33
1 Probe Card for the Future 05 05 年 年 年 年 年 年 年 年 年 年 年 年 ’05 年 3 年年年年年年年 05. .23 年年年年

’05 年 度 事 業 概 要

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’05 年 度 事 業 概 要. 資料1. ’05 年 3 月期決算説明会 (’ 05. 5 .23 ). 将来の見通しに関する記述についての注意. 本資料で記述されている業績予想および将来予測は、現時点で入手可能な情報に基づき当社が判断した予想であり、潜在的なリスクや不確実性が含まれています。 そのため、様々な要因の変化により、実際の業績は記述されている将来の見通しとは異なる結果となる可能性があることをご承知おきください。. 半 導 体 の 製 造 工 程. 前工程. 酸 化. フォト リソグラフィ. 拡 散 スパッタリング. - PowerPoint PPT Presentation

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Page 1: ’05  年 度 事 業 概 要

1Probe Card for the Future

’’05 05 年 度 事 業 概 要年 度 事 業 概 要

’05 年 3 月期決算説明会 (’ 05. 5 .23 )

資料1資料1

Page 2: ’05  年 度 事 業 概 要

2Probe Card for the Future

将来の見通しに関する記述についての注意

本資料で記述されている業績予想および将来予測は、現時点で入手可能な情報に基づき当社が判断した予想であり、潜在的なリスクや不確実性が含まれています。そのため、様々な要因の変化により、実際の業績は記述されている将来の見通しとは異なる結果となる可能性があることをご承知おきください。

Page 3: ’05  年 度 事 業 概 要

3Probe Card for the Future

半 導 体 の 製 造 工 程

前工程

後工程

酸 化 フォトリソグラフィ

ウェハテスト

ダイシング ボンディング

パッケージ ファイナルテスト

拡 散 スパッタリング

Page 4: ’05  年 度 事 業 概 要

4Probe Card for the Future

ウ エ ハ ー テ ス トテスター

パフォーマンスボード

テスターヘッド

インターフェースリング

回転

上下

前後

左右

ステージ

カードフォルダーウェハー

プローブカード機構クランプ

プローバー

チャック

ヘッドプレート

Page 5: ’05  年 度 事 業 概 要

5Probe Card for the Future

世界の地区別 半導体市場規模世界の地区別 半導体市場規模

- 32.0

36.8 1.3 18.3 27.8 1.2 3.0 11.4

0

500

1,000

1,500

2,000

2,500

3,000

’ 00 ’ 01 ’ 02 ’ 03 ’ 04 ’ 05 ’ 06 ’ 07- 500.0- 475.0- 450.0- 425.0- 400.0- 375.0- 350.0- 325.0- 300.0- 275.0- 250.0- 225.0- 200.0- 175.0- 150.0- 125.0- 100.0- 75.0- 50.0- 25.00.025.050.0

欧州

米国

A/ P

日本

前期比

+33

+34

+37

+42

2,044

-29

-44

-22

-29

- 8

+12

+28

- 8

+16

+3

+22

+27

+19 +0 +2+10

+21 - 2 - 1+9

+41

+18

+ 3

+ 1

+5

+3

+13

+9

1,390 1,407

1,664

2,128 2,153 2,218

2,471

- 32.0

36.8 1.3 18.3 27.8 1.2 3.0 11.4

0

500

1,000

1,500

2,000

2,500

3,000

’ 00 ’ 01 ’ 02 ’ 03 ’ 04 ’ 05 ’ 06 ’ 07- 500.0- 475.0- 450.0- 425.0- 400.0- 375.0- 350.0- 325.0- 300.0- 275.0- 250.0- 225.0- 200.0- 175.0- 150.0- 125.0- 100.0- 75.0- 50.0- 25.00.025.050.0

欧州

米国

A/ P

日本

前期比

+33

+34

+37

+42

2,044

-29

-44

-22

-29

- 8

+12

+28

- 8

+16

+3

+22

+27

+19 +0 +2+10

+21 - 2 - 1+9

+41

+18

+ 3

+ 1

+5

+3

+13

+9

1,390 1,407

1,664

2,128 2,153 2,218

2,471

棒グラフ内の%は、地区毎の前年増減%予   測実  績

億ドル

対前年増減%

(出典: WSTS ’04 秋季予想)

Page 6: ’05  年 度 事 業 概 要

6Probe Card for the Future

プローブカードの世界シェアプローブカードの世界シェア

F社23.5%

K社8.6%

その他27.7%

M社12.9%

J EM16.4%Te 2.9%社

T 5.3%社

S社2.7%

M社12.5%

F社11.3%

その他17.9%

K社21.8%

P社5.4%

J EM15.4%

W社8.2%

T社7.5%

(’ 00 年度) (’ 04 年度)

(出典; VLSI   Research  レポート)

