KAEL 회사소개서

KAEL 회사소개서We provide The Hitechnology & Future Environment

894, Tamnip-dong, Yuseong-gu, Daejeon, 305-510, KoreaTel:(042)931-6287~9 Fax:(042)931-9190http://www.kael.co.kr

KAEL

Ⅰ. 회사 개요

Ⅱ. 사업 영역

Ⅲ. 제품 구성

- 기초핵심소재

- 반도체 /디스플레이 사업

- 장치 및 시스템분야

ContentsWe provide The Hitechnology & Future Environment

Head Office R&D Institute

We provide The Hitechnology & Future Environment

www.kael.co.krConfidential3

Ⅰ. 회사 개요

㈜㈜ 카 엘카 엘 (KAEL Co., Ltd.) (KAEL Co., Ltd.)

설 립 일 1998 년 3 월 10 일 ( 원자력연구소 연구원 창업회사 )

사업영역

소재사업 Coating Resin, Catalyst

반도체 /디스플레이 공정클린사업 : CA Filter, AL FilterDry, Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber, F2 Trap 등

장치 /시스템 환경사업 : Total Off-Gas Control System, 대기오염 /악취방지설비 특수환경오염제어기 등

자 본 금 3,566 백만원

자 산 33,487 백만원

매 출 액 17,246 백만원 (2008 년 기준 )

종업원수 87 명 ( 연구개발인력 20%, 18 명 )

본 사 대전시 유성구 탑립동 894 번지 대덕테크노밸리내 대지 9,256.00 ㎡ (2,800평 )

부설연구소 대전시 대덕구 신일동 1690-2 대지 3,970 ㎡ (1,200 평 )



회사 개요

▷ 1998 년 주식회사 카엘 설립

( 원자력연구소 연구원 창업회사 )

▷ 1999 년 NH3/O3 제거용 CA Filter 국산화

▷ 2000 년 공장 및 기업부설연구소 준공

▷ 2001 년 반도체공정용 CA Filter 적용

▷ 2003 년 CA Filter 삼성반도체 납품

▷ 2005 년 KOSDAQ 상장

▷ 2005 년 디스플레이 공정용 CA Filter 납품

▷ 2006 년 CA Filter 중국 / 싱가폴 수출

▷ 2007 년 신개념 Filter Media 개발 및

미주시장 진출

태국시장 (SEIKO) 진출

▷ 2009 년 세계 4 대 필터 제조사 Media 공급 계약

카엘 연혁카엘 연혁

▷ 1999 년 유망중소기업지정 (KAERI/ 대전시 )

▷ 1999 년 ISO 9001:2000 인증

▷ 2002 년 CA Filter TEL 인증

▷ 2003 년 기술혁신형 중소기업 (INNO-BIZ) 선정

▷ 2003 년 기술혁신상 금상수상 ( 국무총리상 )

▷ 2003 년 CA Filter 삼성 Qual 인증

▷ 2005 년 우수납세자 국세청장상 수상

▷ 2005 년 벤처기업 재지정 ( 신기술기업 )

▷ 2006 년 ISO 14001:2004 ( 환경경영시스템 ) 인증

▷ 2007 년 수출유망중소기업 인증

첨단기술기업지정 ( 과기부 )

OHSAS 18000 인증

▷ 2008 년 녹색에너지대상 수상 (PAS)

카엘 주요 인증카엘 주요 인증 //수상 경력수상 경력



연구개발 현황

CA Filter 개발 (Carbon Type, Fabric Type, Pleat Type)

반도체 유해가스 제거용 Coating Resin 개발1999 년

2000 년

VSA 방식을 이용한 VOC 회수 장치 개발

O3 CA Filter 개발

NH3 CA Filter 개발 (Carbon Type)

2001 년 이온교환섬유와 이온교환수지를 이용한 Media 제조와 이를 응용한 Wet Scrubber 장치 개발

NH3 CA Filter 개발 ( 이온교환부직포 Type, 이온교환수지 Type)

년 도 개 발 명

Ion Exchange Scrubber 와 Coating Resin 을 이용한 소각로 유해가스 제거기술 개발

CO Filter 개발

Hybrid Filter(O3+NOx) 개발

NF3, ClF3, AsH3, PH3, BF3 제거용 Coating Resin 개발

2002 년

특수환경오염제어기 개발 ( 산업용 , 화장실용 , RI 용 , 야채 /화훼용 )

Hybrid Filter(NH3+SOx+NMP+Amine+NOx) 개발 Cyplus CA Filter 개발 ( 삼성반도체와 공동 특허취득 ) Ion Exchange Scrubber 개발

2003 년



연구개발 현황

Acid CA Filter 개발 ( HCl, Cl2, HF, SOX, NOX, 기타 부식성 Gas) Microwave Dryer 개발 Organic CA Filter 개발 (Display 공정 적용 )

2004 년

년 도 개 발 명

2005 년

PFC Scrubber 시스템 개발 , CO/CO₂ 흡착제 개발 Coating Resin 개발 (HCl, BCl₂ 등 ) Hybrid CA Filter 개발 (NH₃/ SOX) 성형활성탄 개발 대덕연구개발특구 기능성 나노기공소재 개발 및 사업화기업 선정

