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第三章 门电路3.1 概述 • 集成电路 (Integrated Circuit) 就是将所有的元件和连线都制作在同一块半导
体基片 ( 芯片 ) 上。• 集成电路分模拟和数字两大类。• 在数字集成逻辑电路中,常以“门”为最小单位。我们可按其“集成度” ( 一
定大小的芯片上所含门的数量多少 ) 分成:• 小规模集成电路 (SSI : Small Scale Integrating) ,一块芯片上含 1~50 个门。• 中规模集成电路 (MSI : Medium Scale Integrating), 一块芯片上含 50~100
个门。 • 大规模集成电路 (LSI : Large Scale Integrating), 一块芯片上含 100~10000
个门。 • 超大规模集成电路 (VLSI : Very Large Scale Integrating), 一块芯片上含 104
~106 个门。 Intel 做出 45 纳米一个门,正在研制 20 纳米一个门的芯片,极限9 纳米一个门。
• 摩尔定律的基本内容是:集成电路的集成度每 18 个月就翻一番,特征尺寸每 3年缩小 1/2 。
• 计算机界对于摩尔定律的两点推论是: 微处理器的性能每隔 18 个月提高一倍,而价格下降了一半。用一美元所能
买到的计算机性能,每隔 18 个月翻两番。
集成逻辑门是以双极型晶体管 ( 电子和空穴两种载流子均参与导电 ) 为基础的,称为双极型集成逻辑门电路。它主要有下列几种类型:
• 晶体管—晶体管逻辑 (TTL : Transistor-Transistor Logic) ;
• 高阈值逻辑 (HTL : High Threshold Logic) ;• 射极耦合逻辑 (ECL : Emitter Coupled Logic) ;• 集成注入逻辑 (I2L : Integrated Injection Logic) 。 集成逻辑门是以单极型晶体管 ( 只有一种极性的载流
子:电子或空穴 ) 为基础的,称为单极型集成逻辑门电路。目前应用得最广泛的是金属—氧化物—半导体场效应管逻辑电路 (MOS : Metal Oxide Semiconductor) 。 MOS电路又可分为:
• PMOS(P 沟道 MOS) ;• NMOS(N 沟道 MOS) ;• CMOS(PMOS—NMOS 互补 ) 。
1 .二极管与门 二极管与门由二极管
和电阻组成, Vcc=5V ,A 、 B 输入高电平为 VI
H=3V 、低电平 VIL=0V , 二极管导通压降 VD=0.7
V 。 A 、 B 中只要有一
个是低电平,必有一个二极管导通,使输出钳位为 0.7V ,逻辑 0 。
A 、 B 同时为 1 ,两个二极管都导通,输出 3.7V ,逻辑 1 。
Y=A•B
A/V B/V Y/V
0033
0303
0.70.70.73.7
二极管与门的逻辑电平和真值表
A B Y
0011
0101
0001
00.7V
1
13.7V
2 .二极管或门 二极管或门由二极管
和电阻组成, Vcc=5V ,A 、 B 输入高为 VIH=3V 、低电平 VIL=0V 。
A 、 B 中有一个是高电平,输出端电位为 2.3V ,逻辑 1 ;
A 、 B 同时为低电平时,输出才是 0 。
Y=A+B
A/V B/V Y/V
0033
0303
02.32.32.3
二极管或门的逻辑电平
A B Y
0011
0101
0111
32.3V0
0
0V
3.3 CMOS 门电路1 . MOS 管的开关特性 金属 - 氧化物 - 半导体场效应晶体管
作为开关器件1 ) MOS 管工作原理 在漏极和源极之间加电压 vDS ,令
栅、源极间的电压 VGS=0 ,漏极、源极间相当于两个 PN 结反向串联, D-S间不导通, iD=0 。
在栅源之间加正电压 VGS , VGS 大于 VGS(th) 时,形成一个 N 型的反型层,D-S 间的导电沟道形成。 VGS 升高,导电沟道的截面积加大, iD 增加。 VGS 控制 iD 的大小。
SiO2 绝缘层电阻 1012 欧姆,没有 iG
电流
2 ) MOS 管的输出特性 栅极电流等于 0 ,没有输入特性
曲线。 漏极输出特性曲线分为三个工作
区 a) 截止状态:当 VGS<VGS(th) ,漏
源之间没有导电沟道, iD≈0 ,D-S 间的内阻非常大, 109Ω ,开关断开。 VGS<VGS(th) 的区域称为截止区。