Page 7: ’05  年 度 事 業 概 要

7Probe Card for the Future

JEM 売上高実績推移

70 67

92

80

96

125

91

-19.5

-4.3

37.3

5.5

30.2

13.8

-13.0

0

50

100

150

'98 '99 '00 '01 '02 '03 '04-30.0

-20.0

-10.0

0.0

10.0

20.0

30.0

40.0

50.0連結売上高連結増減%

億円%

Page 8: ’05  年 度 事 業 概 要

8Probe Card for the Future

経 常 利 益 率

16.414.4

16.8

10

15

20

'02 '03 '04

Page 9: ’05  年 度 事 業 概 要

9Probe Card for the Future

52

37

50 5347

42

33 30 2927

0

10

20

30

40

50

60

'00 '01 '02 '03 '04

ロジック比率

海外比率

ロジック比率、海外比率ロジック比率、海外比率(’ 03 より連結で表示しております。)

Page 10: ’05  年 度 事 業 概 要

10Probe Card for the Future

JEM JEM 四 極 体 制四 極 体 制

JEM 台湾

JEM America

JEMJEM 韓国

JEM Europe

JEM 香港

JEM 上海

Page 11: ’05  年 度 事 業 概 要

11Probe Card for the Future

工 場 配 置工 場 配 置工場 主な製品 主要支援工場 Sub 工 場

熊本工場

Memory     100%Logic ( システム LSI 他 ) 40%

JEM 香港( Shenzhen )

三矢電子(熊本県)

本社工場 Logic (LCD-Dr. 他) 40%

JEM 香港( Shenzhen )

比内時計工業(秋田県)

静岡工場 Logic (マイコン他) 20%

JEM 香港( Shenzhen )

比内時計工業(秋田県)

Page 12: ’05  年 度 事 業 概 要

12Probe Card for the Future

JEMJEM のの PCPC一覧一覧ア

ドバン

スドPC

タイプ シリーズ

M Type

MA( LCD)

MB( Area Array)

MC(Memory)

MD(New Technology)

V Type

VC (VCPC)

VH (HAWK)

VS (VSCC)

VP(High Current)

VR(ROBIN)

C Type

CB(Blade)

CE(Epoxy)

Page 13: ’05  年 度 事 業 概 要

13Probe Card for the Future

JEMアドバンスドプローブカード売上JEMアドバンスドプローブカード売上高推移高推移

(VC、VH、VS (VC、VH、VS e.t.c.e.t.c. ))51.050.0

37.0

26.0

17.015.0

0

10

20

30

40

50

60

'01 '02 '03 '04 '05 '06

実績 計画

Page 14: ’05  年 度 事 業 概 要

14Probe Card for the Future

CE ( 型)の外観カンチレバー

針の形状

Page 15: ’05  年 度 事 業 概 要

15Probe Card for the Future

VC (垂直接触型 )の外観プローブカード

針の形状

Page 16: ’05  年 度 事 業 概 要

16Probe Card for the Future

VH (高密度垂直接触型 )プローブカード の外観

針の形状

Page 17: ’05  年 度 事 業 概 要

17Probe Card for the Future

VS (垂直 接触型 )のスプリング プローブカード外観

上部ピストン

下部ピストン

移動間隔

スプリング

プローブの構造

Page 18: ’05  年 度 事 業 概 要

18Probe Card for the Future

中 期 計 画 (’ 04~’ 06 )の骨 子

1.基本戦略      技術力で圧倒的な優位に立つ JEM を目指す

Break  Through for 2006!

2.連結売上高      ’ 06 年度   130 億円

4.プローブカードの世界シェア        20 %以上

3.経常利益率       常に 10 %以上

Page 19: ’05  年 度 事 業 概 要

19Probe Card for the Future

JEM JEM 売上高実績推移 と 中計(’売上高実績推移 と 中計(’ 0404 年版)年版)

87

70 67

91

126 130125

80

9692

-19.5

-4.3

13.8

3.20.85.6

30.2

13.0

37.3

0

50

100

150

'97 '98 '99 '00 '01 '02 '03 '04 '05 '06-30.0

-20.0

-10.0

0.0

10.0

20.0

30.0

40.0

50.0連結売上高連結増減%

実 績

億 %

中 計

110

年 計

中計

--

Page 20: ’05  年 度 事 業 概 要

20Probe Card for the Future

経 常 利 益 率

14.411.9

16.4

0

5

10

15

20

'04 '05 '06

(実績) (年計) (中計)

Page 21: ’05  年 度 事 業 概 要

21Probe Card for the Future

半導体事業方針(中期計画)半導体事業方針(中期計画)①①メモリ事業

1.VCの更なる市場拡大2.VHの本格的量産化

ロジック事業1.デバイス別戦略の徹底推進

2.新顧客、従来顧客の新分野開拓

Page 22: ’05  年 度 事 業 概 要

22Probe Card for the Future

VCシリーズ * 300mm ウエハー 向け     タッチダウン数   4 回 * 200mm ウエハー 向け   タッチダウン数 1 、 2 回

            

