diferenciadas ao material final atravs da
combinao de propriedades entre os materiais orgnicos e inorgnicos.
A polimerizao em massa e em soluo de estireno com
HTT1800 utilizando DCP como iniciador foi investigada por Abarca et
al. (2013). Os autores observaram, a partir dos resultados de TGA, uma
reduo na perda de massa do poliestireno. A calorimetria diferencial de
varredura (DSC) mostrou uma diferena de 10 C entre as Tg para os
dois sistemas. O maior valor de Tg foi obtido para a sntese realizada em
massa e os pesquisadores atriburam esse resultado maior quantidade
de ligaes cruzadas.
Ribeiro (2013) realizou a sntese de polissilazanos com
acrilonitrila com o objetivo de melhorar as propriedades de
processabilidade do precursor para fabricao de fibras. A
polimerizao em soluo foi o mtodo selecionado pelo autor. Como
solvente foi empregado a dimetilformamida (DMF) e 2,2-
azobisisobutironitrila (AIBN) como iniciador. O monmero 1,1,3,3-
tetrametil-1,3-divinildissilazano e o oligossilazano comercial HTT1800
foram utilizados como precursores inorgnicos. Os resultados de
cromatografia gasosa indicaram uma baixa eficincia do AIBN em
polimerizar os compostos silazanos puros, no entanto a polimerizao na
presena de acrilonitrila aumentou consideravelmente sua converso. A
presena da acrilonitrila e dos compostos silazanos no produto final foi
comprovada pela espectroscopia de infravermelho por transformada de
Fourier (FTIR). Anlises de TGA mostraram que at 1000 C nenhum
dos materiais teve perda total de massa. O pesquisador atribuiu esse
comportamento formao de reticulao que forma ligaes cruzadas
entre as cadeias polimricas aumentando a energia necessria para
quebr-las o que impediu a degradao total do material sintetizado.
De acordo com os artigos apresentados na reviso bibliogrfica
dos polissilazanos, percebe-se que no h estudos relacionados com a
polimerizao em soluo entre o oligossilazano HTT1800 e MMA para
aplicao como revestimento protetor, comprovando o carter pioneiro
deste estudo.
2.4 CORROSO
Um dos principais problemas industriais a degradao de metais
causada pela corroso. Esse fenmeno no pode ser completamente
evitado, mas pode ser postergado (HAMMER et at., 2013). O fator
econmico a principal motivao para as pesquisas nesta rea (REVIE;
UHLIG, 2008), pois a corroso responsvel por grande parte dos
49
custos de manuteno (WANG; BIEWARGEN, 2009; GNTHNER et
al., 2009a; SCHTZ et al., 2012).
Na literatura, variadas definies de corroso so apresentadas e
por isso, comum a ocorrncia de divergncias. Entretanto, existe um
consenso geral (SOUZA, 2011), sendo possvel afirmar que a corroso
a deteriorao dos materiais pela reao qumica ou eletroqumica com o
meio (CHOU et al., 2001; SARMENTO et al., 2010; SAKAI et al.,
2012; HAMMER et al., 2013), podendo estar ou no associada a
esforos mecnicos (GENTIL, 2003).
A corroso em meio aquoso a mais comum, sendo caracterizada
por processos essencialmente eletroqumicos (WOLYNEC, 1998;
CAPIOTTO, 2006; MESSANO, 2007; SCHWEITZER, 2010). Esses
processos envolvem a transferncia de carga, caracterizando-se por
serem ataques graduais e contnuos (CHOU et al., 2001; YEH et al.,
2006; SARMENTO et al., 2010; SOUZA, 2011). Dessa forma, o
substrato metlico, ao sofrer corroso, perde eltrons e passa a atuar
como um nodo. Esses eltrons gerados so transferidos para outro
substrato metlico presente no mesmo sistema ou para o prprio metal
(MESSANO, 2007; SOUZA, 2011). Portanto, a corroso consiste de
uma reao andica, que gera eltrons, e uma catdica, receptora desses
eltrons. Todos os eltrons so gerados e consumidos na presena de um
eletrlito (WOLYNEC, 1998).
