Catalogo Prodotti 2014 - Sfogliami.it

Catalogo Prodotti 2014

ProdottiGambetti

Sistemidi Processo

CaratterizzazioneSuperficiale

Prodottidi Consumo

StrumentazioneControll

di Processo

Sistema e Gestione Qualità UNI EN ISO 9001:2008

G. Gambetti Kenologia S.r.l.

Via A. Volta 27, 20082 Binasco (Milano)Tel. +39 02 90093082 R.A.Fax +39 02 [email protected]

www.gambetti.it | www.plasmi.eu

Non possiamo pretendere che le cose cambino, se continuiamo a fare le stesse cose.

La crisi è la più grande benedizione per le persone e le nazioni, perché la crisi porta progressi. La creatività nasce dall’angoscia come il giorno nasce dalla notte oscura. È nella crisi che sorge l’inventiva, le scoperte e le grandi strategie. Chi supera la crisi supera se stesso senza essere “Superato”. Chi attribuisce alla crisi i suoi fallimenti e difficoltà, violenta il suo stesso talento e da più valore ai problemi che alle soluzioni.

La vera crisi è la crisi delle’incompetenza. L’inconveniente delle persone e delle Nazioni è la pigrizia nel cercare soluzioni e vie d’uscita. Senza la crisi non ci sono sfide, senza sfide la vita è una routine, una lenta agonia. Senza crisi non c’è merito. È nella crisi che emerge il meglio di ognuno, perché senza crisi tutti i venti sono solo lieve brezze. Parlare di crisi significa incrementarla, e tacere nella crisi è esaltare il conformismo, invece lavoriamo duro.

Finiamola una volta per tutte con l’unica crisi pericolosa, che è la tragedia di non voler lottare per superarla.

Albert Einstein

Grazie a una brillante intuizione dei due fondatori Glauco Gambetti e Clementina Borghesani, nel 1974 nasce la Gambetti Kenologia. Da allora l’azienda opera con successo nella vendita, distribuzione e assistenza in tutta Italia di strumentazioni per le tecnologie del vuoto e delle tecniche a esso correlate.

Nonostante la formula “siamo l’azienda leader del settore” sia piuttosto inflazionata, ci sembra comunque importante sottolineare che la nostra Filosofia è da sempre quella di selezionare, sul mercato mondiale, tecnologie e aziende particolarmente innovative per introdurle sul mercato nazionale.

Sistemi di Processo

Caratterizzazione Superficiale

Sistemi al plasma da tavolo

Prodotti di Consumo

Strumentazione Controllo di Processo

Gambetti Kenologia Vacuum technology and related solutions

Ben sapendo che i clienti sono il nostro patrimonio, cerchiamo di mettere un alto livello di attenzione nei rapporti con la clientela. Riteniamo che la vendita di prodotti ad alto contenuto tecnologico debba essere, prima di tutto, una consulenza al cliente, cercando di interpretare in primo luogo le necessità reali in modo da veicolare la vendita su ciò che è più utile e conveniente per il cliente in termini di costo/prestazioni.

Disponiamo di uno staff di 16 persone in grado di garantire alla clientela un accurato servizio di assistenza pre e post vendita, oltre a un reparto per la produzione di strumentazione da noi progettata e sviluppata.

I settori nei quali operiamo sono:

Sistemi di Processo

Oxford Instruments Plasma TechnologyFerrotec TemescalVon ArdennePink


Kla TencorPark SystemHysitronSemilabIBSS GroupTescan Orsay HoldingCressington Ion TofVLSI Standard


MKS InstrumentsKRI Kaufmann & RobinsonFerrotec Temescal

Prodotti di Consumo

KluberSolvay Specialty PolymersMaterion

Sistemi al plasma da tavolo Gambetti

Sistemi a plasmaSistemi a plasma multiusoComponenti

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Sommario

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Sistemi di Processo

Sistemi a elevate prestazioni per la rimozione, incisione, deposizione e crescita, con sviluppo dei relativi processi, di materiali utilizzati nelle micro e nanotecnologie, in settori diversi quali semiconduttori, optoelettronica, HBLED, fotovoltaico, MEMS, microfluidica, ottica di precisione e molto altro.

Oxford Instruments Plasma Technology

Sistemi di Processo

Sistemi ALD

FlexAL ALD Tool ALD con plasma remote & termico in un unico sistema flessibile.

Le tecnologie disponibili comprendono: Plasma Etch and Deposition, Atomic Layer Deposition, Ion Beam Etching e Deposition, Nanoscale Growth. La linea di prodotti comprende sistemi compatti e flessibili stand alone, utilizzati in ambito di ricerca, sistemi di produzione batch, cluster, cassette to cassette per processi ad alta produttività.

In alto OpAL ALD, a sinistra FlexAL ALD.

Sistemi Ion beam per etching e deposition

Sistema Ion Beam Optofab3000 Sviluppato specificamente per applicazioni ottiche ad alta qualità.

Sistema Ion Beam Ionfab500Plus Sistema a fascio di ioni ad alta precisione deposizione, sviluppato per il processo di grandi-batch.

Sistema Ion beam Ionfab 300Plus Offre la flessibilità di effettuare etch e / o deposizione e massimizzare l’utilizzo del sistema.

Ionfab 300Plus

OpAL ALD Tool ALD termico con opzione plasma in versione con carica-mento manuale.

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Sistemi plasma etching e deposition

PlasmaPro Estrelas100Sistema per Deep Silicon Etch offre il massimo in termini di flessibilità di processo.

PlasmaPro NGP1000 Sistema al plasma per grande serieSoluzioni di produzione batch per il mercato HBLED.

PlasmaPro 800Plus sistema per Etch & Deposizione Le soluzioni di grande capacità di processo open-loading per etch e di deposizione plasma.

Sistema PlasmaPro System400 PVD Sistema di sputtering magnetron per Physical Vapour Deposition (PVD).

Sistema PlasmaPro System133 Etch & Deposizione Sistema modulare per lavorazione di wafer.

PlasmaPro NGP80 Etch & Deposizione strumentoSistema open-loading compatto per plasma etch e deposizione.

Sistemi per la crescita in nanoscala

Sistema di crescita su nanoscala Nanofab700 e Nanofab800 Agile Crescita controllabile di nanotubi e nanofili con temperature flessibili fino a, rispettivamente, 700° C e 800 ° C.

In alto PlasmaPro Estrelas100,a sinistra PlasmaPro NGP80, in basso PlasmaPro NGP1000.

