Презентація Лекції 11 12ltft.kpi.ua/documents/SELTO/SELTO-lec-11-12.pdf · Презентація 6 Лекції11_12 Лекції11_12 Тема 7. Оптичнаналагоджувально-наблюдовасистема

Презентація 6Лекції 11_12

Лекції 11_12Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.1. Систематизація методів та засобів позиціювання През. №6, сл.№37.2. Пристрої для позиціювання заготовки за результатами аналізукаустики пучка випромінювання През. №6, сл.№4

7.3. Пристрої для позиціювання заготовкив ослабленому пучку випромінювання През. №6, сл.№7

7.4. Пристрої для позиціювання заготовки в каустиці пучкавипромінювання,перетвореного ОПС, за допомогоювипромінювання від додаткового джерела През. №6, сл.№8

7.5. Пристрої для позиціювання заготовки відносно ОПС ЛТУ з візуальноюоцінкою результату методом подвійного зображення През. №6, сл.№14

7.6. Автоматизація переходу відносного позиціювання ОПС та заготовкиПрез. №6, сл.№26

7.7. Пристрої для захисту поверхні оптичних елементіввід продуктів лазерної ерозії През. №6, сл.№33

Контрольні запитання та завдання През. №6, сл.№40 Бібліографічний опис През. №6, сл.№43

2

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова системаОцінка суттєвості похибки налагодження ОННС

Е

A

Ус

На

m b

=40

8=

204,

12

Поз

6 Поз

b

Тпm

d=

153,

9dном

6

dПоз

=11

8,2

14,19 %

34,18%

8,51%

9.51%

E

Ус

На

11,84%

11,77 %

9,97 %

Поз

m

b=95

,76

b1ном

b=

54,6

1

Поз

На

Ус

E

Пе

Поз

6

а б в

Рис. 7.1.Структура сумарної похибки операцій лазерного різання (а, в) та обробки отворів (б)

b1ном

[7.1]

3

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.1. Систематизація методів та засобів позиціювання

1. Позиціювання заготовки у трьох мірному просторі на основі

результатів аналізу каустики пучка після його перетворення

об’єктивом (дзеркалом) [7.2] .

2. Налагодження при опромінюванні поверхні заготовки ослабленим

(по відношенню до режиму обробки) променем за результатами

виміру рівня променистої енергії, відбитої її поверхнею.

3. Методи налагодження при освітленні поверхні заготівки видимим

випромінюванням та візуальній оцінці спостережуваного

зображення [7.3] .

4. Візуальний метод подвійного зображення за результатами оцінки

суперпозиції двох освітлених ділянок поверхні заготівки.

4

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.2. Пристрої для позиціювання заготовки за результатами аналізу

каустики пучка випромінювання

1

2

3

4

56

7

A

Вид А

Y

X

do

Рис. 7.2(8.6). Пристрій для візуалізації каустики пучка випромінювання

Рис. 7.3(8.9). Схема пристрою для обміру каустики пучка

3

2

1

Y45

dmaxdmin

Х

[7.4] [7.5]

5



1 23

4

5

6 7

Y

8Рис. 7.4(8.7). Пристрій для визначення гостроти

1 2 34

5

67

8

9

Рис.7.5(8.8). Пристрій для визначення відносного положення фокусування пучка за рівнем відбитого променю пучка та заготівки за характером відбиття випромінювання

[7.6] [7.7]

6



Рис. 7.7(8_13). Схема пристрою з оцінкою позиціювання

1 2

3

4

5

6 7

температури у зоні обробки з одночасним центруванням лінзиза відбитим променем

1

Б

2 34

5

4

5

6

I II

Вид Б

Рис. 7.6(8.12). Схема пристрою з оцінюванням режиму опромінення за рівнем

[7.8]

[7.9]

7

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.3. Пристрої для позиціювання заготовки в ослабленому пучку

випромінювання

.