Diversas tcnicas foram desenvolvidas para melhorar a
resistncia corroso de metais (SHEN et al., 2005). Geralmente, as
tecnologias mais empregadas na preveno desse fenmeno so: (a)
adio de inibidores na fase aquosa, os quais so adsorvidos pela
superfcie do substrato metlico para prevenir as reaes corrosivas e (b)
deposio de revestimentos protetores (GENTIL, 2003; SARMENTO et
al., 2010).
Os inibidores mais utilizados e eficientes so compostos que
contm cromo na formulao. Esses inibidores possuem excelentes
propriedades anticorrosivas que garantem a durabilidade do substrato
metlico (SHREIR; JARMAN; BURSTEIN, 1994; BUCHHEIT, 1995;
CHOU et al., 2001; LIU et al., 2005; ROSERO-NAVARRO et al., 2009;
ZANDI-ZAND et al., 2011; SAKAI et al., 2012; RAHIMI;
MOZAFFARINIA; NAJAFABADI, 2013). Entretanto, so txicos ao
meio-ambiente e prejudiciais sade humana por serem considerados
cancergenos (DEY et al., 2002; ONO; TSUGE; NISHI, 2004; LIU et
al., 2005; ZANDI-ZAND; ERSHAD-LANGROUDI; RAHIMI, 2005;
ROSERO-NAVARRO et al., 2009; ZANDI-ZAND et al., 2011; SAKAI
et al., 2012; RAHIMI; MOZAFFARINIA; NAJAFABADI, 2013;
50
HAMMER et al.; 2013). Por essa razo, a pesquisa por materiais
alternativos tem levado ao desenvolvimento de diferentes revestimentos
(ZANDI-ZAND; ERSHAD-LANGROUDI; RAHIMI, 2005; ZANDI-
ZAND et al., 2011; SAKAI et al., 2012; HAMMER et al., 2013).
Entre as alternativas propostas esto os revestimentos orgnicos,
inorgnicos e os hbridos orgnico-inorgnicos. Os filmes polimricos
orgnicos possuem baixa resistncia trmica, enquanto que os
revestimentos inorgnicos podem apresentar microrrachaduras e
porosidade que prejudicam a proteo do substrato metlico
(ZHELUDKEVICH; SAKCADI; FERREIRA, 2005; SARMENTO et
al., 2010; HAMMER et al., 2013). Essas limitaes podem ser evitadas
a partir do desenvolvimento de revestimentos hbridos orgnico-
inorgnicos que formam materiais com propriedades complementares
que no so possveis obter apenas com os componentes individuais ou
possuem custo muito elevado.
Neste contexto, os materiais hbridos tm sido motivo de vrios
estudos, pois so alternativas no txicas, ambientalmente corretas e
capazes de fornecer proteo ao substrato metlico contra a corroso.
Na literatura no h estudos sobre as propriedades anticorrosivas
de materiais hbridos PMMA/HTT1800. Dessa forma, sero descritos a
seguir os trabalhos relevantes que sintetizam materiais hbridos,
utilizando PMMA como componente orgnico, para proteo contra
corroso de metais.
2.4.1 Materiais hbridos com propriedades anticorrosivas
A potencial aplicao dos revestimentos hbridos com
propriedades anticorrosivas obtidos via sol-gel foi destacada no trabalho
de Guglielmi (1997). Desde ento, diversos estudos foram realizados
com o objetivo de sintetizar materiais hbridos orgnico-inorgnicos
para formao de revestimentos protetores (MESSADDEQ et al., 1999;
WANG; BIERWAGEN, 2009; SARMENTO et al., 2010).
