PRODUCTOS DE GRAFITO DE CARBONO Grafito especial · Grafito especial (1) (1) Equipos de fabricación de silicio monocristalino (2) Equipos de prueba de plasma crítico (JT-60)

PRODUCTOS DE GRAFITO DE CARBONO

Grafito especial

(1)

(1) Equiposdefabricacióndesiliciomonocristalino

(2) Equiposdepruebadeplasmacrítico(JT-60) *Fotografíasproporcionadasporla

AgenciadeEnergíaAtómicadeJapón

(2)

05 Ninguna información en este catálogo podrá usarse ni reproducirse sin el consentimiento previo de Toyo Tanso.

Grafitoespecial

Características de los productos con grafito especialLademandadelaindustriaalolargodelosañossehaconcentradoprincipalmenteenelcarbono,quetienepropiedadescadavezmásestrictasyestables.Enestecontexto,ToyoTansofueelpioneroennuestrosectoreneldesarrollode“grafitoisotrópico”.Setratadeunmaterialdegrafitoconmicropartículasyunaestructuraisotrópicaypropiedadesquesecreanporelprensadoisostáticoenfrío(CIP,porsussiglaseninglés).Nuestrosproductosdegrafitoisotrópicoseutilizanenunagranvariedaddeindustrias.Estasindustriasincluyenlassiguientes:laindustriadelossemiconductores,dondelainnovaciónestáavanzandorápidamente,laindustriadelaenergíarenovableyecológica,laindustriadelmolde,dondelaprecisiónesunaprioridadimportante,ylaindustriadelaenergíaatómica,dondelaaltafiabilidadesesencial.Nuestraexcelenciaesreconocidapornuestrosclientes,conlosquecrecemosenconjunto.Elefectosinérgicoentrenuestratecnologíaexclusivadealtapurezayvariastecnologíasderecubrimientogarantizanlaexcelenciatambiénenelfuturo,yutilizamosnuestraposicióncomoempresalíderparaliberarelpotencialilimitadodelcarbono.

■■ Grafito isotrópicoElgrafitoconvencionaleraanisotrópico,loquelimitabasuusoenmuchasaplicaciones.Sinembargo,elgrafitoisotrópicoenlamismamuestrarepresentativanotieneningunadiferenciaensuspropiedades,porloquesetratadeunmaterialfácildediseñaryusar.

■■ Alta confiabilidadElgrafitoisotrópicoesmásfuertequeelgrafitoconvencionaldebidoasuestructurademicropartículas.Estoproduceunmaterialaltamenteconfiableconunapequeñavariacióncaracterística.

■■ Ultra resistencia al calorEnunaatmósferainerte,sepuederealizarunusoestableinclusoentemperaturasextremadamentealtasde2.000°Comás.Elmaterialtieneunabajaexpansióntérmicayunaltocoeficientedeconductividadtérmica,loqueleproporcionaexcelentespropiedadesderesistenciaalchoquetérmicoydistribucióndecalor,conunabajadeformacióntérmica.Tambiéntieneunacaracterísticaespecialquehacequeaumentesufuerzaamedidaqueaumentalatemperaturaatmosférica2.500°C.

■■ Excelente conductividad eléctricaLaaltayexcelenteresistenciaalcalorsignificaqueelgrafitoeselmaterialóptimoparaaplicacionescomocalentadoresdealtatemperatura.

■■ Excelente resistencia químicaConlaexcepcióndealgunosoxidantesfuertes,esquímicamenteestable.Elgrafitopuedeserutilizadodeformaestableinclusoenambientesquecausancorrosiónenalgunosmetales.

■■ Liviano y fácil de operarLadensidadaparenteesbajaencomparaciónconlosmaterialesmetálicos,loquepermiteundiseñoliviano.Además,tieneexcelentespropiedadesdelamaquinariaquefacilitanlosprocesosdemoldeadopreciso.

■■ Grafitoisotrópicoygrafitoanisotrópico

Grafitoisotrópicodealtadensidad 100 µm

Grafitoanisotrópico 100 µm

Elgrafitoisotrópicodealtadensidadesdiferentedelgrafitoconvencionalenqueesisotrópicoytieneunaestructurademicropartículas,quecreaunmaterialmuyresistenteymuyfiableconunapequeñavariación.Estematerialdegrafitoisotrópicoresuelveelproblemaasociadocongrafitoanisotrópicoconvencional.

