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耐耐耐耐プラズマプラズマプラズマプラズマ表面処理表面処理表面処理表面処理耐耐耐耐プラズマプラズマプラズマプラズマ表面処理表面処理表面処理表面処理////////CVDCVDイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアイットリアコートコートコートコートコートコートコートコート製品製品製品製品製品製品製品製品
““HighHigh--Purity CVD Yttria(YPurity CVD Yttria(Y22OO33) Coated Parts) Coated Parts””
耐耐耐耐プラズマプラズマプラズマプラズマ性性性性 Resistance Property To PlasmaResistance Property To Plasma
製品特長製品特長製品特長製品特長 Product FeaturesProduct Features
CVDCVDイットリアはイットリアは耐耐プラズマプラズマ性性に優れたに優れた高純度保護膜高純度保護膜です。です。
CVD Yttria is high-purity film which exhibits excellent resistance
to F-based plasma.
http://www.techno-q.com/
SiliconQuartz
AlN Alumina
Sapphire
CVD Yttria
S1
1.1581.000
0.1340.110
0.101
0.010
0.001
0.010
0.100
1.000
10.000
Rela
tive E
.R(Q
uart
z=1)
Fig. Etch rate mesurments for C4F
8-Plasma
Equipment : ICP Type RIE
Gas : C4F8 (20sccm) + O2 (10sccm)
Bias : Coil RF 1500W, Platen HF 100W
アルミナ
アルミナ
窒化アルミ
窒化アルミ
石英ガラス
石英ガラス
シリコン
シリコン
サファイア
サファイア
Resistance to Plasma HighLow
図は、石英ガラスのE.Rを1として相対表示。縦軸は対数スケール。
In this figure, E.R of each material is represented as relative value
which is normalized by “Quartz=1”.
断面SEM写真SEM Pictures of Cross-section
Quartz
石英ガラスへのイットリアコートYttria film/Quartz(Polished surface)
Yttria film
1μμμμm
Alumina
1μμμμm
セラミックスへのイットリアコートYttria film/Alumina
Yttria film
CVDCVDイットリアはイットリアはFF系系プラズマプラズマ耐性耐性に優れたに優れた保護膜保護膜です。です。
エッチング条件にエッチング条件にももよりますが、よりますが、CFCF系プラズマに対する系プラズマに対する
CCVDVDイットリア膜のイットリア膜のE.RE.Rは、石英ガラスの約は、石英ガラスの約1/1001/100です。です。
SFSF66に対しては更に耐性に対しては更に耐性ありますあります。。
CVD Yttria provides high resistance to F-based plasma.
When compared with Quartz, the Etch Rate of CVD
Yttria to CF plasma is 1/100. Even higher resistance
property is expected to SF6 plasma.
Applicable to chamber parts for 12”wafer process.
耐プラズマ性に優れたイットリア膜で基材表面をカバー耐プラズマ性に優れたイットリア膜で基材表面をカバー
CVD Yttria has excellent resistance property to plasma and
causes the longer life of chamber parts.
CVDCVD法で法で密着密着性性がが高い緻密イットリア膜高い緻密イットリア膜を形成を形成
イットリア膜中の不純物含有量イットリア膜中の不純物含有量
300mm300mmパーツ対応パーツ対応
CVD method enables to cover substrates with high adherent
and dense Yttria film.
CVD Yttria is high-purity material with low-impurity
concentration.
:: Na, Cu, Fe, Al < 0.2 wt ppm
350時間使用後時間使用後時間使用後時間使用後((((未未未未コートコートコートコート品品品品))))
700時間使用後時間使用後時間使用後時間使用後((((コートコートコートコート品品品品))))
Yttria coated window after
700 hours of use
Quartz window after
350 hours of use
用用 途途 Application : View Port
プロセスプロセス Process : SiO2 Etching
ガガ スス Gas : CF4+O2
初期膜厚初期膜厚 Initial thickness of Yttria film : 400nm
実装評価実装評価 Implementation Evaluation
NOTE: Used view port without Yttria film is
clouded by suffering damage from F gas.
湾曲した石英ガラス管の内壁にコーティングした事例湾曲した石英ガラス管の内壁にコーティングした事例
CVD method enables to cover inner wall of a quartz tube
with high adherent and dense Yttria film.
Coating sample to inner wall of curved tubes.
Tube Size: OD6.35××××ID4 mm
Film thickness: 100nm
Protecting inner wall of tubes from corrosion
配管内面を腐食配管内面を腐食((侵食侵食))から守るから守る
Excellent resistance to halogen gas
優れた耐ハロゲン性優れた耐ハロゲン性
Prevention of contamination
コンタミ防止コンタミ防止
High adhesion specific to CVD film
CVDCVD膜特有の高い密着性膜特有の高い密着性
コーティングコーティングコーティングコーティング事例事例事例事例 Coating Coating ApplicationApplication
Thermal Expansion Coeff. 0.55
40-400 (20‐320)
Dielectic Constant
at 1MH
Electrical Resistivityat RT
Yttria film
Density
1.6×1012Ω
g/cm3
10-6
/
kV/mm
5-6
Dielectric Strength
Fused Quartz
>1018
>1014
>1013
Yttria(Bulk) Alumina(Bulk)
7.2 7.2
>24 11 15 50
11 11 9.9 3.75
5.0 4.9 3.9 2.2
典型特性典型特性典型特性典型特性 Typical Property of CVD Typical Property of CVD YttriaYttria filmfilm
http://www.techno-q.com/
注記注記) ) 上記物性値は典型値であり、保証値ではありません。上記物性値は典型値であり、保証値ではありません。
NOTE: Properties are typical and should not be considered as specifications.
Typical Transmission
0
10
20
30
40
50
60
70
80
90
100
250 350 450 550 650 750 850 950
Wavelength (nm)
Tra
ns
mis
sio
n (
%)
Y2O3 0.2µm /Quartz T=5mm