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Temescal UEFC-5700

Ferrotec Temescal

Impianti per evaporazione con cannone elettronico per il deposito di film metallici o ossidi e per applicazioni di lift-off nel settore della Microelettronica, Fotonica e Telecomunicazioni.

Vasta gamma di impianti sia da ricerca sia da produzione ad alta resa, con possibilità di configurazioni speciali, per ottenere la massima produttività nella deposizione dei metalli preziosi, minimizzandone la perdita.

Duomo per lift-off

Temescal FC-4400

Sistemi di Processo

Nuovo sistema di deposizione Temescal che consente di ottenere uniformità sino a ora possibile su sistemi di deposizione con cannone elettronico.Grazie al particolare design della camera, si sono ottenuti benefici nell’ottimizzazione nei processi di Lift-Off, oltre a basso deposito di materiale sulle pareti del sistema, che consente un abbattimento dei costi, quando si depositano metalli preziosi.

Sistema di produzione a elevata produttività che consente di processare fino a 30 wafer da 150 mm di diametro.Per avere veloci cicli di pompaggio è possibile installare 2 pompe crio-geniche sul load lock, che consentono di raggiunge-re il vuoto di processo in soli 15 minuti.

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Temescal FC/BCD-2800

Sistema di medie dimensioni adatto sia per la produzione sia per la ricerca e sviluppo su wafer di grandi dimensioni.Questo impianto è completamente compatibile in clean room, consente di poter avere una distanza tra il substrato e i campioni di 866 mm oppure di 1076 mm.

Temescal FC/BCD-2000

Sistema a campana, ideale per piccole produzioni o per ricerca e sviluppo.

Temescal FC-3800

Sistema ideale per la produzione per wafer fino a 150 mm di diametro, per applicazioni come il lift-off o il rivestimento di gradini; la capacità di carico è di 25 wafer per il processo di lift of e di 36 wafer per il processo di rivestimento dei gradini.

L’evaporatore Temescal BJD-2000 e FC2000 sono sistemi di evaporazione versatili, che possono essere equipaggiati con un’ampia varietà di accessori per soddisfare la maggior parte delle richieste.

Disegnati per essere installati in clean room, questi sistemi combinano il massimo della flessibilità, con la loro facilità di utilizzo. Il sistema FC-2000 con load lock consente alla sorgente di evaporazione di rimanere sotto vuoto durante il carico e scarico dei substrati.In alto FC/BCD-2800, a destra FC/BCD-2000.

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Impianti di evaporazione e sputtering per applicazioni industriali e di ricerca, per la deposizione di film sottili e ultrasottili, metallici e dielettrici, utilizzabili in diversi settori applicativi quali ottica, semiconduttori, elettro-ottica, display, telecomunicazioni.

Von Ardenne

Sistemi a plasma per attivazione superficiale, di materie plastiche, materiali biocompatibili e pulizia componenti.

Sistemi e tecnologie innovative per saldature void-free sottovuoto per dispositivi semiconduttori di potenza, moduli a circuiti ibridi e multichip, packaging elettronico.

Pink

Impianti industriali ad alta produttività in-line per il settore dei vetri per edilizia e automotive, fotovoltaico, film flessibili, trattamenti superficiali di nastri metallici, illuminotecnica.

Sistemi di Processo

In alto Pink Vadu300, a sinistra Pink camere da UHV speciali.

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Profilometri a stilo per la misura 2D e 3D

Alpha step D-100, Alpha Step D-120Profilometri entry level, consentono scansioni 2D e 3D con controllo della forza dello stilo fino a 0,03 mg e possibilità di misure su Z di 1,2 mm. Disponibilità di soluzioni per stitching e misura dello stress.

Profilometro meccanico a stilo P7Profilometro di alta gamma per campioni fino a 150/200mm con gestione attiva della forza di tastatura dello stilo, planarità di scansione certificata, generazione di sequenze semplici o articolate di misura, soluzioni per elevata produttività.

Profilometro meccanico a stilo P17Profilometro di alta gamma per campioni fino a 300mm con gestione attiva della forza di tastatura dello stilo, planarità di scansione certificata, generazione di sequenze semplici o articolate di misura, soluzioni per elevata produttività.

KLA-Tencor

Profilometri ottici

Ampia e assortita gamma di profilometri ottici interferometrici per misure semplici, veloci e affidabili.

Applicazioni: semiconduttori (monitoraggio CMP e metrologia bump), scienza dei materiali (misura dei film sottili, rugosità e misura dello stress), optoelettronica (microlenti e diffusori), MEMS (analisi dei trench e della velocità di attacco).

Aree applicative:- Struttura della superficie- Misura dei gradini- Misura della forma- Misura dello stress- Biologiche- MEMS- Ricostruzione 3D- Caratterizzazione dei materiali

I profilometri della gamma KLA sono dotati di software Apex che offre metodi avanzati di visualiz-zazione e analisi dei dati e delle superfici; sicuramente il miglior software di analisi di superficie attualmente disponibile sul mer-cato.

Dall’alto: profilometro ottico micro-XAM 100

e micro-XAM 800.

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Park System

Microscopi a forza atomica

NX10 il più accurato e preciso AFM al mondoL’NX10 rappresenta il nuovo punto di riferimento tecnologico della gamma di prodotti Park. Offre un impareggiabile livello di qualità e accuratezza dell’immagine, di velocità di scansione e di conservazione della punta utilizzata per la scansione, tutto questo in un sistema dal prezzo accessibile. Utilizza le più avanzate soluzioni tecnologiche tra cui il True Non Contact ModeTM, la più alta velocità di retroazione dell’asse Z, elementi di scansione XYZ a elevatissima linearità e materiali di costruzione termicamente autocompensanti per minimizzazione delle derive termiche.

NX20 analisi della difettosità e controllo qualità per campioni di gradi dimensioni

L’NX20 è l’unico AFM di fascia alta per campioni di grandi dimensioni che sfrutta la modalità True Non Contact ModeTM che consente di mantenere inalterata per un lungo periodo la qualità della punta. Con l’NX20 è possibile raccogliere dati con la migliore accuratezza e ripetibilità di misura disponibile sul mercato, sia per misure di rugosità che per il controllo della difettosità. Offre inoltre la più alta produttività è il più basso

costo di esercizio per l’intero intero ciclo vita preservando ed estendendo la vita delle punte per periodi di esercizio molto più lunghi rispetto a tecniche a intermittenza.