0 5 10 15 20

Densidadaparente[mg/m3]

Grafito

Silicio

Aluminio

Acero

Cobre

Tungsteno

06Ninguna información en este catálogo podrá usarse ni reproducirse sin el consentimiento previo de Toyo Tanso.

Grafitoespecial

Proceso de fabricación

Breadealquitrándecoque/carbono

Materiaprima

Pulverizaciónymezcla

Amasado

Pulverizaciónycribado

Prensadoisostático

Impregnacióndebrea

Grafitizar

Horneado

Mecanismoduro

Envíodelosmateriales Mecanismodeterminación

Envío Inspección

Procesamientoquímico

Purificación

Gashalógeno

Inspección

Estropajo

Gasdeescape


Grafitoespecial

AplicaciónLosproductosdegrafitoespecialdeToyoTansosonmuyapreciadosporsuexcelenterendimientoyfiabilidad,yseutilizanenunagranvariedaddecamposquesonesencialesennuestravidacotidiana.Enlaindustriadelmedioambienteylaenergía,nuestrosproductosseutilizanparalafabricacióndecélulassolares,paralaenergíaatómicayparaaplicacionesaeroespaciales.Enlaindustriadelaelectrónica,proporcionamosmaterialesparavariosprocesosdefabricación,comoelsiliciopolicristalinoyelmonocristalino,losLEDblancosyeldispositivodealtafrecuencia.Entrelasaplicacionesbásicasdenuestrosproductosseincluyenloshornosindustriales,losmoldesdecoladacontinua,comolosqueseutilizanparalasaleacionesdecobre,lafibraópticayloselectrodosdeelectroerosiónparalafabricacióndemoldes.

■■ Medio ambiente y energía

■● Fabricacióndeobleasycélulassolares■● Energíaatómica:Reactordealtatemperaturarefrigeradoagas,fusiónnuclear■● Electrólisisdeflúor■● Celdasdecombustible■● Aeroespacial

■■ Electrónica

■● AplicacionesdefabricacióndesiliciosemiconductorFabricacióndesiliciopolicristalinoEquiposdefabricacióndesiliciomonocristalinoSusceptoresdecrecimientoepitaxialElectrodosdeplasmaCVDImplantacióndeionesBastidoresdeselladohermético

Calentadorlateral

Componentebásicoparaelreactordealtatemperaturarefrigeradoporgas*Fotografíasproporcionadasporla


ReactordefusiónnuclearPrimermurodeplasma*Fotografíasproporcionadasporla


Electrodoparalageneracióndegasdeflúor

Siliciomonocristalinoequipodefabricación

Crisol

ReflectorCalentador

Bastidoresdesellado


Grafitoespecial

■■ Electrónica

■● AplicacionesdefabricacióndecompuestosemiconductorPiezasdelequipodefabricacióndecristalSusceptoresMOCVD

■● AplicacionesdefabricacióndepanelesLCDPanelescalentadoresElectrodoparagrabadoporplasma

■● AplicacionesdefabricacióndediscosdurosObjetivosdepulverizacióncatódica

■■ Matalúrgico

■● FundicióncontinuaMoldesMandriles

■● PrensadoencalienteMoldesPunzónMangasEspaciadores

■● HornoindustrialCalentadoresBandejas

■● Crisolesdeevaporaciónalvacío

■● Crisolesdeanálisisdelgas

■● AplicacionesdefabricacióndefibraópticaCalentadoresTubotipomufla

■● ElectrodosEDM

SusceptorMOCVD

Susceptorplano

Moldeparaprensadoencaliente

(Modelocortado)

Moldesdefundicióncontinua

Calentador

Crisolesdeevaporaciónalvacío

ElectrodosEDM


Grafitoespecial

Información propietaria■■ Propiedadestípicas

GradoDensidadaparente

DurezaResistividad

eléctricaFuerzaflexional

Fuerzacompresiva

Fuerzaextensible

MódulodeYoung

Coeficientedeexpansión

térmica

Conductividadtérmica

Tamañoestándar

mg/m3 HSD μΩ·m MPa MPa MPa GPa 10-6/K W/(m·K) (mm)