1

2

4

3

5

67

8

Iв Iз

Рис.7.8(10.9). Пристрій для розмірного позиціювання заготівки

Рис.7.9(10.10). Пристрій для позиціювання заготівки

Рис. 7.10(10.11). Пристрій для позиціювання заготівки

Y

1

23

45

6

7Y Y

1 2 34

586

7

9 10

1112

13

за інтенсивністю відбитого променю

в горловину каустики пучка

у призволящий перетин каустики

[7.10]

[7.11]

[7.12]

8

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.4. Пристрої для позиціювання заготовки в каустиці пучкавипромінювання, перетвореного ОПС, за допомогою

випромінювання від додаткового джерела

1

2

3 4

5

6Рис. 7.11(9.1). Схема використання

Y Y

6

5

43

7

р

додаткового лазера в якості освітлювачаРис. 7.12(9.2). Схема використання

додаткового лазера в якості освітлювача з компесацієювідмінностей у пучків

1

2

д

F F1 2

D

d

F

FГ

д=-

-=2

1

21-2

00

0 ---

-2= ])Fd(F

Fd

Fd[w дд

2в

дfp

дд

ддθ

2121

212

21 -++2

2

4

1±+

2

250= /

дд

Z

д

Z, )]F

Г

F()Z

w([)Z

w(,

θθ

θθ∆

[7.13] [7.14]

9

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.4. Пристрої для позиціювання заготовки в каустиці пучкавипромінювання, перетвореного ОПС, за допомогоювипромінювання від додаткового джерела (подовження)

Б

Б

AA

Б-БA-A

125+0.5

18+0.5

105

175

340

15

16

34 13 2618

232932

28

8

6

17

422 21

199

5

24

10

7

2530333

202711

1231

35

14

270+

0.5

45

310

Рис. 7.12К. Приклад розташування додаткового лазера на юстировочному столі

10


280*

200

*

305*

148*

6

10

O54

M5-H7

205

224

*

22

23 21 8 4 2 1 Оптическая ось лазера ЛТИ-502

20

3

27

5

23

25

9

10

30

А

А

Б Б

В

В

6

А-А В-ВБ-Б

Рис. 7.12КК. Приклад розташування додаткового лазера в юстировочній трубі

11


Y

123 4

5

67Рис.7.14(9.3). Схема введення випромінювання

2додаткового лазера в оптичну систему CО -лазера

1 2 3 4

5 6

7 8

9

ІІ

ІІІІ

Рис. 7.13(9.9). Схема пристрою для налагодження положення заготівки в призволяще місце каустики

[7.15]

[7.16]

12


F

Rз1 2

3

4

5

6 7

Рис. 7.16(9.6). Схема ЛТУ з пристроєм для позиціювання заготовки в каустиці пучка випромінювання, перетвореного ОПС з дзеркальними елементами

dF FF

F7 3

2

4

5 6

1

Рис. 7.15(9.7). Схема пристрою для налагодження положення заготівки в призволяще місце каустики

b

-F1"= n '-1n "-1

(d-F2' )+d

1в

2в

1р

12в

12в

12

8[7.17]

13


r

h

F+

FF

H

R

d

1 2

3 4

5

6

7

8 9

10

11

Рис. 7.18(9.5). Пристрій для позиціювання лінзи із непрозорого матеріалу

h=(a+r)tg +r 2tg +tg tg -tg-(F+- F)1+2tg tg -tg

=2 - /2

=arctg( 1r

R -r )

a

1

22 2

12 1 2 1

1 2 2

2

за допомогою променю видимого випромінювання

a

RR

1

2

F + F

F + F

2 2

1 1

F + F1 2

1

2

F + F1 1

12

Рис.7.17. Схема відбивання променів заломлюючою поверхнею лінзи

r1

r2

[7.18][7.19]

14

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.5. Пристрої для позиціювання заготовки відносно ОПС ЛТУ звізуальною оцінкою результату методом подвійного зображення

1 2

123

4

4

5

6

7

7

8

8

8

910

11

12

Рис. 7.20(8.14). Приклад використання налагодження за

Y

Y

різкостю зображення поверхні заготівки при двох сторонній обробці

3 45

6

78

9

Рис. 7.19. Схема наглядової системи ЛТУ

[7.20]