2006 년 액상촉매제를 이용한 VOCs 저감설비 기술도입 NGM (New Generation Media) Filter 개발 국산개발 군용 Coating Resin (MIL-C-1372D 규격 ) 성능시험 인증 (GB 시험 제외 )

2007 년 Tri-Plus Filter 개발 (Photo ArF Scanner 장비용 유기물 필터 ) AOCS System 개발 ( 산배기가스 처리용 2 차 Scrubber) PAS System 개발 ( 냉각탑 백연제거 시스템 ) V-Bank Type 필터개발

2008 년 WFVOC 개발 ( 유기물제거 시스템 ) N2O 제거 촉매기술도입 및 환경부 환경기술개발사업 선정



Ⅱ. 사업 영역

사 업 영 역 사업부문별 매출구성

응용사업

반도체 /디스플레이 공정클린화 장치사업분야

특수가스제거

확장사업

산업환경개선 대기오염방지사업 실내공기질 개선

수처리

국방사업

핵심소재

Coating Resin Catalyst

□ 특 허 보 유 현 황 - 복합흡착제를 사용하여 반도체 제조공정에서 발생되는 배기가스를 처리하는 처리방법 - 케미컬 필터 미디엄 , 케미컬필터 및 이의제조 방법 등…

특허 64 건 , 실용신안 11 건 보유

80

Equipment/System

Gas Scrubber

( 단위 :억 )CA Filter

2003 2004 2005 2006 2007 2008

87

17

5 8

110

15

15

3

80

21

2

14

27

3

15 10

7

Export

45

109 103

138 129 117

14

30

9

2

172



기술 및 영업 Network

사업분야 주요 Network

연구개발

반도체 사업

디스플레이 사업

환경 및 특수사업



Ⅲ. 제품 구성

사 업 구 분 적용 주요제품

기초 핵심소재

반도체 /

디스플레이 사업

CA Filter ( NH3, O3, Organic, ACID, SO2, Amine, SOx, NOx, NMP... )

CYPLUS-1000 Series ( FFU 용 )/ CYPLUS-2000 Series ( 순환기용 )

CYPLUS-3000 Series ( 외조기용 )/ CYPLUS-5000 Series ( 장비용 )

CYPLUS-6000 System A-Line Filter

ALPLUS-1000, 2000, 3000 Serise Gas Scrubber/Resin, Ion Exchange Scrubber

장치 및

시스템분야

대기오염방지시스템 (VOC 회수 /제거설비 , 악취제거설비 , De-NOx 설비 ) 특수가스제거장치 (Gas Filtering System, 특수환경오염제어기 ) Total Off-Gas Control System

PAS ( 백연제거시스템 ) , KWRF( 산배기처리시스템 )

군용 Coating Resin , 군용 방독면 정화통 가스여과기 ( 함상용 , 전차용 )

Coating Resin (Impregnated Active Carbon, Inorganic Adsorbant, Catalyst)



기초 핵심 소재 - Coating Resin

성형 Coating Resin Cl2 무기흡착제 HCl 무기흡착제 PFC 분해촉매

( 주요 용도 및 적용처 )

반도체 /디스플레이 클린룸 화학오염물질 제거 부식성 가스 제거 방사성관리구역 방사성가스 제거 소각로 다이옥신 제거 군용 독가스 제거 CO Gas 제거 악취 및 VOCs 제거

Resin 성형 공정

기초 소재 자체 개발 양산 – 맞춤형 소재



반도체 및 디스플레이 산업용 - 주요 제품

크린룸 &장비유지 CA FilterPleat TypeTray Type

V-Bed TypeRound TypeV-bank Type

생산공정상 불량률 증가의 직접적인 원인이 되는 암모니아 , 오존 , 유기물 등을 제거

구 분 주요 기능 경쟁사 대비 비교우위

기술적 우위 저 압력손실 None Out-gassing Long Life Time

원가 및가격경쟁력

흡착제 자체 생산 원부자재 자체 가공

납기단축 및 A/S

자체 원천기술보유분석 장비 /능력 보유

반도체 및 디스플레이 관련 소재 , 장비의 국산화



CA Filter ?

V-Bank

V-BED PLEAT

Round

TRAY

HYBRID

1960 1970 1980 1990 2000 2010 2020

오염

원의

영향

시대별 반도체 오염원 및 제거기술

Metal Contaminant(Wet Cleaning Tech)

Air Particle Contaminant( 밀폐공간유지 /HEPA Filter)

Chemical Gases(CA Filter, 수입 )

Chemical Gases (Mix / organic)(CA Filter 국산화 )

Oxygen etc

[ 공기청정협회 공기청정기술지 06/12]

주된 오염원 및 제거대상 제거기술 및 방법

CA Filter Type

고 청정공간 유지 ( 화학오염원 ) 를 통한 생산성향상의 필수품



CA Filter ?