b) 导通状态: VGS>VGS(th) ,出现导电沟道, i
D 产生,分成两个区。 VGS 一定时, iD 与 VDS 之比近似为常数,具有线性电阻的性质,称为可变电阻区。
在 VDS≈0 时,导通电阻 RON 和 VGS 的关系:
表明当 VGS>>VGS(th) , RON 近似地与 VGS 成反比, 若要 RON 小,取 VGS 大。在恒流区, iD 大小由 VGS 决定, VDS 的变化对 iD 的影响很小。 iD 与 VGS 的关系:
)(2
1|
)(0
thGSGSDSvON VvK
R
2
)(
)1( thGS
GSDSD V
vIi
其中 IDS 是 VGS=2 VGS(TH) 时的 iD 值。在 VGS>> VGS(th) , iD 近似与 VGS
2 成正比。iD 与 VGS 关系的曲线称为转移特性曲线,在恒流区 VDS 对转移特性的影响不大。
了解
3 ) MOS 管的开关等效电路• MOS 管截止时漏、源之间的内阻 ROFF
非常大,开关断开;• MOS 管导通时内阻 RON 大约 1kΩ ,阻
值较小,与 VGS 有关,开关闭合。• CI代表栅极电容,几皮法。
P 沟道增强型 MOS 管的结构
2 . CMOS 反相器1 )电路结构T1 是 P 沟道增强型 MOS 管,T2 是 N 沟道增强型 MOS 管,T1 、 T2 开启电压分别为 VGS(th)p 、 VGS(th)N ,电路正常工作必须满足于 VDD> VGS(th)N+|VGS(th)p| 。当 vI=VIL=0 时, |VGS1|=VDD>|VGS(th)p| ; VGS2=0 < VGS(th)N ;T1 导通,内阻小; T2 截止,内阻大。输出高电平 VOH≈VDD
当 vI=VOH=VDD 时, VGS1=0<|VGS(th)p| ; VGS2=VDD >VGS(th)N ; T1 截止, T2 导通,输出低电平 VOL≈0
T1 和 T2总是工作在一个导通一个截止的状态,互补状态,静态功耗低。 CMOS 互补对称式金属 - 氧化物 - 半导体电路。
0
VDD
2 )电压传输特性和电流传输特性设 VDD> VGS(th)N+|VGS(th)p| ,且 VGS(th)N=|VGS(th)p| ,
T1 和 T2 具有同样的导通内阻 RON 和截止内阻ROFF 。
AB段: vI< VGS(th)N T1 导通,低内阻, VGS1>|VGS
(th)p| T2 截止,分压结果输出高电平, vo=VOH≈VDD
CD段: vI>VDD-|VGS(th)p| 使 |VGS1|<|VGS(th)p| , T1
截止, VGS2>VGS(th)N T2 导通 vo=VOL≈0 。
BC段: VGS(th)N <vI<VDD-|VGS(th)p| 区间, VGS2>VGS
(th)N , |VGS1|>|VGS(th)p| T1 、 T2 同时导通,参数对称, vI=1/2VDD vo=1/2VDD ,将电压传输特性转折区的中点称为阈值电压 VTH
VTH=1/2 VDD 电压传输特性转折区曲线陡峭,接近理想开关特性。
VGS(th)N
VGS(th)p
电流传输特性:
AB段: T2 截止 CD段: T1 截止, 漏极电流几乎为 0 ; BC段 T1 、 T2 同时导通,有 iD 流过 T1 、 T2 ,在 vi=1/2VDD附近 iD
最大。
工作在 BC段,动态功耗大。
3 )输入噪声容限 在保证输出高、低电平基本
不变的条件下,允许输入信号的高、低电平有一个波动范围。
输入高电平的噪声容限 VNH=VOH(min)-VIH(min)
输入低电平的噪声容限 VNL=VIL(max)-VOL(max)
规定 VOH(min)= VDD -0.1V , VOL(max)= VSS+0.1V 。 VSS 是 N 沟道 MOS 管的源极电位,
源极接地, VOL(max)= 0.1V 。 测试结果在输出高、低电平的变化不大于限定的 10% VDD情况下,输入信号高、低电平允许的变化量大于 30% VDD ,得到 VNH =VNL=30% VDD 。 VDD越高,噪声容限越大。
0 VOH(min) VIH(min)0
1VOL(max) VIL(max) 1
3 .传输延迟时间 输出电压变化落后于输入电
压变化的时间。 输出高电平跳变低电平的传
输延迟时间 tPHL
输出低电平跳变高电平的传输延迟时间 tPLH
CMOS 电路的 tPHL 、 tPLH 是相等的平均传输延迟时间 tpd=1/2(tPHL+tPLH)