XE7 AFM da ricerca conveniente ed economico con gestione del campione flessibileIl modello XE7 è un AFM ideale per chi cerca uno strumento flessibile per ricerca e sviluppo ed è attento al budget senza dover sacrificare nessuna delle tecnologie peculiari di Park. Lo strumento supporta tutte le modalità di base e le opzioni avanzate presenti sugli altri modelli Park.

XE BIO AFM in liquido non a contatto con tecnologia SCM

Un potente microscopio che su una sola piattaforma integra tre tecnologie: AFM con True Non Contcat ModeTM, SICM (scanning Ion Condutive Microscopy) e IOM (inverted Optical Microscopy). L’XE-Bio è stato realizzato per acquisire immagini di campioni biologici in liquido, prevalentemente cellule e tessuti, potendo combinare simultaneamente informazioni e immagini dall’AFM dal SICM ICM e dal

microscopio ottico invertito. Queste tecnologie combinate fanno si che XE-Bio sia lo strumento ideale per lo studio di materiale cellulare in vivo e in condizioni fisiologiche.

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Hysitron

Hysitron® è una società leader nello sviluppo e commercializzazione di sistemi di caratterizzazione nanomeccanica sin dal 1992.Hysitron ha introdotto tecnologie pioneristiche quali la possibilità di ottenere immagini SPM in-situ associate alle misure di nanoindentazione e/o nanoscratch. I suoi prodotti si sono sviluppati seguendo principalmente l’evoluzione del mercato delle nanotecnologie delle ultime due decadi.

Serie TS Triboscope

I modelli della serie Triboscope possono essere interfacciati con la maggior parte degli AFM commerciali estendendone la possibilità di utilizzo anche per la caratterizzazione meccanica.Sono disponibili anche accessori e aggiornamenti del modulo stesso quali mappature di modulo di Young, analisi meccaniche dinamiche, delle emissioni acustiche, della resistenza elettrica di contatto.

Serie TI Tribointendenter

I modelli della serie TI sono strumenti di tipo stand alone che offrono sia la più ampia flessibilità di gestione dei campioni sia una vastissima gamma di tecniche e accessori implementabili. Gli strumenti sono dotati d’isolamento termico e acustico per garantire il più alto livello di stabilità durante l’esecuzione della misura e sono proposti con l’elettronica della serie performech® in grado di raccogliere e gestire i dati con velocità fino a 38kHz e con velocità di retroazione fino a 78kHz.

Serie PI compatibile con SEM e TEM

Gli innovativi prodotti della serie PI consentono l’esecuzione di misure nanomeccaniche all’interno di una camera SEM o TEM potendo così correlare in tempo reale le misure nanomeccaniche al comportamento topografico del campione sottoposto a misura.Inoltre è possibile l’utilizzo simultaneo dell’indentatore con altre tecniche normalmente utilizzate nei SEM, quali l’EBSD ad esempio, per lo studio in tempo reale della variazione della struttura cristallografica in funzione dei carichi applicati.

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Semilab

Ellissometro spettrale GES5E per analisi ottica di film sottili e ultrasottili

Il Sistema GES5E rappresenta oggi il cuore tecnologico e il prodotto di punta della Semilab nella gamma degli Ellissometri Spettrali grazie a un avanzatissimo design optomeccanico e all’elettronica ad alte prestazioni.Tra i vantaggi più significativi di questa piattaforma riportiamo la possibilità di eseguire misure in alta risoluzione e veloci utilizzando lo stesso hardware.Inoltre sono possibili misure in Trasmissione e Riflessione, Scatterometria, Luminescenza.

L’intervallo spettrale standard va dai 230 a 900nm può essere este-so sia nel DUV sia nel NIR ed è inoltre possi-bile utilizzare accessori quali celle per liquidi, ri-scaldanti, criostati ecc...Il GES5E è ampiamente utilizzato nei laboratori di ricerca e nelle uni-versità per la caratte-rizzazione dei film sottili utilizzati in settori appli-

cativi quali: semiconduttori, ottica, telecomunicazioni, foto-voltaico, chimica, biologia ecc...

IBSS Group

La società IBSS Group è stata fondata da Vince Carlino nel 2002 con l’intento di sviluppare tecnologie specifiche per la rimozione in-situ di contaminanti organici nelle camere a vuoto di microscopi SEM, TEM, XPS, ecc...In particolare nel 2007 il gruppo IBSS ha realizzato e brevettato un prodotto unico, il GV10x, oggi sorgente al plasma di riferimento per la rimozione in situ di contaminanti organici.

Sorgente downstream GV10x

Il plasma downstream GV10x consente di ridurre le contaminazioni da idrocarburi e carbonio da 10 a 20 volte più velocemente rispetto a sistemi tradizionali con vuoto da pompa rotativa.

Nello specifico la pompa turbomolecolare del sistema analitico può essere utilizzata con questo sistema senza nessuna limitazione e senza interrompere il software di controllo dello strumento su cui è installato (SEM, FIB, TEM. XPS ecc...).

ibss Group inc.

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Tescan Orsay Holding

La società Tescan è un fornitore globale di microscopi elettronici a scansione SEM.Attività principale della società, oltre alla commercializzazione dei propri prodotti, è un’intensa attività di Ricerca e Sviluppo orientata a una costante introduzione sul mercato d’innovative soluzioni tecniche di elevate prestazioni.

SEM Vega con emettitori termoionici (W, LaB6)

La serie Vega è giusta alla sua terza edizione ed è progettata per rispondere a un vasto assortimento di richieste analitiche. E’ disponibile sia con emettitore al W sia con LaB6 e con camere di dimensioni variabili, dalla più piccola SB alla camera gigante GM sia in alto sia in basso vuoto.

SEM Mira e Maia con emettitori a emissione di campo (FEG)

Microscopi a emissione di campo progettati per l’ottenimento d’immagini ad alta risoluzione spaziale. La serie Mira è un SEM FEG ad ampio spettro di utilizzo imaging, litografia elettronica, configurazioni analitiche ecc... La serie Maia invece è rivolta invece ad applicazioni di imaging in UHR in particolar modo per i settori dei semiconduttori e della biologia. Questi microscopi sono dotati di un’elettrottica particolarmente sofisticata che rendono l’esperienza d’uso degli stessi facile e intuitiva.