[7.21]

15


(подовження)

Рис. 7.22(9.10). Схема пристрою для реалізації налагодження положення лінзи

1 2 3 4

5

6 7

I II III

І ІІ

І' ІІ'

І ІІ

І''ІІ''Рис. 7.21(9.11). Метод подвійного зображення

1

2

8

2

2

А

R

B

Fв h

1 23

4

5 6

7

=- 14

[ A(F -h)+R(F -h)+B(F -h)-hFA(F -h)+B(F -h)-hF

+-

+-1

16[ - 1

4R(F-h)

в в в в

в в в

в

ввв

вввв

-h)-hF-h)+B(FA(F-h)-hF-h)+B(F-h)+R(FA(F ]

2

ввв-h)-hF-h)+B(FA(F

із прозорого матеріалу за методом подвійного зображення

Рис. 7.23(9.8). Схема пристрою для реалізації налагодження положення лінзи із непрозорого матеріалу за методом подвійного зображення в призволяще місце каустики пучка

[7.22]

[7.23]

16



A

F+ F

arctg[A/2(F+ F)]

1 2

3 4 65

Y

Рис.7.24(9.12). Схема пристрою з подільником пучка додаткового лазера

aF

Fb

+-

1

3

4

5

6 7 89

= 12

a

( F-b )- FF[ ]

2 1/2arctg

Рис. 7.25(9.4). Схема пристрою на базі подвійного зображення для лінзи із непрозорого матеріалу

[7.24] [7.25]

17



3m6

O7h6

10h6

O3k

6

240

120

145

55

35

120

3045

20 75

50(

100)

±14

O3p6O4g6

O5js6

O6n6

Op6

O1.5g6

O3js6

O6n6

O4g

6

O8h

6

O10

g6

O11

265

7015

0

350

32503323

41

9

10

39

7

36

44

4347

34

3732

3130

2928

262527

27

344849

16

35

8

1213

211119

22

444

516

141820

13

861736

46

I

IM2:1

IIM2:1

IIIM2:1

II

III

A-A

Б-Б

Вид В

H7

H6 H6

H6

H6H6

H7

H6

H6

H6

H6

Рис. 7.24К. Проект модернізації СОК-1 з ричажно-зубчастим приводом повороту дзеркала

18



F

bа

F

12 4

10

3

5

6

I

II

IIIF

7

9

7

8

11

12

13

Рис. 7.26. Схема модернізації оптичної системи СОК-1 для застосування метода подвійного зображення

19


(подовження)Д-Д

922

10

11

18

18

14

23

16

2015

21

7

A

A

12

4

5

19

B

B

Д

Д

A

A

6 1

8

120

21

13

O6H

7/d6

O6H

7/s6

O10H7/s6

190

17

A-AМ(4:1)

220

?6H

8/d7

O6H

8/s7

O3D

7/h7

O3S

7/h7

O3D

7/h7

O3S

7/h7

Б-БМ(4:1)

O4H

7/s6

?8H

7/S

6

O16

H7/

s6

O8H

7/d8

Рис. 7.26К. Проект модернізації СОК-1з ричажно-кулачковим приводом повороту дзеркала

20



33

15

O8

O4

H6/

g4

32

8

24

1970

3570

12

5H7/b1246

62

M4-7Н/8g

2отв

11

19

5.5

M6-

8h-7

g3 отв

8

172,

5

25

22021

4±0.