■ 最小 Pad ピッチ  : 100um ■ 最小 Padサイズ : 60um x 60um■ 針立てエリア  : 160mm x 160mm           

VHシリーズ * 300mm ウエハー 向け   タッチダウン数   1 、 2 、4 回

■ 最小 Pad ピッチ : 70um (LOC)■ 最小 Pad サイズ : 60um x 70um■ 針立てエリア : 160mm x 160mm

大口径プローブカードの 投入大口径プローブカードの 投入(ウエハテストの効率化を実現する)(ウエハテストの効率化を実現する)

Page 23: ’05  年 度 事 業 概 要

23Probe Card for the Future

VVC の 売 上 高C の 売 上 高

8

10

13

12

0

5

10

15

20

25

30

’ 04 ’ 05

[ ]新製品の本格市場投入

(年計)

25

18

億円

上期下期

Page 24: ’05  年 度 事 業 概 要

24Probe Card for the Future

VVH の 売 上 高H の 売 上 高

9

813

12

0

5

10

15

20

25

30

’ 04 ’ 05

25

17

[ ]新製品の本格市場投入

(年計)

億円

上期下期

Page 25: ’05  年 度 事 業 概 要

25Probe Card for the Future

半導体事業方針②半導体事業方針②営  業

1.提案型営業の推進

2.グローバル化の 一層の推進     ・・・グループ 間 連携強化による         『 Found HIS MTS』推進

3.マーケティング力の強化

Page 26: ’05  年 度 事 業 概 要

26Probe Card for the Future

半導体事業方針③半導体事業方針③生  産

1.アドバンスドPCの生産能力UP

2.ベトナム工場(委託工場)の立ち上げ3.SUB工場の一貫生産、短納期化4.オールドエ コノミー原低の徹底推進

5.製品設計力の強化6.ターゲットPC(リワークZero)を                目指した生産体制

Page 27: ’05  年 度 事 業 概 要

27Probe Card for the Future

開 発 方 針 開 発 方 針 

2.Mタイプの市場投入

1.独自技術を育む基盤確立      ・ コア技術力の強化

3.テストのパラダイムシフトへの対 応

① ウエハ一括プロービング技術の確立

② インテリジェントプローブカードの 具体化

Page 28: ’05  年 度 事 業 概 要

28Probe Card for the Future 半導体素子の高集積化

半導体素子の高集積化

システムLSI・微細ピッチロジッ

ク領域

MPU・ロジック領域

プローブカード技術革新の時代

Cantilever( CE シリーズ)

Cantilever( CE シリーズ)

VCシリーズ

VS シリーズ大容量メモリ領域

VHシリーズ

MCシリーズ

MBシリーズ

MAシリーズ

CENシリーズ

半導体技術革新とJEM製品・技術開発の分類と方向

プローブカードロード マッププローブカードロード マップ

Page 29: ’05  年 度 事 業 概 要

29Probe Card for the Future

次世代プローブカードの 投入次世代プローブカードの 投入  ・ MAシリーズを先発投入デバイスの軽薄短小化に対 応

MEMS技術による狭ピッチ : 20 、 25μm低針圧 : 1g以下コンタクト

:高安定性

多ピン : 1,000~ 2,000ピン

Page 30: ’05  年 度 事 業 概 要

30Probe Card for the Future

競 争 力 強 化 競 争 力 強 化 

1.クリーンルー ムを新設クラス 100 レベルのクリー ンルー ムの活用による品質向上の実現

2.針立て工程の自動化インサータ機の導入による  品質向上、生産性向上の実現

Page 31: ’05  年 度 事 業 概 要

31Probe Card for the Future

新 事 業 方 針新 事 業 方 針新 事 業

1 .  VSの本格的量産化2 .  パラメトリックPC市場開拓3 .  FPD分野 本格化4 .  イメージセンサー用特殊PC開拓5 .  F/T領域の拡大

Page 32: ’05  年 度 事 業 概 要

32Probe Card for the Future

’’0404 年度トピックス年度トピックス

1.東京証券取引所市場第2部上場(’ 05 年2月8日)

①会社知名度の向上 ②社会的信用力の増大

③優秀な人材の確保 ④資金調達力の増大

2.ISO 14001認証取得

全社レベルで’ 04 年9月に認証取得

Page 33: ’05  年 度 事 業 概 要

33Probe Card for the Future

企業の社会的責任(CSR)企業の社会的責任(CSR)

2.社会的側面・・・・法令遵守倫理規範遵守

3.環境的側面・・・・環境保全地域貢献

1.経営的側面・・・・永続的業績の確保 雇用の確保