Sistemi a doppio fascio, elettronico e ionico, serie Lyra

La serie Lyra è stata realizzata per rispondere alle svariate necessità e applicazioni espresse dal mondo della ricerca e sviluppo accademica e industriale. L’eccellente risoluzione elettronica e le alte correnti disponibili consentono un proficuo utilizzo di tecniche analitiche quali EDX, WDX, EBSD o di applicazione di litografia elettronica. Il fascio ionico è utilizzato per la preparazione di lamelle TEM, deposizione di materiali ed esecuzione di procedure complesse quali la ricostruzione tomografica 3D.

Sopra Vega XMU, a destra in alto esemplare serie Lyra, in basso serie Mira.

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Sistema a doppio fascio FERA 3 Plasma FIB

Il modello Fera 3 introduce un nuovo e rivoluzionario concetto tecnologico. Questo sistema integra per la prima volta un fascio elettronico di tipo FEG con una sorgente ionica al Plasma di Xe a elevatissima densità che consente di incrementare la velocità di attacco e taglio dei materiali di circa 50 volte rispetto a una sorgente convenzionale a ioni di Gallio. In questo modo diventa possibile rimuovere molto velocemente volumi di materiale impensabili prima dell’introduzione di questa tecnologia aprendo la possibilità di nuove e importanti applicazioni nel settore dei semiconduttori, dei MEMS e dei materiali in genere.

Sistema TIMA Tescan Integrated Mineral Analyzer

Il TESCAN Integrated Mineral Analyzer (TIMA) è una soluzione hardware e software completa per l’analisi automatizzata di minerali per l’industria mineraria. Il TIMA misura l ’ a b b o n d a n z a del minerale, la dimensione del grano, le associa-zioni, le sezioni sottili e lucidate. Il livello di inte-grazione softwa-re e hardware tra SEM ed EDX consente eleva-tissime velocità di acquisizione e di raccolta dati per una valutazione rapida e affidabile delle modalità di ri-cerca ed estrazione dei minerali stessi.

Tecniche accessorie integrate nei prodotti Tescan

La microscopia elettronica a scansione è una metodologia d’indagine che si avvale da sempre di tecniche di supporto e/o complementari. La piattaforma hardware e software dei prodotti Tescan è stata realizzata con una architettura aperta per facilitare e massimizzare la possibilità di utilizzo e integrazione di tecniche accessorie consolidate o emergenti. Tra quelle già proposte e integrate da Tescan citiamo la litografia elettronica, l’analisi tof – sims, l’afm, la catodoluminescenza pancromatica e spettrale, la spettroscopia Raman, ecc...Possiamo installare qualsiasi sistema EDS, WDS ed EBSD delle principali aziende produttrici quali Bruker Nano, EdaxTsl, Oxford Nanoanalysis, Thermo Scientific.

In alto a sinistra FERA3-GM con TOF SIMS,a destra TIMA con autoloader.

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Cressington

CRESSINGTON

Sistemi di metallizzazione per la preparazione dei campioni per la microscopia elettronica.Ampio assortimento di modelli, materiali e accessori che consentono di adattare le caratteristiche dei film deposti a una vastissima varietà di campioni sia per esigenze di imaging che microanalitiche. Compatti, economici e semplici da utilizzare, offrono tempi ridotti di pompaggio e livelli di riscaldamento del campione trascurabili.

108 auto Sputter Coater

Lo sputter coater della serie 108 auto può essere usato in modo automatico o manuale. Il sistema permette inoltre di poter effettuare il rientro in camera del gas alla pressione atmosferica in automatico con un gas inerte o non a seconda delle preferenze del cliente.

108 Carbon Coater

Il metalizzatore 108carbon/A utilizza una innovativa sorgente di evaporazione. La tensione e la corrente sono monitorate da un sensore a filo, inserito all’interno della testa di evaporazione, grazie a questo accorgimento la sorgente è controllata come parte del ciclo di retroazione.Inoltre utilizzando le barre in grafite si riesce a garantire una elevata stabilità e riproducibilità nella deposizione.

208HR Metallizzatore per alta risoluzione

Le sue caratteristiche principali sono:• Ampia scelta di materiali da deposizione: il raffinato

progetto della testa magnetron e l’efficiente sistema della gestione del gas consentono di utilizzare una vasta gamma di target da sputtering

• Raffinato controllo dello spessore deposto: il film deposto è ottimizzato per i microscopi FEG utilizzando il controllore di spessore MTM-20 ad alta risoluzione

208carbon Carbon coater per alto vuoto

Il metalizzatore 208carbon rappresenta il più avanzato metalizzatore per applicazioni quali TEM, SEM e microsonde. Il suo progetto di tipo modulare consente una rapida modifica della configurazione garantendo così una impareggiabile flessibilità. Alimentatore della sorgente elettronica completamente integrata, con controllo della potenza di tipo a retroazione.

208HR

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ION TOF

Raffinatissimi sistemi di analisi di superficie basati sulla spettrometria di Massa a Tempo di Volo.La tecnica fornisce informazioni sia elementari sia molecolari di superfici, film sottili, interfacce e di volumi.

È applicabile in svariati settori quali semiconduttori, polimeri, vernici, rivestimenti, biomateriali, metalli, ceramiche, ecc...La rivoluzionaria tecnica LEIS, recentemente sviluppata e introdotta sul mercato, permette il riconoscimento delle specie elementari presenti nel solo strato atomico superficiale, rendendola così estremamente importante per lo studio di processi catalitici o per la crescita di film sottili.

VLSI Standard

Leader mondiale nella produzione di standard di calibrazione per profilometri, microscopi elettronici a scansione, AFM, elissometri, misuratori di stress o di resistività, con tracciabilità NIST.

Standards

Dall’alto: nanoCD standard, nanolattice standard per litografia, standard per misura dello spessore.In alto a sinistra Sistema di analisi di superficie TOF SIMS 5.

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MKS Instruments

Misura e controllo della pressione

La gamma di prodotti per il controllo della pressione di MKS Instruments è molto vasta: si va dai manometri capacitivi Baratron™ per arrivare alle differenti versioni di strumenti di misura e controllo della pressione, sia analogici sia digitali e a valvole; MKS offre la qualità più elevata negli strumenti per il controllo della pressione in ingresso e uscita al vostro processo.

Spettrometria di massa e analisi gas residui

I prodotti per l’analisi del gas MKS sono strumenti per il monitoraggio del processo in-situ innovativi, completamente integrati e con pacchetti specifici per le diverse applicazioni.Includono analizzatori di gas residui (RGA) anche in versione da processo, gestibili attraverso internet, per applicazioni di ricerca delle fughe, per sistemi analitici e software di controllo.