IG-11 1,77 51 11,0 39 78 25 9,8 4,5 120305x620x1000410x410x2040D585x1050

IG-12 1,78 55 12,5 39 88 28 10,8 4,7 100 305x620x1000D585x1050

IG-15 1,90 60 9,5 54 103 29 11,8 4,8 140 230x620x1000

IG-19 1,75 60 17,0 38 88 25 9,5 4,6 80 D585x1050305x620x1000

IG-43 1,82 55 9,2 54 90 37 10,8 4,8 140 300x540x850

IG-45 1,88 55 9,0 60 110 40 12,0 4,9 140 300x540x850

IG-56 1,77 57 12,2 43 88 27 10,3 4,7 100 190x620x1500D1150x560

IG-70 1,83 58 10,0 47 103 31 11,8 4,6 130 305x620x1000D460x1050

ISEM-1 1,68 45 13,5 36 69 20 8,8 4,2 90 305x620x1000

ISEM-2 1,78 55 11,0 41 83 25 9,8 4,6 120 305x620x1000

ISEM-3 1,85 60 10,0 49 103 29 11,8 5,0 130 305x620x1000

ISEM-8 1,78 63 13,4 52 106 34 10,1 5,6 90 305x620x1050a1200

ISO-63 1,78 76 15,0 65 135 46 12,0 5,6 70 230x540x1000

ISO-66 1,82 75 14,4 70 134 46 12,6 7,1 80 180x450x850

ISO-68 1,82 80 15,5 76 172 54 13,2 5,6 70 230x540x1000

TTK-50 1,80 70 13,0 60 130 40 11,5 5,1 100 305x620x1000230x540x1000

TTK-4 1,78 72 14,0 73 135 49 10,9 5,0 90 210x510x950

TTK-5 1,78 80 15,5 80 150 53 11,6 5,7 80 210x510x950

TTK-8 1,77 78 15,0 80 155 55 12,0 5,3 80 150x400x700

TTK-9 1,77 90 18,0 92 180 67 13,0 5,8 70 150x400x700

SIC-6 1,85 60 10,0 49 103 29 11,8 5,0 130 305x620x1000

SIC-12 1,77 65 14,1 47 93 29 10,8 5,0 80 305x620x1000

HPG-51 1,78 73 14,3 75 140 50 11,0 5,1 90 210x510x950

HPG-53 1,78 81 15,7 80 156 55 11,8 5,8 80 210x510x950

HPG-59 1,91 88 13,5 100 210 74 12,7 5,7 95 100x500x950

HPG-81 1,77 80 15,1 83 161 58 12,2 5,2 80 150x400x700

HPG-83 1,77 92 18,2 96 187 70 13,3 5,9 70 150x400x700

*Lascifrasanterioressonvalorestípicosynoestángarantizados.*Elintervalodelatemperaturademediciónparaelcoeficientedeexpansióntérmicaesentre350y450°C.*Conversióndeunidades:μΩ·m=μΩ·cm×0,01MPa=kgf/cm2×0,098GPa=kgf/mm2×0,0098W/(m·K)=kcal/h·m·°C×1,16*Existenotrostamañosdeproductoademásdelosquesedescribieronconanterioridad.PóngaseencontactoconToyoTansoparaobtenermásdetalles.

■■ Ejemplodelanálisisdeimpurezas Unidad: ppm de masa

ElementoContenido

Métododemedición

ElementoContenido

MétododemediciónGrafitodeultra

altapurezaGrafitodealta

purezaGrafitoregular

Grafitodeultraaltapureza

Grafitodealtapureza

Grafitoregular

Li <0,001 <0,001 <0,03 ICP-MS V <0,001 0,018 40 ICP-MS

B 0,10 0,15 3 ICP-MS Cr <0,004 0,006 <0,3 ICP-MS

Na <0,002 <0,002 <0,5 ICP-MS Mn <0,001 <0,001 <0,2 ICP-MS

Mg <0,001 0,004 0,2 ICP-MS Fe <0,02 0,06 26 ICP-MS

Al <0,001 0,012 14 ICP-MS Co <0,001 <0,001 <0,3 ICP-MS

Si <0,1 <0,1 2 UV Ni <0,001 0,006 4 ICP-MS

K <0,03 0,04 2 FL-AAS Cu <0,002 <0,002 <1 ICP-MS

Ca <0,01 0,08 6 FL-AAS Zn <0,002 <0,002 <0,6 ICP-MS

Ti <0,001 <0,001 33 ICP-MS Pb <0,001 <0,001 <1 ICP-MS

*Lascifrasanterioressonejemplosdemedidasrealesynoestángarantizados.*ICP-MS:Espectrómetrodemasaplasmaacopladoinductivamente,FL-AAS:Espectómetrodeabsorciónatómicasinllama,UV:Espectrofotómetrodeabsorción.*Elcontenidodeimpurezasdegrafitoregularesdeaproximadamente400ppmdemasa,sinembargo,serequiereunamayorpurezaparaaplicacionescomoenlas