tpd 是几 ns 量级
tPHL tPLH
5 .漏极开路输出门电路 ( OD 门) OD 门输出电路是一个漏极开
路的 N 沟道增强型 MOS 管 TN ,OD 门工作时输出端必须经上拉电阻接电源,满足
ROFF>>RL>>RON 。 TN 截止时 vO=VOH≈VDD2
TN 导通时 vO=VOL≈0 。 VDD2选为不同于 VDD1 的数值,
可以将输入高、低电平 VDD1/0V 变换为输出高、低电平 VDD2/0V 。
1
1
10
0 01
线与逻辑:将几个 OD 门的输出端直接相连,实现线与逻辑。
当 Y1 或 Y2任何一个为低电平时, Y 都为低电平;
只有 Y1 、 Y2 同时为高电平, Y 才为高电平。
Y=Y1·Y2
CDAB
CDAB
YY1
Y2
GHCDAB
GHCDAB
当所有 OD 门截止,漏电流 IOH
和负载门高电平输入电流 IIH 流过RL
要求保证输出高电平不低于 VOH
VDD-(nIOH+mIIH)RL≥VOH RL(max)= (VDD- VOH)/(nIOH+mIIH)
外接电阻的计算方法:
n 是并联 OD 门的数目, m 是负载门电路高电平输入电流的数目。
当输出为低电平,并联 OD门中只有一个门的输出 MOS管导通,负载电流全流入导通管,为保证负载电流不超过输出 MOS 管允许的最大电流,RL 不能太小。
最大负载电流 IOL(max) , 低电平输入电流 IIL
(VDD- VOL)/ RL+m’|IIL|≤IOL(max) RL(min)= (VDD- VOL)/ (IOL(max) -m’|IIL|)m' 是负载门低电平输入电流的数目,负载门为 CMOS 门电路,m=m’取 RL(max)≥RL≥RL(min)
1 0IOL(max) IIL
例 1 输出高电平的漏电流 IOH(max)=5μA, VOL(max) =0.33V 时允许的最大负载电流 IOL(max)=5.2mA ;
负载门的输入电流 IIH(max) IIL(max) 均为 1μA ,VDD =5V, VOH≥4.4V ,VOL≤0.33V 求 RL 取值范围?解: RL(max)= (VDD- VOH)/(nIOH+mIIH)
=(5-4.4)/(3×5×10-6+6×10-6)Ω
=28.6kΩ
RL(min)= (VDD- VOL)/ (IOL(max) -m’|IIL(max)|)
=(5-0.33)/(5.2×10-3-6×10-6)Ω
=0.9kΩ
28.6kΩ≥RL≥0.9kΩ
6.CMOS传输门T1 是 N 沟道增强型 MOS 管,T2 是 P 沟道增强型 MOS 管, T1 和 T2 的源极和漏极结构上完全对
称,栅极引出端在中间, T1 和 T2 源极和漏极相连作为传输门的输入和输出端,C 和 C’ 是一对互补的控制信号。
传输门的一端接输入正电压 vI ,另一端接负载电阻 RL,设控制信号 C 、 C’的高电平 VDD 、低电平 0V ;当 C=0 , C’=1 时,输入信号 vI 的变化范围不超过 0--VDD ,
T1 和 T2 同时截止。输入与输出间高阻态 (>109Ω) ,传输门截止。
0
1
当 C=1 , C’=0 时,RL>> T1 、 T2 的导通电阻,0<vI< VDD - VGS(TH)N , T1 导通;|VGS(TH)p|<vI< VDD , T2 导通。 vI 在 0-- VDD 之间变化时, T
1 和 T2至少有一个是导通的,vI 与 vo 之间呈低阻态 (<1kΩ) ,传输门导通。
由于 T1 、 T2 结构是对称的,漏极和源极可以互用,因此 CMOS传输门是双向器件,输入端和输出端也可以互易使用。
1
0
VDD
0
1
用 CMOS传输门和 CMOS 反相器可以构成各种复杂的逻辑电路,构成异或门:
当 A=1 、 B=0 时, TG1 截止、 TG2导通, ;
当 A=0 、 B=1 时, TG1 导通、 TG2截止, Y=B=1 ;
当 A==B=0 时, TG1 导通、 TG2 截止, Y=B=0 ;
当 A=B=1 时, TG1 截止、 TG2 导通, ;
异或逻辑 Y=A B⊕
A B Y
0 00 11 01 1
0110
1
0
0
1
1BY
0BY
B
7. 三态输出的 CMOS 门电路 三态输出门的输出有高、低电
平和高阻态。 三态门总是接在集成电路的输出
端,称为输出缓冲器,三态控制端 。 ,A=1 , G4 、 G5 的输出同时为高电
平, T1 截止、 T2 导通 Y=0 ;A=0 , G4 、 G5 的输出同时为低电