Techno logy fo r Produc t i v i t y

In alto Baratron assoluto, a fianco Quadrupolo Evision.In alto a destra FTIR Integrato MGS300, in basso Misuratore di vuoto serie 900.

Analizzatori FTIR / NDIR

Strumenti per l’analisi in tempo reale e in linea, a infrarosso da trasformata di Fourier e non dispersiva, in grado di analizzare accuratezze che vanno dai ppb a ppm, per monitorare simultaneamente speci multigas che includono NF3, NH3, H2, NO e N2O, oltre a gas con fino al 30% di H2O.

Tecnologia del vuoto

La vasta gamma di componenti da vuoto, valvole, teste, sottosistemi di gestione effluenti e camere da vuoto progettate su specifica, offre soluzioni differenti ai problemi di contaminazione e di degasaggio dei sistemi.I componenti da vuoto di MKS Instruments includono riscaldatori per line pre-vuoto, trappole e teste per applicazioni in cui sia richiesta la misurazione diretta e indiretta della pressione in tutto il range del vuoto.MKS offre inoltre una linea comple-ta di componenti progettati per appli-cazioni con elevati livelli di purezza, in applicazioni biotec-nologiche; oltre a camere da vuoto su disegno, compo-nenti e insiemi elettromeccanici per le industrie del settore solare, dei semiconduttori e medicale.

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Misura e controllo di flussi

La famiglia di prodotti per la gestione dei flussi di gas include misuratori di flusso massici, verificatori in situ di flusso, controllori del rapporto di flusso che dividono in modo accurato e ripetibile i flussi di gas in flussi precisi ai diversi punti del processo.I MFCS sono disponibili in versioni analogica o digitale, a bus di campo e Profibus™.Permettere ai nostri clienti di portare i loro prodotti e i loro processi sul mercato in modo più celere, più affidabile e più conveniente è il cuore della filosofia del progetto della linea di controllo e regolazione dei flussi.

Sorgenti al Plasma

MKS progetta e produce sorgenti a plasma da radiofrequenza e microonde, per energizzare e dissociare i gas. Vengono utilizzati gas a base di fluoro (come NF3) per pulire le camere da processo da elementi non desiderati che si depositano sulle pareti della camera stessa. Le sorgenti a plasma per chimiche di processi includono ossigeno, idrogeno e azoto.

Generatori DC e RF

MKS è azienda leader nella produzione di generatori radio frequenza (da media ad alta frequenza) a stato solido, affidabili e compatti. Questa linea di prodotti include reti d’adattamento d’impedenza, me-trologia del plasma, generatori DC pul-sati o in continuo, il livello di potenza sino a 60KW per applicazioni avan-zate di Thin Film.MKS produce inoltre amplificatori RF con elevati livelli di affidabilità per macchine per risonanza magnetica.

Sistemi di ozono

MKS offre uno spettro completo di prodotti per creare e rilasciare ozono in elevata concentrazione e flussi, ultrapulito e altamente affidabile in un processo.La famiglia di generatori di ozono include modelli compatti, ad alte concentrazioni e sottosistemi di rilascio di ozono in loop chiuso; sottosistemi di delivery di ozono liquido in alte concentrazioni, sistemi di igienizzazione con ozono, e accessori per miscelazione del flusso e distruzione di ozono.

Altre divisioni di MKS• Raccolta Dati e Analisi • Sistemi di controllo• Prodotti per Microonde

In alto descrizione prodotto, in alto a destra Generatore Elite RF 13,56 MHz.

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KRI Kaufmann & Robinson

Azienda fondata da Dr. Kaufman e Dr. Robinson per la produzione di sorgenti ioniche senza griglie “greidless”, sorgenti con griglie e sorgenti RF per applicazioni ion preclean, ion assisted deposition, ion direct deposition, ion etching.

KRI è una società specializzata nello sviluppo, produzione e vendita di sorgenti ioniche per il settore dei film sottili, sia ricerca e sviluppo sia industriali. Negli ultimi 30 anni KRI ha sviluppato una vasta gamma di sorgenti a fascio di ioni, tra cui la versatile EH1000 che può essere considerata come una continuazione del successo della MKII. KRI è l’inventore e titolare del brevetto della gridless End-Hall Technology.

Attualmente KRI detiene 23 brevetti nella tecnologia del fascio ionico con altri 10 brevetti in corso di approvazione.

Ferrotec Temescal

Cannoni elettronici da evaporazione in configurazione singolo crogiuolo, multicrogiuolo rotante, rod fed, alimentatori a stato solido fino a 15 KW, completi di tutti gli accessori necessari come sweeper, controllore del cannone, passanti, per la realizzazione di un sistema da deposizione con cannone elettronico.

Sorgente EH 3000 con hollow cathode

Cannone STIH-270-3CK

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Prodotti di Consumo

Prodotti di Consumo

Klüber

Soluzioni specifiche per la lubrificazione

Klüber Lubrication e G. Gambetti Kenologia sono partner per la lubrificazione nella tecnologia del vuoto.

Grazie a oltre 80 anni di esperienza e un’approfondita competenza tecnica, Klüber Lubrication è uno dei leader mondiali nel campo dei lubrificanti speciali. Klüber Lubrication offre oltre 2 mila prodotti diversi per specifiche applicazioni in pressoché tutti i settori industriali.

G. Gambetti Kenologia ha scelto i lubrificanti speciali Klüber Lubrication per impieghi nelle pompe per vuoto suddivisa per tipologia e condizioni di esercizio.

La collaborazione tra Gambetti Kenologia S.r.l. e Kulber è nei settori del vuoto, nei gas tecnici, e nei centri di ricerca e sviluppo.

Grassi

I grassi fluorurati Klüber sono chimicamente inerti, pertanto il loro utilizzo è fortemente consigliato nelle applicazioni dove sia richiesta una resistenza alla corrosione o alla ossidazione e dove si richiedono grassi ad alte prestazioni in condizioni estreme in presenza di ossigeno e umidità.

I grassi Klüber comprendono i prodotti della serie Klübertemp® GR e Klüberalfa® GR quali: RT15, CR 862, UT 18, Y VAC 3, YNX, ZNF, AR555, OT 20

Oli sintetici e fluorurati per pompe da vuoto

Kluber produce una vasta gamma di oli minerali, sintetici e florurati per la lubrificazione delle pompe da vuoto studiati in maniera specifica per la seguente tipologia di pompe:

• Pompe a Palette• Pompe diffusione• Pompe a lobi• Pompe turbomolecolari

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Solvay Specialty Polymers

Solvay Specialty Polymers è il nuovo nome dato a questa divisione del gruppo Solvay, leader nel settore dei prodotti fluorurati, dove detiene numerosissimi brevetti depositati.