industriassemiconductoras.EnToyoTansopodemosutilizaruntratamientodehalógenodealtatemperaturaparapurificarelgrafitohastallegaralosnivelesdeppmdemasasolicitadospornuestrosclientes.


Grafitoespecial

■■ Propiedades químicas■■ Temperaturasdereaccióninicialcondiferentessustancias*Extraídadeotraspublicaciones

ReacantTemperaturadereaccióninicial

Compuestodereacción

Aluminio 800°C Al4C3

Boro 1600°C B4C

Hierro 600a800°C Fe3C

Sodio 400a450°C C64NaCompuestodeintercalación(cuandohayO2presente)

Cobalto 218°C CoC,Co3C

Molibdeno 700°C Mo2C

Níquel 1310°C NiCarbonizadoenNi

Silicio 1150°C SiC

Cobre —

Magnesio —

Plomo —

Estaño —

Tungsteno 1400°C W2C,WC(enhidrógeno)

Potasio 300°C C8K Otroscompuestosdeintercalación

Litio 500°C Li2C2

Berilio 900°C Be2C(enunvacíooHe)

Óxidodeboro 1200°C CO,B

Óxidodevanadio(V) 438°C CO,V

Óxidodehierro(III) 485°C CO,Fe

Óxidodetitanio(IV) 930°C CO,Ti,TiC

Dióxidodesilicio 1250°C CO,Si,SiC

Alúnima 1280°C CO,Al,Al4C3

Óxidodeberilio 960°C CO,Be,Be2C

Óxidodemagnesio 1350°C CO,Mg

Óxidodecirconio(IV) 1300°C CO,Zr,ZrC

■■ Presióndevapor*Extraídadeotraspublicaciones

1000

107

105

103

101

10-1

10-3

10-5

10-71500 2000 2500 3000 3500 4000 4500

Temperatura[°C]

Pre

sión

de

vapo

r[P

a]

1atm=1,01×105Pa

Elgrafitoesunmaterialextremadamenteestableentemperaturaspordebajodelos2.200°C.Sinembargo,lapresióndevaporaumentaenaltastemperaturasygrandesvacíos,porloquesedebetenercuidadoconeldesgasteaceleradodelgrafito.

■■ Espectrodedesasorcióntérmica(TDS)

0 500 1000 1500

10-1

10-2

10-3

10-4

10-5

10-6

10-7

IG-11

IG-110

IG-110U

Temperatura[°C]

Pre

sión

tota

l[P

a/g]

Velocidaddecalentamiento:1K/sTamañodelapiezadeprueba:10×10×1(mm)

Ejemplodemedición

Elgrafitoemiteelgasabsorbidocuandoestásometidoaaltastemperaturas.Algunasaplicacionescomolasindustriasdesemiconductoresdebenutilizargrafitoaltamentepurificadooultrapurificado,queemitemenosgas.

■■ Reactividadendiversostiposdeambientes/gas*Extraídadeotraspublicaciones

Tiposdeentorno/especiesgaseosas

Temperaturasdereaccióninicial/Temperaturasde

reacción

Fenómenodegénesisocompuestoproducido

Observaciones

Aire 420a460°C Oxidación/CO,CO2 Aprox.100°Cmásaltoencasodegrafitodealtapureza

Oxígeno(O2) 420a460°C Oxidación/CO,CO2 Reaccionaconeloxígenoatómicoenlatemperaturanormal

Vapor(H2O) Aprox.650°C Oxidación/CO,CO2,H2

Dióxidodecarbono(CO2) Aprox.900°C Oxidación/CO

Hidrógeno(H2) Aprox.700°C Metanización/CH4 ProduceC2H2,C2H4,C2H6osimilaraunatemperaturamayor