3

4g12

H8

4

З

З

E

E

AГ

12

9

8

7

28

5

4

3

10 25 11

M4-8H-7g

O4H6/g6

17

258

71±0

.1

20 12 30A

10

9

200±

0.3

ГM2:1

Д Д

21 29 15 14

БВ

В

В-В

1936

Е-Е23

37

Ж-Ж

2439

26

38

Д-ДM4:1

16 17 34 35

З-ЗM4:1

Детали позиций 14 и 16 склеитьклеем 88-А по ГОСТ 147.3478-75

1836

M5x0.25-76h

Рис. 7.26КК. Проект модернізації системи СОК-1з гвинтовим рійково-важільним приводом повороту дзеркала

21



1

2

3

45

Рис. 7.27. Схема приврду нахилу додаткового дзеркала з хвильовим редуктором

І ІІ

І' ІІ'

І ІІ

І''ІІ''

Рис. 7.28(9.11). Метод подвійного зображення

1

2

у різнокольорових промінях

[7.25]

22


(подовження) а). Розрахункова точність позиціювання візуальними методами

• При візуальному наглядічерез мікроскоп та

налагодженні

за різкістю зображення

поверхні розрахункова

похибка розташування 6Sнвідповідає глибині зображення

у просторі системи:“ОКО – ОКУЛЯР – ОБ’ЄКТИВ”:

• При візуальному наглядічерез мікроскоп та

налагодженні

за методом подвійного

зображення

похибка взаємного

розташування освітлених

дільниць в межах 20%d0

дає розрахункову похибку

позиціювання 6Sн(F=20мм та Q=1мрад і

b=15мм):,97656,0

51,02

0006328,0

16

250

10051,0

0003,0250

2

2502502222*

ммАГAГ

T =×

++×

×=λ++ε=

( ) мм005,0b

F)F2,0(F ≈= θ∆∆

23

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.5. Пристрої для позиціювання заготовки відносно ОПС ЛТУ звізуальною оцінкою результату методом подвійного зображенняб). Експериментальні дослідження точності позиціювання візуальних

методівЗавдання досліджень:• визначити точність позиціювання заготовки відносно об'єктиву;

• оцінити продуктивність переходу позиціювання заготовки візуальними

методами.

Об'єкт досліджень:

• процедура налагодження взаємного положення заготовки та об'єктиву уфакторному просторі, визначеному наступними факторами: шорсткістьповерхні заготовки Rz, відносно якої виконується налагодження; кут нахилу

поверхні заготовки β; фокусна відстань F об'єктиву; збільшення окуляра Гнаглядової системи.

• межі факторного простору (квазі-D оптимальний план Бокса на сфері) [7.26] :Фактори, які керуються Кодові значення F(x1) Г*(x2) Rz(x3) β(x4)

розмірність - мм раз мкм град.

Інтервал варіювання ∆xi=1 25 4 2,5 15

Основний рівень 0 75 12 5,0 30

Верхній рівень +1 100 16 7,5 45

Нижній рівень -1 50 8,3 2,5 15

Зіркове плече +2 125 20 10,0 60

Зіркове плече -2 25 10 0,8 0

24


методів (подовження)Критерії злагоди результатів експерименту

Показники процесу налагодження

за методом 3а за методом 4

Критерії злагоди

Sn1 tn1 Sn2 tп2

0,772 0,963 0,793 0,888 wumin

wuтабл 0,767 0,829 0,767 0,829 0,134 0,060 0,231 0,1-3 Gр- Кохрена

Gртабл - Кохрена 0,233 0,118 0,233 0,118 1,514 0,45 0,24 0,162 Fp

Fртабл 1,80 1,72 1,77 1,60

Коефіцієнти регресії моделей точності та продуктивності

Показники b0 b1 b2 b3 b4 b11 b22 b22 b13 b14 b24

Sn1 145 35 -22 17 13 25 25 - - - 15

tn1 10,0 -5,0 4,5 -1,0 -2,2 0,8 0,7 -2,5 0,8 1,3 -1,1

Sn2 85 25 -20 - - 15 - - - - -

tп2 10,4 0,8 -4,0 - 2,8 - 0,6 - - - -1,4

25


методів

25 50 75 100 F,мм

60

120

180

240

S ,мкм

4 8,3 12 16 Г*, раз

8

16

24

32

t ,cп п

Г*=8,3

Г*=12 Г*=4

Г*=20

Г*=16

Rz=0мкм

Rz=2.5

Rz=5

Rz=7.5

Rz=10мкм

Г

0

0

0

0

0

а) б)

tmin

Рис. 7.29. Експериментальні залежності точності налагодження за методом оцінки різкостіта подвійного зображення