Solvay Specialty Polymers è produttrice del fluido lubrificante Fomblin, che trova applicazione nei settori più avanzati della tecnologia industriale quali semiconduttori ed elettronica, processi chimici, trattamento delle superfici, farmaceutica, edilizia e architettura, materiali per il settore cavi e connettori, industria automobilistica e aerospaziale, cosmesi e molto altro ancora.

Il gruppo Solvay, con cui la Gambetti collabora con successo da ormai 10 anni, è presente in Italia con diverse aree produttive e di ricerca e sviluppo.

Linea Fomblin

I Fomblin sono polimeri sintetici a struttura polieterea, liquidi a temperatura ambiente e costituiti unicamente da fluoro, carbonio e ossigeno.

Caratteristiche principali• Solubilità bassa o nulla in acqua e nei più comuni

solventi organici• Resistività elettrica elevata• Compatibilità con un ampio spettro di materiali

(plastiche, metalli, elastomeri...)• Buon indice di viscosità• Infiammabilità nulla• Range molto esteso di temperature operative

(-90 ; + 230 °C )• Bassa volatilità• Zero ODP• Tossicità nulla

Fomblin VACFluidi per pompe da vuoto nel settore dei semiconduttori.

Fomblin LOX e LCFluidi con un grado di sicurezza eccezionale nelle applicazioni dove si è a contatto con l’ossigeno liquido ad alta pressione.

Fomblin ZLubrificante speciale per le applicazioni aerospaziali.

Linea Galden

Galden D, LS, HS, HTFluido utilizzato nelle applicazioni come la saldatura in fase di vapore, nei test elettronici e come fluido di trasferimento del calore (chillers, trasformatori elettrici).

Galden SVFluidi per il lavaggio che sostituiscono i tradizionali CFC.

Prodotti di Consumo28

Materion

Materion si occupa dal 1964 della produzione di specialità chimiche inorganiche, prodotti per l’evaporazione sotto vuoto e PVD. Ha conosciuto nel corso di tutti questi anni una solida e rapida crescita, resa possibile dalla diversificazione dei prodotti e dei mercati a cui si è rivolta.

Materion ha identificato alcuni settori dove concentrare il proprio campo d’azione riscuotendo un notevole successo: l’industria dei semiconduttori, il settore aerospaziale, ottica di precisione, oftalmica, tecnologie laser e display, offrendo sia prodotti standard che personalizzati.

Target per Sputtering

La G. Gambetti Kenologia Srl, quale agente esclusivo della Materion per l’Italia, dispone, già a catalogo, di oltre 500 diverse composizioni di target (metalli, ossidi, fluoruri, solfuri, nitruri, leghe, tellururi, siliciuri, boruri, carburi); qualora vi occorra un target con caratteristiche non standard, la Materion è sicuramente in grado di soddisfare questa vostra esigenza.

Prodotti da Evaporazione

La Materion è altamente specializzata nella produzione di prodotti per evaporazione sotto vuoto ed è in grado di offrire un’ampia gamma di materiali disponibili a catalogo. Grazie all’esperienza specifica maturata nel corso degli anni, Materion, oltre a disporre di una linea completa di prodotti standard, è in grado di produrre materiali speciali su richiesta del cliente.

Specialità Chimiche Inorganiche

Materion dispone di una vasta gamma di metodi di preparazione per poter offrire alla clientela qualsiasi tipo di materiale inorganico e soddisfare ogni tipo di esigenza. Dal metodo classico di sintesi per via umida, alla preparazione sotto vuoto in alta temperatura, fino ai forni a gas reattivi, Materion mette a vostra disposizione impianti, tecniche e capacità per preparare migliaia di composti.

A sinistra in alto Materion Target per il settore fotovoltaico,in basso Materion Target per large area coating.

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Sistemi al plasma da tavolo

Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti

Gambetti Kenologia

La Gambetti Kenologia si occupa da più di tre decenni di prodotti ad alta tecnologia nel settore delle tecnologie in alto vuoto, in quello analitico e nella caratterizzazione superficiale.

Recentemente ha iniziato a produrre piccoli sistemi a plasma da laboratorio, con relativi accessori. Questi sistemi sono studiati per fornire, a prezzi ragionevoli, sia ai laboratori di ricerca sia alle industrie, la messa a punto dei processi per l’attivazione di superfici plastiche o metalliche.La successiva industrializzazione è possibile con impianti dedicati.

Solare (PV)• Rimozione isotropica di nitruro di silicio per

isolamento dei bordi cella• Rimozione isotropica di silicio amorfo o cristallino• Possibilità di processare singole celle o lotti di celle

(in funzione delle dimensioni e capacità massima del sistema)

• Testurizzazione superficiale del silicio (mono e multi cristallino) per ridurre la riflettività e aumentarne l’efficienza

Bio medicalePulizia e modifiche superficiali per l’ottenimento di superfici idrofiliche oidrofobiche, utilizzabili per esempio nei seguenti campi applicativi: • filtrazione selettiva di fluidi biologici • impianti protesici (aumento della bagnabilità per una

più veloce osteointegrazione) • incollaggi tra materiali diversi (esempio aghi su

siringhe, cateteri, ecc...) • pulizia finale rimozioni dei residui organici a livello

atomico dopo i classici lavaggi industriali • lenti a contatto e intraoculari • stent cardiovascolari per rilascio controllato del

farmaco • pulizia finale dei vials per liquidi

Ottica e OftalmicaPulizia finale a livello atomico e pre-trattamento dopo i lavaggi industriali per migliorare l’adesione di rivestimenti antiriflesso, antigraffio e vari; polimerizzazione di strati antigraffio e antiappannamento.

Beni culturaliTrattamenti fungicidi e antibatterici per il recupero e la conservazione di libri e vetrate antiche.

Alcuni esempi di applicazioni

Semiconduttori• Rimozione del photoresist (stripping) e dei residui

dello stesso (descumming), polimero fotosensibile utilizzato nei processi fotolitografici di mascheratura

• Rimozione isotropica di polimeri organici (per esempio Poliammidi, ecc...) e Ossidi/Nitruri di Silicio

• Pulizia prima del wire bonding (sia dei bond pads sia dei chip carriers)

• Industria tessile Industria tessile*Pulizia e modifiche superficiali per l’ottenimento di superfici idrofiliche prima della colorazione o stampa su fibre naturali e sintetiche.