Nitrógeno(N2)Inertaraunatemperaturamayoralatemperatura

ambienteSublimación

ProducecianógenoC2N2duranteladescargayconunentornoconunapresiónaltade2700°CN2

Cloro(Cl2)Inertaraunatemperaturamayoralatemperatura

ambienteSublimación

Produceuncompuestodeintercalaciónenunatemperaturamásbajaque0°C

Flúor(F2) 420a1900°C Fluoración/CF ProduceCF4,C2F6oalgoasíhastalatemperatura

Argón(Ar)Inerteacualquier

temperaturaSublimación

Vacío — SublimaciónEnunentornodemayortemperaturayvacío,elsublimadomásfácil

Enunaatmósferaoxidante,elgrafitoreaccionaconoxígenoaunatemperaturarelativamentebaja.Sinembargo,enunentornonooxidante,elgrafitoesquímicaytérmicamenteunmaterialextremadamenteestable,loquepermiteunaampliagamadeaplicaciones.


Grafitoespecial

Información propietaria■■ Propiedades de alta temperatura

■■ Resistividadeléctrica

0 500 1000 1500

20

15

10

5

02000

IG-19

IG-56

IG-11

Temperatura[°C]

Res

istiv

idad

elé

ctric

a[μ

Ω·m

]

Ejemplodemedición

Dadoquelascaracterísticastérmicasdifierendeungradoaotro,elcoeficientederesistividadeléctricadebeserestudiadocuidadosamentealseleccionarelgradoparaunelementodecalefacción.

■■ Fuerzas(IG-11)

0 500 1000 1500 2000 2500

120

100

80

60

40

20

0

Temperatura[°C]

Fuer

za[M

Pa]

Ejemplodemedición

Fuerzacompresiva

Fuerzaflexional

Fuerzaextensible

Unacaracterísticainigualabledegrafito,quelohaceindispensableenaplicacionesdealtatemperatura,esqueamedidaqueaumentalatemperatura(hasta2.500°C),laresistenciatambiénaumenta.Lafuerzaalcanzanivelesaproximadamenteeldobledeaquellosatemperaturaambiente.

■■ Expansióntérmicalineal

0 500 1000

0,8

0,7

0,6

0,5

0,4

0,3

0,2

0,1

0

ISO-66

ISO-68

IG-11

Temperatura[°C]

Exp

ansi

ónté

rmic

alin

eal[

%]

Ejemplodemedición

■■ Conductividadtérmica

0 500 1000 1500

140

120

100

80

60

40

IG-15, IG-43

IG-11

IG-12

Temperatura[°C]

Coe

ficie

nte

dec

ondu

ctiv

idad

térm

ica

[W/(

m·K

)]

Usodemedicióndelpulsoláser.

Ejemplodemedición

0 10 20 30Coeficientedeexpansióntérmica[10-6/K]

Plomo

Aluminio

Cobre

Inoxidable

Hierro

Vidrio

Grafito

Encomparaciónconlosmetalesgenerales,elcoeficientedeexpansióntérmicaparaelgrafitoesextremadamentebajo.Comoresultado,cuandoseusaenaplicacionesdealtatemperatura,laprecisióndimensionalesmuyestable.

Referencia:Coeficientede(10-6/K)expansióntérmica

=Expansióntérmicalineal(%)×10-2

Diferenciadetemperatura(°C)

0 100 200 300 400Conductividadtérmica[W/(m·K)]

Cobre

Aluminio

Grafito

Hierro

Plomo

Inoxidable

Laconductividadtérmicadelgrafitoesbastantealta,mientrasqueelcoeficientedeexpansióntérmicaesmuybajo.Estascaracterísticascontribuyenasuresistenciasuperioralchoquetérmico.Larelaciónentrelaconductividadtérmicaylaresistividadeléctricadelgrafitoatemperaturaambienteseindicaacontinuación.

Conductividadtérmica[W/(m·K)] =0,13×104

Resistividadeléctrica(μΩ·m)


Grafitoespecial

■■ Calorespecífico

0 500 1000 1500

2,5

2,0

1,5

1,0

0,5

Temperatura[°C]

Cal

ore

spec

ífico

[J/(

g·K

)]

Ejemplodemedición

Debidoalanaturalezaanisotrópicadesuscristales,elcalorespecíficodelgrafitoatemperaturaambientesemantieneaunterciodeladelossólidosgenerales.Elvalordelcalorespecíficoesesencialparadiversasfuncionestermodinámicas.Aaltastemperaturas,losvaloresdecalorespecíficosonsimilaressinimportarlosgradosdelgrafito.