Atik et al. (1997) desenvolveram revestimentos hbridos de
PMMA e zircnia (ZrO2) a partir da tcnica de sol-gel para avaliar as
propriedades anticorrosivas atravs do ensaio de polarizao
potenciodinmica em meio cido (0,5 M H2SO4). O procedimento
experimental consistiu em diluir o n-propxido de zircnio
(Zr(OC3H7)4) em isopropanol e cido actico seguido de
homogeneizao em banho de ultrassom. Para completar a hidrlise,
PMMA e gua foram adicionados ao sistema. Diferentes percentuais de
PMMA (em volume) foram avaliados: 11%, 16%, 26%, 51%, 63%,
51
71%, 76%, 83%, 96% e 100%. Antes de aplicar o revestimento via dip-
coating, as placas de ao inoxidvel (AISI 316L) passaram por uma
limpeza com gua destilada e acetona. A secagem dos revestimentos
aplicados no substrato metlico foi realizada, primeiramente, em
temperatura ambiente durante 15 minutos. Decorrido esse tempo,
diferentes temperaturas e tempos de secagem, entre 100 C e 300 C e 1
h e 20 h, foram avaliados. A partir dos resultados de polarizao
potenciodinmica dos substratos no revestido e revestido com as
diferentes composies, os autores concluram que os filmes hbridos
formam uma barreira protetora que evita a penetrao do meio
corrosivo. A taxa de corroso dos materiais hbridos com tratamento
trmico a 200 C por 10 h em ar foi investigado em funo da
composio PMMA/ZrO2. Os polmeros hbridos com composio em
volume de PMMA entre 20% e 70% apresentaram baixa taxa de
corroso com valores praticamente constantes e, em comparao ao
substrato metlico sem revestimento, aumentaram a resistncia
corroso em um fator de 30. Os revestimentos que possuam mais de
80% em volume de PMMA apresentaram maior taxa de corroso. O
revestimento com 100% PMMA se mostrou completamente ineficiente e
no protegeu o substrato metlico. Para avaliar as diferentes
temperaturas e tempos de secagem, as taxas de corroso foram obtidas a
partir do revestimento com 63% em volume de PMMA. As menores
taxas de corroso foram obtidas nas amostras secas entre 200 C e 230
C por, respectivamente, 20 h e 1 h. Os pesquisadores acreditam que
abaixo de 200 C o revestimento no fica denso o suficiente para resistir
corroso. Em temperaturas superiores a 250 C, no h uma boa
resistncia corroso devido deteriorao do revestimento,
principalmente, por perodos longos de tempo. A resistncia do
substrato revestido com hbrido (63% em volume de PMMA) e seco a
230 C durante 1 hora diminuiu a taxa de corroso em um fator de 30
em relao ao substrato sem revestimento. Alm disso, foi observado
que os revestimentos com os materiais hbridos apresentaram melhores
propriedades anticorrosivas em relao ao ZrO2 puro. Nesse caso, os
autores observaram que houve menor quantidade de poros no
revestimento. A partir das micrografias obtidas por MEV-EDX (energy
dispersive x-ray detector), observou-se que o revestimento de 63% em
volume contm partculas polimricas na ordem de micrmetros
embebidas em uma estrutura amorfa. Os pesquisadores concluram que
o aglomerado polimrico forma pontos fracos ao longo do revestimento
uma vez que o PMMA puro no possui propriedades anticorrosivas.
Dessa forma, se os aglomerados fossem reduzidos, a taxa de corroso
52
seria ainda menor. Os revestimentos hbridos PMMA/ZrO2 obtidos
pelos autores melhoraram as propriedades anticorrosivas em relao ao
PMMA puro e at mesmo ao ZrO2. Entretanto, a presena do polmero
orgnico limita o uso desses materiais em temperatura acima de 250 C.