* Solo per ricerca e sviluppo e non per produzioni in continuo.

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Industria della plastica Pulizia e modifiche superficiali utilizzabili ad esempio nei seguenti campi applicativi: • incollaggio tra materie plastiche o di materie plastiche

con altri materiali • attivazione prima della verniciatura, con eliminazione

dell’uso di primers chimici • bagnabilità delle superfici per migliorare la qualità

della stampa • rimozione di residui di distaccanti dopo lo stampaggio,

per facilitare la stampa o verniciatura • rimozione di contaminanti e residui organici • fluorizzazione delle superfici per modifica delle

caratteristiche funzionali

Meccanica di precisionePulizia e modifiche superficiali utilizzabili per esempio nei seguenti campi applicativi: • incollaggio tra materie plastiche o di materie plastiche

con altri materiali • attivazione prima della verniciatura, con eliminazione

dell’uso di primers chimici • bagnabilità delle superfici per migliorare la qualità

della stampa • rimozione di residui di distaccanti dopo lo stampaggio,

per facilitare la stampa o verniciatura • rimozione di contaminanti e residui organici • fluorizzazione delle superfici per modifica delle

caratteristiche funzionali • pulizia finale a livello atomico di superfici metalliche e

ceramiche dopo lavaggi industriali per migliorarne la verniciabilità o per altri tipi di rivestimenti (es. PVD)

Sistemi al Plasma

Heron 80Heron 80 è il nuovo reattore delle linea di plasmi da laboratorio, nato grazie alla lunga esperienza della Gambetti Kenologia in questo settore. È un sistema semplice e di facile utilizzo, pensato per chi abbia la necessità di rimuovere il resist, pulire, modificare o attivare superfici di materiali metallici, plastici, ceramici, o cartacei. Ideale per Ricerca e Sviluppo o per medie produzioni.

Specifiche tecniche

Volume della camera: 25 litri ca.

Elettrodo: di tipo concentrico con gabbia perforata

Dimensioni del rack: 1750 mm (H) x 700 mm (W) x 600 mm (D)

Dimensione della camera: 290 mm (D)x340mm (P)

Alimentatore: RF 13,56 MHz 750 Watt con matching network automatica

Aria compressa: 2-6 Bars, filtrata

Ingresso gas: 2 ingr. standard (+ 1 opzionale), 1/4 fittings

Porta campioni: disponibili su richiesta diversi tipi di portacampioni

Alimentazione: 230 Vac/ 32 Amp, singola fase, 50 Hz Peso della camera: 130 Kg ca. (senza pompa)

Pompa da doppio stadio Fomblinizzata: 40 m3/h

Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti32

Sistemi a Plasma Multiuso

Tucano e Colibrì nascono grazie alla esperienza ventennale della Gambetti Kenologia nel settore del vuoto e dei plasmi.Si tratta di sistemi a plasma da tavolo, semplici e di facile utilizzo.

Tucano

Specifiche tecniche

Volume della camera di alluminio: ~ 5,5 litri

Elettrodo: con dark shield

Valvola regolazione gas: Swageklock manuale - opzionali 2 Mass Flow Controller

Dimensione della camera: Ø 150 mm L 330 mm

Generatore: 50 KHz 200 Watt - opzionale 13,56 MHz 200 Watt

Alimentazione: 110 V– 60 Hz e 220 V - 50 Hz

Ingombro box e peso: 450 mm L 280 mm H 440 mm P - ~25 kg senza la pompa

Specifiche tecniche

Volume della camera di alluminio: 2 litri

Elettrodo: con dark shield

Valvola regolazione gas: Swageklock manuale - opzionali 2 Mass Flow Controller

Dimensione della camera: Ø 100 mm L 280 mm

Generatore: 50 KHz 200 Watt - opzionale 13,56 MHz 200 Watt

Alimentazione: 110 V–60 Hz e 220 V - 50 Hz

Ingombro box e peso: 450 mm L 180 mm H 370 mm P - ~18 kg senza la pompa

Destinati a chi abbia la necessità di pulire, modificare o attivare superfici di materiali metallici, plastici, ceramici o cartacei. Ideali per Ricerca e Sviluppo o per piccole produzioni.

Colibrì

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Componenti

GGK-RF 15 alimentatore RF 13,56 MHz*

Generatore 13.56 MHz da 200 Watt, per applicazioni in plasma.Il generatore RF15 rappresenta sul mercato la soluzione più compatta e affidabile di generatore RF, in questo range di potenza.

È stato progettato per essere utilizzato in piccolo sistemi a plasma e sputtering. Grazie alla sua compattezza, può essere, in molti casi, montato molto vicino alla camera di processo. La progettazione moderna, unitamente all’alto livello di integrazione dei component interni consentono di venderlo a un prezzo molto vantaggioso.

* Disponibile con il pannello di controllo remote opzionale

Specifiche tecniche

Dimensioni: molto compatto 220x180x80mm 2,5 kg

Alta efficienza: lo stadio di uscita è efficace all’85% per convertire DC a RF; questo significa che è necessario un minimo raffreddamento

Frequenza: 13.56 MHz stabilizzato al quarzo

Completa protezione all’uscita: questa unità può lavorare su tutti i tipi di carico senza problemi, inclusi corti circuiti e circuiti aperti per un tempo illimitato; il limite WSVR è di 50Watt. Questo rende il generatore una soluzione ideale per l’utilizzo in combinazione con la rete d’adattamento modello GGK_MM2.

Interfaccia utilizzatore: di tipo D-Type a 15 pin, con segnali analogici (setpoint, lettura della potenza FRW e della potenza REV) tutti scalati a 10V. I segnali digitali di controllo sono livelli standard a 24V. Fornito di allarmi. Disponibile anche il pannello di controllo remote (opzionale). Raffreddamento: ad aria tramite una ventola interna da 50 mm. La ventola si accende solo in presenza di RF. Tolleranza della regolazione: migliore di 3% a fondo scala su 50ohm di carico.

Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti

Vantaggi

Nuovo Design: questo generatore utilizza componenti allo stato dell’arte quali il driver ad alte prestazioni, uno stadio di uscita di classe E e un modulatore switching per un preciso controllo della potenza. L’unità è costruita da 2 schede PCB, senza cablaggio.Questo aumenta l’affidabilità e riduce le dimensioni fisiche.Flessibilità: la Gambetti Kenologia è disponibile a effettuare version customizzate, quali lo scaling del segnale di controllo o altre frequenze in aggiunta ai 13.56 MHz, stabilità di uscita su qualsiasi carico.