平, T1 导通、 T2 截止 Y=1 。Y= 反相器正常工作。
,不管 A 的状态如何, G4 输出高电平、 G5
输出低电平, T1 和 T2 截止,输出高阻态。
0 1
1
1
1
00
0
0
1
1
高阻态EN
1EN
0EN
A
总线结构 EN 不能同时为 1 。
EN1EN2+EN1EN3+EN2EN3+…=0双向传输EN=1 , G1 工作 G2 高阻态,数据 DO 反相后送到总线;
EN=0 , G2 工作 G1 高阻态,来自总线的数据 DI 反相后送入电
路。
NNENAENAENAY 2211
3.4 TTL 门电路 (transistor-transistor-logic)1 .双极性三极管的开关特性双极型三极管的开关等效电路: (a) 截止状态: VBE<0.7V , iB=0 ,iC=0 三极管截止,开关断开。 (b)饱和导通状态 VBE>0.7V ,iB>IBS , VBE=0.7V=VON , VON 开启电压,集电极和发射极近似短路,饱和压降 VCE(sat) ,开关接通。
b
c
e
3. TTL 反相器电路结构及工作原理1 ) TTL 反相器的电路结构由三部分组成:输入级:由 T1 、 D1 和电阻 R1 组成。中间级:由 T2 、 R2 、 R3 组成。 T2
的集电极和发射极为 T4 、 T5 提供了两个相位相反的信号,所以这级又称倒相级。
输出级:由 T4 、 T5 、 R4 、 D2 组成。T5 为反相器, T4 是 T5 的有源负载,完成逻辑上的“非”。
输入级中间级 输出级
由中间级提供的两个相位相反的信号,使 T4 、 T5总是一管导通而另一管截止的工作状态。输出电路的形式称为“推拉式输出”电路,或称“图腾输出”。
+
-
2 )工作原理 Vcc=5V 、 VIH=3.4V 、 VIL=0.2V 、
VON=0.7V (1) 当 vi=VIL 输入低电平 (0.2V) 时,
T1 的发射结导通, T1 基极电压 VB1被钳位在
VB1=Vi+VBE1=0.2+0.7=0.9V VB1 不能使 T1 集电结、 T2 、 T5
导通, T1 集电结, T2 、 T5 截止。 由于 T2 的 b-c 结反向电阻大, T1 工作在深度饱和状态。 VCE1≈0 ,
VC2= 高电平, VE2= 低电平,
VB1 VC2
VE2
T4 导通、 T5 截止, 输出高电平 VOH
0.2V
0.9V
1
0
VOH
(2) 当 vi=VIH 输入高电平 (3.4V) 或悬空时,
VB1=VIH+VON=4.1V , 因为 T1 的集电结、 T2 、 T5 导通
的电压是 2.1V , T1 的 VB1被钳位在2.1V 上,
T1 的发射结反偏。 电源 VCC 通过 R1 , T1 的集电结 向 T2 、 T5 提供基流,使 T2 导通饱和, VC2↓ 、 VE2↑ , T4 截止、 T5 导通, 输出 Y 为 低电平 VOL 。 Y=VCES5=0.2V Y= 输出级的特点是: 无论输出是高电平还是低电平,输出电阻都比较低。 这是因为当输出为低电平时, T5饱和, T4 截止,输出电阻 rO=rCES5 ,值很小。 当输出为高电平时, T5 截止, T4 导通, T4 工作在射极跟随器状态,输出电阻 rO
的阻值很小。 由于电阻 rO 值很小使得电路带负载的能力增强。
4.1V3.4V
2.1V0.2V VC2
VE2
A
二极管 D2 作用: 在 T5饱和导通时,为确保 T4 可靠截止,抬高 T4 的基极电位。 VB4=VCES5+VD2+VBE4
=0.2+0.7+0.7
=1.6V
D1 是输入端钳位二极管,抑制输入的负极性干扰脉冲,防止T1 的发射极电流过大。
3 )电压传输特性 电压传输特性曲线可分成四段:①AB段 ( 截止区 )
0≤VI<0.6V VB1<1.3V ,T2 、 T5 截止,T4 导通,输出高电平。VOH=Vcc- vR2 - vBE4 - Vd2
≈3.4V 。②BC段 ( 线性区 )
0.6V≤VI <1.3V
T2 导通、 T5 截止, T2 工作放大区, VC2↓VO 线性下降。
③CD段 (转折区 ) 1.3V≤VI<1.5V
VI=1.4V , VB1=2.1V , T2 、 T5 同时导通, T4 截止
VO急剧下降。转折区中点对应输入电压 = 阈值电压 VTH
④DE段 (饱和区 ) VI ≥1.5V VO =0.3V 。
OC 门(集电极开路)、 TS 三态门与 CMOS 电路的 OD 门、三态门功能相同。