Type KAEL’s ModelTarget Gases

MA MB MC MD Ozone VOCs

CYPLUS

CYPLUS-1000 Series o o

CYPLUS-1000 Series o o o

CYPLUS-1000 Series o o o o o

PLEATCYPLUS-1000 Series o o

CYPLUS-2000 Series o o o o

TRAY CYPLUS-3000 Series o o o o o o

PANEL CYPLUS-5000 Series o o o o o o

V-BED CYPLUS-5000 Series o o o o o o

MA : Molecular Acids (SOx, NOx, HCl, Cl2, HF, H2S…,), MB : Molecular Bases (NH3, Amine, NMP..,)

MC : Molecular Condensables (MW.120, BP.150 Organic material), MD : Dopants (Arsine, Boric Acid, Phosphorus…,)℃

Ozone : O3 , VOCs : Volatile organic compounds)

극 저농도 분자상 물질 제어 기술



Application for Semiconductor

⑤

① ②

③ ④

③ ④

⑥

① CYPLUS-5300 Series

(MA, MB, MC, MD, VOCs)

② ALPLUS-5100 Series

(Ozone, MA)

③ ALPLUS-1000, 2000 Series

( MA, MB, VOCs)

PHOTO ZONE DIFFUSION/CVD ZONE ④ ALPLUS-1000, 2000 Series

(Ozone, MA, VOCs)

⑤ CYPLUS-3000 Series

(MA, MB, Ozone)

⑥ CYPLUS-3000 Series

(MA, MB, Ozone)⑦ CYPLUS-5200 Series

(MC, VOCs)

⑦



Application for Display

⑤

① ②

③ ④

③ ④

⑥

①② CYPLUS-5000 Series

(MB, MC, VOCs)

③ ALPLUS-1000, 2000 Series

( MB, MC, VOCs)

④ ALPLUS-1000, 2000 Series

(MB, MC, VOCs)

⑤⑥ CYPLUS-6000 SYSTEM

(MA, MB, MC, VOCs)

TFT ZONE COLOR FILTER ZONE



장치 및 시스템 분야 – 주요 제품

핵심기술 /소재의 장치화 및 시스템화

배기가스제어Gas Scrubber

Dry Scr' 이온교환 Scr' 액상촉매 Scr'

소각로 다이옥신 제거이동식 유해가스 제거기 부식가스 제거



Dry Scrubber Resin

Process Film GasKAEL

Model No. 비 고

EtchMetal Al Cl2, BCl3, SF6, C2F6 KSC-01 Dry

Poly W Cl2, HBr, CF4, CHF3 KSC-02 Dry

Ion Implant DOPE AsH3, PH3, BF3 KSA-01 Dry

CVD

BPSG TEOS, TMP, TMB, NF3, C2F6 KST-01 Dry

Core Oxide TEOS, TMP, NF3, C2F6 KST-01 Dry

W-CVD SiH4, WF6, NF3 KSS-01 Dry

Poly Cide DCS, NH3 KSD-01 Dry

IMO,ARC,HDP 등 SiH4, PH3, WF6, HCl, NF3 KSN-01 Dry

ChamberCleaning

ClF3 KSCC-01 Dry





양압 설비 &공기정화장치

첨착활성탄 및 특수수지를 사용한 CA Filter 도입 제거효율이 높고 교환주기 연장가능 화학흡착으로 가스 포집 기술

방사성가스제거RI Filter

연구소 및 병원 방사선관리구역의 방사성가스 및 분진을 기준치 이하로 제어하는 필터 및 이를 장착한 장치




악취 제거 설비


한수원 MEMC Korea

대전 산업단지 폐수장 LG HIC SK 에너지 POSCO





VOC 회수 및 제거 설비

( 주 )SK호남석유화학

PAS 설치 전PAS 설치 후

백연제거시스템 PAS

(Plume Abatement

System) (Samsung, POSCO 사

14Set 공사 완료 )


www.kael.co.krConfidential

Confidential

21

“ 삶의 質 향상 요구와 관련법규의 강화에 따른 환경제품의 국산화”

특수가스제거용 필터

방사성

가스제거

필터

방 독 면정 화 통

방사성관리구역 및 원자력관련시설에서 발생하는 방사성가스 및 각종 유해가스를 제거원자력발전소 , 동위원소 취급 실험실의 방사성

가스 제거병원 등 방사선관리구역의 배기설비에 설치

군용 방독면에 장착하는 화생방 방호용화재등 긴급 대피가 요구되는 화재대피용 대중화방독면유해가스 및 열악한 작업현장의 작업자 보호용



고객 맞춤형 대기환경 제품 개발 회사

" 독보적인 환경오염제어기술로

무결점 클린환경을

카엘이 만들어갑니다 . "

대전광역시 유성구 탑립동 대덕테크노밸리 I3-8-4BL Tel : 042-931-6287~9 FAX : 042-931-9190

대전광역시 대덕구 신일동 1690-2 Tel : 042-935-3046~8 Fax : 042-935-3049

Documents

KAEL 회사소개서