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GGK-LF Generatore 50KHz*

Si tratta di una sorgente AC con frequenza di 50Khz per plasma, a basso costo e molto compatta. Il sistema fornito include il trasformatore di adattamanto con 3 prese intermedie selezionabili dall’utente e una completa circuitazione di misura 2500 ohm, selezionando una delle 3 possibili configurazioni per il trasformatore di uscita.

L’alimentatore è disponibile in due versioni, la prima con display e unità di controllo integrata, la seconda versione è nella versione black box ideale per chi voglia controllare l’alimentatore via PC o PLC, per questa versione è anche diponibile il controllore remoto GGK LF/RF.

Il sistema fornisce 500 watt@50 Khz, ed è possibile l’adattamento di impedenza da 150 a 2500ohm, selezionando una delle 3 possibili configurazioni per il trasformatore di uscita.

In alcune applicazioni, questo generatore può essere utilizzato in sostituzione all’RF, con costi sensibilmente inferiori e con minori problemi di messa a punto.

Questo generatore rappresenta un’alternativa ideale nelle applicazioni di Glow Discharge, rispetto alle sorgenti DC ad alta tensione. La scarica è molto più stabile e non si ha la formazione di cariche localizzate.

Può essere utilizzato per lo sputtering di target di materiali conduttivi o per applicazioni in PECVD.

Specifiche tecniche

Dimensioni: molto compatto 310x95x150 mm. 2 kg ca.

Potenza: 500W disponibile in un range d’impedenza di 3 a 1 senza la necessità di regolazione delle prese intermedie del trasformatore.

Connessione: diretta all’elettrodo; non è richiesta alcuna rete d’adattamento.

Sistema di misurazione: accurato e completo, tensione RMS, DC selfbias, letture della potenza disponibili sul connettore user.

Efficienza: elevata >90%

Protezioni: sovratemperatura, sovratensione, limitazione della potenza d’uscita.

Arc detection: rilevazione e spegnimento attivo degli archi (soppressione).

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Rete di adattamento automatica o manuale

In ogni sistema al plasma la rete d’adattamento costituisce un componente critico. Lo scopo dell’adattatore è di trasformare l’impedenza, complessa e variabile del carico del plasma, in 50 ohm resistive attraverso la linea di trasmissione (cavo coassiale) e di far operare il generatore in modo efficiente.

Produciamo attualmente una linea di reti d’adattamento manuali e automatiche per HF (13.56 MHz) in versioni anche personalizzate.

Qualità e selezione dei componentiLa componente più critica in ogni rete d’adattamento è rappresentata dagli elementi a reattanza variabile.La Gambetti Kenologia utilizza condensatori variabili in aria di alta qualità, dotati di doppio contatto strisciante per correnti fino a 3000Volts. Al di sopra di questo limite, vengono utilizzati i condensatori in vuoto Comet. Per livelli di potenza sino a 1Kwatt, i condensatori in aria sono generalmente la soluzione migliore: si muovono più velocemente, in rapporto ai modelli in vuoto, e la sintonia può essere ottenuta in meno di 2 secondi.

GGK-AM1 è la versione di punta delle nostre reti d’adattamento, robusto, molto affidabile e con al suo interno tutte le soluzioni necessarie a rendere l’installazione, la configurazione e il funzionamento facili e immediati.Considerando che l’impedenza del plasma è solitamente ignota, abbiamo compiuto notevoli sforzi progettuali per dare una configurazione del tuner rapida: sono disponibili diverse configurazioni della bobina.La bobina standard è realizzata con un tubicino di rame da 6 mm rivestito in argento, con 4 prese intermedie configurabili. Disponibile da 3-4-5-6 spire. Lo strumento è dotato di fori e staffe per il montaggio per assemblare fino a 3 condensatori fissi di pad.

Caratteristiche e Vantaggi

Possibilità di preset

Tunaggio rapido. Con un pre-set ottimale a meno di 1 secondo.

Entrambi i canali di posizionamento dei condensatori possono lavorare in modo indipendente in modalità AUTO – HOLD – PRESET. Questa flessibilità è una caratteristiche esclusiva della rete di adattamento di nostra produzione.

Questa unità può lavorare su tutti i tipi di carico senza problemi, inclusi corti circuiti e circuiti aperti per un tempo illimitato Il limite WSVR è di 50Watt. Questo rende il generatore una soluzione ideale per l’utilizzo in combinazione con la rete d’adattamento modello GGK_MM2.

Segnali digitali a 24V, analogici a 10V fondo scala.

Connettore d’uscita tipo 7/16.

Tutti gli I/O sono isolati otticamente.

LED di diagnostica sul pannello frontale.

Ogni condensatore ha il suo potenziometro per la limitazione HI – Low, settabile dall’utilizzatore. Questa è un’altra caratteristica esclusiva del prodotto Gambetti Kenologia.

Sistemi al Plasma da tavolo Gambetti36

CaratteristichePermette di controllare gli alimentatori GGK LF 500 e GGK RF-15.

Parametri di controllo:• Potenza erogata• Potenza riflessa• Setpoint• Allarmi• Stato• Trasmissione RS-232

LF/RF Controller

Il controllore GGK LF/RF è stato sviluppato per chi necessita di controllare manualmente gli alimentatori della serie LF a 50 KHz o RF a 13,56 MHz nella versione di tipo blackbox.

E’ un controllore semplice di tipo handheld ed è stato sviluppato per controllare qualsiasi parameto degli alimentatori della serie LF e RF, non necessita nessuna alimentazione esterna in quanto è alimentato dallo stesso generatore a cui è collegato.

Può anche pilotare i generatori della serie LF/RF attraverso la porta di comunicazione RS232 (se interessati a questa opzione dovete specificarlo in fase d’ordine).

Il controllore visualizza tutti i parametri del generatore a cui è connesso, oltre agli allarmi o gli errori che possono avvenire durante l’utilizzo, è dotato di un displey LCD a 4 linee e 20 colonne.

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Assistenza TecnicaInterveniamo in tempi rapidi su tutto il territorio nazionale.

Servizi Gambetti

Consulenza ApplicativaPre e post vendita.

Usato GarantitoProdotti di occasione sia nuovi sia usati e ricondizionati che godono di garanzia.

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G. Gambetti Kenologia S.r.l.Via A. Volta 27, 20082 Binasco (Milano)Tel. +39 02 90093082 R.A. | Fax +39 02 [email protected] | www.plasmi.eu

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