耐耐耐プラズマプラズマ表面処理／CVD イットリア …. Etch rate mesurments for C...

耐耐耐耐プラズマプラズマプラズマプラズマ表面処理表面処理表面処理表面処理耐耐耐耐プラズマプラズマプラズマプラズマ表面処理表面処理表面処理表面処理／／／／／／／／CVDCVDイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアコートコートコートコートコートコートコートコート製品製品製品製品製品製品製品製品

““HighHigh--Purity CVD Yttria(YPurity CVD Yttria(Y22OO33) Coated Parts) Coated Parts””

耐耐耐耐プラズマプラズマプラズマプラズマ性性性性 Resistance Property To PlasmaResistance Property To Plasma

製品特長製品特長製品特長製品特長 Product FeaturesProduct Features

CVDCVDイットリアはイットリアは耐耐プラズマプラズマ性性に優れたに優れた高純度保護膜高純度保護膜です。です。

CVD Yttria is high-purity film which exhibits excellent resistance

to F-based plasma.

http://www.techno-q.com/

SiliconQuartz

AlN Alumina

Sapphire

CVD Yttria

S1

1.1581.000

0.1340.110

0.101

0.010

0.001

0.010

0.100

1.000

10.000

Rela

tive E

.R(Q

uart

z=1)

Fig. Etch rate mesurments for C4F

8-Plasma

Equipment : ICP Type RIE

Gas : C4F8 (20sccm) + O2 (10sccm)

Bias : Coil RF 1500W, Platen HF 100W

アルミナ

アルミナ

窒化アルミ

窒化アルミ

石英ガラス

石英ガラス

シリコン

シリコン

サファイア

サファイア

Resistance to Plasma HighLow

図は、石英ガラスのE.Rを1として相対表示。縦軸は対数スケール。

In this figure, E.R of each material is represented as relative value

which is normalized by “Quartz=1”.

断面SEM写真SEM Pictures of Cross-section

Quartz

石英ガラスへのイットリアコートYttria film/Quartz(Polished surface)

Yttria film

1μμμμm

Alumina

1μμμμm

セラミックスへのイットリアコートYttria film/Alumina

Yttria film

CVDCVDイットリアはイットリアはFF系系プラズマプラズマ耐性耐性に優れたに優れた保護膜保護膜です。です。

エッチング条件にエッチング条件にももよりますが、よりますが、CFCF系プラズマに対する系プラズマに対する

CCVDVDイットリア膜のイットリア膜のE.RE.Rは、石英ガラスの約は、石英ガラスの約1/1001/100です。です。

SFSF66に対しては更に耐性に対しては更に耐性ありますあります。。

CVD Yttria provides high resistance to F-based plasma.

When compared with Quartz, the Etch Rate of CVD

Yttria to CF plasma is 1/100. Even higher resistance

property is expected to SF6 plasma.

Applicable to chamber parts for 12”wafer process.

耐プラズマ性に優れたイットリア膜で基材表面をカバー耐プラズマ性に優れたイットリア膜で基材表面をカバー

CVD Yttria has excellent resistance property to plasma and

causes the longer life of chamber parts.

CVDCVD法で法で密着密着性性がが高い緻密イットリア膜高い緻密イットリア膜を形成を形成

イットリア膜中の不純物含有量イットリア膜中の不純物含有量

300mm300mmパーツ対応パーツ対応

CVD method enables to cover substrates with high adherent

and dense Yttria film.

CVD Yttria is high-purity material with low-impurity

concentration.

:: Na, Cu, Fe, Al < 0.2 wt ppm

350時間使用後時間使用後時間使用後時間使用後（（（（未未未未コートコートコートコート品品品品））））

700時間使用後時間使用後時間使用後時間使用後((((コートコートコートコート品品品品））））

Yttria coated window after

700 hours of use

Quartz window after

350 hours of use

用用 途途 Application : View Port

プロセスプロセス Process : SiO2 Etching

ガガ スス Gas : CF4+O2

初期膜厚初期膜厚 Initial thickness of Yttria film : 400nm

実装評価実装評価 Implementation Evaluation

NOTE: Used view port without Yttria film is

clouded by suffering damage from F gas.

湾曲した石英ガラス管の内壁にコーティングした事例湾曲した石英ガラス管の内壁にコーティングした事例

CVD method enables to cover inner wall of a quartz tube

with high adherent and dense Yttria film.

Coating sample to inner wall of curved tubes.

Tube Size: OD6.35××××ID4 mm

Film thickness: 100nm

Protecting inner wall of tubes from corrosion

配管内面を腐食配管内面を腐食((侵食侵食))から守るから守る

Excellent resistance to halogen gas

優れた耐ハロゲン性優れた耐ハロゲン性

Prevention of contamination

コンタミ防止コンタミ防止

High adhesion specific to CVD film

CVDCVD膜特有の高い密着性膜特有の高い密着性

コーティングコーティングコーティングコーティング事例事例事例事例 Coating Coating ApplicationApplication

Thermal Expansion Coeff. 0.55

40-400 (20‐320)

Dielectic Constant

at 1MH

Electrical Resistivityat RT

Yttria film

Density

1.6×1012Ω

g/cm3

10-6

/

kV/mm

5-6

Dielectric Strength

Fused Quartz

>1018

>1014

>1013

Yttria(Bulk) Alumina(Bulk)

7.2 7.2

>24 11 15 50

11 11 9.9 3.75

5.0 4.9 3.9 2.2

典型特性典型特性典型特性典型特性 Typical Property of CVD Typical Property of CVD YttriaYttria filmfilm

http://www.techno-q.com/

注記注記) ) 上記物性値は典型値であり、保証値ではありません。上記物性値は典型値であり、保証値ではありません。

NOTE: Properties are typical and should not be considered as specifications.

Typical Transmission

0

10

20

30

40

50

60

70

80

90

100

250 350 450 550 650 750 850 950

Wavelength (nm)

Tra

ns

mis

sio

n (

%)

Y2O3 0.2µm /Quartz T=5mm