■■ Difusividaddeexpansióntérmica

0 500 1000 1500

1,4

1,2

1,0

0,8

0,6

0,4

0,2

0

Temperatura[°C]

Difu

sivi

dad

dee

xpan

sión

térm

ica

[m2 /

s·10

-4]

Ejemplodemedición

Estegráficomuestraqueamedidaquelatemperaturaaumenta,másrápidosetransmiteelcalor.Ladifusividadtérmicadegrafitoessuperioraotrosmateriales.

Referencia:Difusividaddeexpansióntérmica =

Conductividadtérmica

CalorespecíficoxDensidad

■■ Emisividad

0 500 1000 1500 2000

100

90

80

70

60

IG-610U

Temperatura[°C]

Em

isiv

idad

[%]

Ejemplodemedición

■■ Propiedades físicas■■ Curvadetensión-deformación(IG-12)

-4 -3 -2 -1 0 1 2

40

20

0

-20

-40

-60

-80

-100

Tensión[%]

Est

rés

[MP

a]

Ejemplodemedición Tensión

Compresión

Elgrafitogeneralmentemuestraladeformaciónelástica-plástica.Elcomportamientodelafracturaesdiferentebajotensiónyencompresión,porloquesedebetenercuidado.

■■ Curvadedistribucióndelosporos

0,01 0,05 0,1 0,5 1 5

100

50

01,8

ISO-63

IG-11

80

Radiodelporo[μm]

Vol

umen

acu

mul

ativ

ode

lpor

o[m

m3 /

g]

Ejemplodemedición

Estomuestraladistribucióndelosporosatravésdelmétododepenetracióndemercurio.Ladistribucióndeporostieneunaestrecharelaciónconlapermeabilidaddelgasyotraspropiedadesúnicasdelgrafito.Laposiciónamediocaminodelvolumendeporosacumulativoindicaelradiomediodelosporos.

Ejemplo:ParaIG-11 80/2=40mm3/g1,8μm


Grafitoespecial

Mecanismo

■■ Estándares de rugosidad de la superficie

Dadoquelosproductosdecarbonosonporosos,esdifícilobtenerunacabadodesuperficieequivalentealmetal.Latabladeladerechamuestralacorrespondenciadel“Símbolodeterminacióndesuperficie”ylasnormasdedurezadelasuperficie,Ry&Ra&Rz.

■■ EstándaresderugosidaddelasuperficieSímbolodefinalización

(parareferencia)

Larugosidaddelasuperficiedelmecanismodecarbono Métodode

terminación

Larugosidaddelasuperficiedelmecanismodemetal

Ry Ra Rz Ry Ra Rz

Ry3 0,75 Rz3Rectificado

lapeadoRy0,8 0,2 Rz0,8

Ry12 3,0 Rz12Triturador,

TornofresadorRy6,3 1,6 Rz6,3

Ry35 8,75 Rz35Torno

fresadorRy25 6,3 Rz25

Ry100 25 Rz100Torno

fresadorRy100 25 Rz100

Sinnormaenparticular Sierra Sinnormaenparticular

*3,0significaqueelmáximoesdeRa3,0microingletes.

■■ Tolerancia de dimensión del mecanismo

Sinoseespecificalatoleranciaenelplanodelcliente,aplicarelgradointermediodeJISB0405.

■■ Normasdetoleranciadeladimensión Unidad: mm

Categoríadedimensiónnominal Tolerancia

0,5omás 6omenos ±0,1

Superiora6 30omenos ±0,2





*LainformaciónanteriorsepuedeaplicarcuandoelgrafitoesmecanizadoporToyoTansoenJapón.

Toyo Tanso tiene una amplia gama de grados de carbono y grafito disponibles para satisfacer sus necesidades. Antes de utilizar uno de nuestros productos, asegúrese de contactar a nuestro departamento de ventas para consultar sobre la selección del grado más adecuado.

Documents

PRODUCTOS DE GRAFITO DE CARBONO Grafito especial · Grafito especial (1) (1) Equipos de fabricación de silicio monocristalino (2) Equipos de prueba de plasma crítico (JT-60)