за різкістю

подвійнезображення

26

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.6. Автоматизація процесу налагодження відносного положення

пучка випромінювання та заготовки

F+

F h+IT

(h)

12

34

D

F+

F

h+IT

(h) 12

34

Рис. 7.31(10.1). Схеми базування заготівки для виключення впливу нестабільності

РР

IT(h

)a(

IT(a

))

b(IT

b))

c(IT

(c))

c = a - bIT(c) = IT(a) + It(b)

Рис.7.30. Схема формування похибки позиціювання заготівки при неспівпадінні технологічних баз: установочної (А) та вимірювальної (В)

її товщини на умови опромінення

IT(h

)

а б

[7.27]

27


пучка випромінювання та заготовки (подовження)

Рис.7.32(10.2). Приклади реалізації схеми позиціювання за рис.7.48

Рис. 7.33(10.3). Приклади реалізації схеми позиціювання за рис.7.48

1

234

567

Y

1

23

4

5

67

8

9

Y

H

1

2

3

45 6 7

а б

а в

б

1

2

3

4H

1

2

3

4H

для обробки нерухомої заготівки (а) та контурної обробки (б, в)

[7.28]

[7.29]

28


пучка випромінювання та заготовки (подовження)O155f9

225...355*

O4H

7/n6

O4H

7/n6

O205M95*1-6H/6g

O94H9/h9M72*1-6H/6g

O112H7//h6

M110-8H/8g

M125-8H/8g

Г

Г

M72*1-7H/7g

Г-Г(4:1)Б(4:1)

Вид А(2:1)

В-В(2:1)(повернуто)

(повернуто)

Б

В В

11

12

13

10

9

821

7

6

5

12

4

3

2

120 15

2219

18

A

8H7/f7

8H8/n7

Рис. 7.33К. Система з фокусуючою лінзою та опорним роликом

29



d

D

1

2

3

4

56

789

10

111213

14

15

161718

А А

Рис.7.34. Схема ОПС з пристроєм для керуємого змінення

h

h~

А-А

умов опромінення протягом операції контурної обробки

[7.30]

30



А

1 2 3

4567

89

10

11

1213141516

17

18

19

20

21

222324

25

26

27

28

29

Рис. 7.34К. Фокусуюча система із змінним пристроєм для позиціювання відносно заготівки

31



d

D

7

9

10

C

Рис. 7.35(10.4). Схема пристрою

Рис.7.37(10.6).Схема пристрою з автопозиціюванням на базі магітного датчика

Cв в

з9

761

h

2

345

8

11

L

L

10h

1

2

345

6

7

8Y

X

U

1

2

3

67

9 з

845

на базі емкісного датчикаРис. 7.36(10.5). Схема пристрою

на базі індуктивного датчиказ автопозиціюванням з автопозиціюванням

[7.31] [7.32]

[7.33]

32


пучка випромінювання та заготовки (подовження)H l

d

1

2

3

4

5

6

7

8 9 10

p

ppв з

dвх

d

Рис. 7.38(10.7,8). схеми пристроїв автоматичного позиціювання на базі пневматичних датчиків

11

12

1

2

34

5

6

7 8

9

1011

12

13

14

Рз

Рв

Y

[7.34]

[7.35]

33

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова система7.7. Пристрої для захисту поверхні оптичних елементів від

продуктів лазерної ерозіїАналіз прозорості оптичного тракту ОПС

l

l

1 2 3

4

5

6

7

89

10 111213

14

15

16

Рис. 7.39(10.12). Пристрій для періодичного оцінювання ступеню прозорості робочої лінзи 4

п

р

k = I /I

lч, б

ч б

[7.36]

34


продуктів лазерної ерозії (подовження)7.7.1. Засоби організаційних методів захисту оптичних елементів ОПС

e

D

w

e> D2 Cos( 2 )

12

3

4

2

1

2

34а) б)