Messaddeq et al. (1999) tambm prepararam materiais hbridos
de PMMA e zircnia (ZrO2) pelo processo sol-gel para avaliar a
resistncia corroso do revestimento desenvolvido no substrato
metlico. Os autores avaliaram a influncia da concentrao do PMMA
na formulao e a influncia do nmero de camadas do revestimento no
ao inoxidvel (AISI 316L). O procedimento experimental consistiu em
diluir o n-propxido de zircnio (Zr(OC3H7)4) em isopropanol e cido
actico com homogeneizao em banho de ultrassom. Em seguida, gua
foi adicionada para completar a hidrlise. O PMMA, previamente
dissolvido em acetona, foi introduzido no meio reacional e a soluo
resultante foi submetida agitao em banho de ultrassom para manter a
homogeneidade. Antes de aplicar o revestimento via dip-coating, as placas de ao passaram por uma limpeza com detergente neutro, seguido
de gua destilada e acetona. As placas revestidas foram analisadas por
microscopia eletrnica de varredura (MEV). A partir das imagens
obtidas foi possvel observar domnios de zircnia envoltos por
domnios secundrios de PMMA. A partir dos grficos de polarizao
potenciodinmica, os autores concluram que os revestimentos com
incorporao de PMMA na zircnia aumentaram a resistncia do ao
corroso em relao ao xido puro. O menor ndice de corroso foi
obtido com o material hbrido que continha 17% em volume de PMMA;
concentraes menores que 17% resultaram em revestimentos no
contnuos gerando domnios com zircnia e consequentemente formao
de rachaduras nesses pontos. Em relao aos nmeros de camadas,
mesmo com o material hbrido que apresentou melhor resistncia
corroso (formulao com 17% em volume de PMMA) no houve
diferena significativa ao utilizar mais de uma camada de revestimento.
Os pesquisadores observaram que em concentraes menores de
PMMA, no h homogeneidade nos revestimentos e em concentraes
superiores, devido maior espessura, a aderncia no foi adequada, pois
durante os experimentos de corroso os revestimentos racharam e
desplacaram.
Ono, Tsuge e Nishi (2004) avaliaram a resistncia corroso de
metais revestidos com filmes polimricos hbridos de SiO2/PMMA e
SiO2/poli(vinil butiral) (PVB). O procedimento experimental ocorreu em
trs etapas: (1) dissoluo de tetraetoxisilano (TEOS) em cido actico e
gua; (2) adio de etanol a temperatura ambiente seguido de
53
aquecimento do meio reacional at 60 C e (3) adio dos polmeros
orgnicos PMMA e PVB separadamente nas solues de TEOS
previamente preparadas. Foram avaliadas duas concentraes de PVB
(0,5% e 1,0% em massa) enquanto para o PMMA foi avaliada apenas a
concentrao de 0,5% em massa devido sua baixa solubilidade em
etanol. Os revestimentos foram aplicados via dip-coating em dois diferentes substratos metlicos: ao inoxidvel e ao zincado. Aps
aplicao dos revestimentos, os substratos passaram por secagem em
estufa entre 200 C e 800 C. A taxa de corroso do ao inoxidvel
revestido com slica e com os materiais hbridos foi avaliada pela norma
Japonesa JIS G 0578. Seguindo a norma, os substratos foram imersos
em soluo 6% de cloreto frrico e a taxa de corroso foi obtida pela
perda de massa por unidade de rea e tempo aps 17 h a 50 C. Os
resultados evidenciaram que os substratos revestidos apenas com slica
(sintetizada via sol-gel com TEOS) e secos nas temperaturas entre 25C
e 200 C apresentaram maior taxa de corroso. Esse efeito foi atribudo
aos grupos hidroxilas que no condensaram o suficiente para garantir
uma barreira contra corroso. Os polmeros hbridos nessa mesma faixa
de temperatura apresentaram taxas de corroso menores, porm acima
de 350 C a taxa de corroso aumentou. Os autores atriburam esse
comportamento ao componente orgnico que, ao degradar em elevadas
temperaturas, forma poros que reduzem o efeito de barreira contra a
corroso. Ao comparar os substratos revestidos com materiais hbridos
SiO2/1,0% PVB e SiO2/0,5% PMMA, aps tratamento trmico na
temperatura de 500 C, os pesquisadores observaram que o hbrido com
PVB apresentou melhor propriedade anticorrosiva. Entretanto, ao
comparar os substratos revestidos com SiO2/0,5% PVB e SiO2/0,5%
PMMA, o hbrido com PMMA apresentou menor taxa de corroso. Os
autores atriburam esse comportamento menor quantidade de poros.
Dessa forma, as melhores propriedades anticorrosivas encontradas
foram aquelas dos revestimentos hbridos tratados termicamente entre
25 C e 200 C e com os revestimentos apenas de slica tratados entre
350 C e 50