Рис. 7.40(11.1). Схема опромінення з відводом ерозійного факелу з осі променя

[7.37]

35


продуктів лазерної ерозії (подовження)7.7.2. Пристрої для захисту елементів ОПС прозорими перешкодами

Рис. 41(11.2). Захист оптичних елементів перешкодою із прозорих матеріалів

1 1 12 2

2

3 3

3

4 4 4

5 5 5 666

7 810

а) б) в)

36


продуктів лазерної ерозії (подовження)7.7.2. Пристрої для захисту елементів ОПС прозорими перешкодами

12

34

5

67 8

910

Рис. 7.42(11.3). Захист лінзи склом ізшаром рідини

Рис. 7.43(11.4). Засіб нанесення клію на захисну плівку

Рис. 7.44(11.5). Засіб утілізації складових ерезійного факелу

1 2

3

45

1

234 5

6

7 8

9

1011

+-

+-

++++++++++++++++++++- - - - - - - - - - - - - - - - - -+++++++++++

[7.38] [7.39] – [7.41]

[7.42]

37


продуктів лазерної ерозії (подовження)7.7.2. Пристрої для захисту ОПС з оптичними елементами із ІЧ матеріалів

1

2

3

4

5

1

2

3

4

А

а)б)

Рис. 7.45(11.6). Захист лінзи від ерозійного факелу роликами

5

1

2

5 5

21А

А

А

А

3

4

3

4

6

а) б)

Рис. 7.46(11.7). Захист лінзи від ерозійного факелу комбінованою дією повітряної та механічної заслінок

А

[7.43]

[7.44] [7.45]

38


продуктів лазерної ерозії (подовження)7.7.3. Засоби захисту лазерної оптики енергією газових струменів

1 1 1 1 12 2 2 2 2

3 3 3 3 3

44

4

4

54 5

Рис. 7.47(11.8_10). Захист поверхні лінзи повітряною заслінкою

Рис. 7.48(11.11). Захист від шкідливих продуктів лазерної ерозії та їх утилізація

а)б)

г)д)

1 2

3

4

56

7

89

1011

+-

в)

[7.46] [7.47]

[7.48]

[7.49]

39


продуктів лазерної ерозії (подовження)7.7.3. Електрофізичні та комбіновані засоби захисту лазерної оптики

1 1 1 222

3 3

54 44

3 56 R

C

S

N+

- +-U

а) б)

Рис.7.49(11.12,13). Захист оптичних елементів силами полів (магнитного,електромагнитного та електричним розрядом)

123

4

56

7

9

8

10

Рис. 7.50(11.14). Комбінований захист поверхні лінзи від ерозійного факелу

в)

[7.50] [7.51]

[7.52]

40

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова системаКонтрольні запитання та завдання

1. На яких датчиках можливо створення безконтактних системавтоматизованого позиціювання заготовок у пучку випромінювання?

2. Які фізичні принципи використані в електрофізичних і комбінованих засобахзахисту лазерної оптики?.

3. Навести схеми захист лазерної оптики газовими струменями.4. Виконати систематизацію та класифікацію прийомів позиціювання заготовки

в каустиці пучка випромінювання. 5. Навести схему ОННС в ЛТУ для двосторонньої обробки пучком лазерного

випромінювання.6. Дати оцінку системам автоматизованого позиціювання заготовки у каустиці

пучка випромінювання з жорсткими та податливими упорами. 7. Оптимізувати за складом системи настроювання ОПС при використанні

різноманітних за довжиною хвилі робочого і додаткового лазерів.8. Навести схему пристрою для настроювання положення заготовки відносно

оптично непрозорих фокусуючих елементів ОПС ЛТУ. 9. Навіщо необхідно застосування пристроїв для захисту лазерної оптики?

Який вплив має періодичне забруднення оптичних елементів ЛТУ?-10. Яким чином діють пристрої для механічного захисту лазерної оптики?11. Які пристрої для настроювання елементів дзеркальної оптики ЛТУ вам

відомі? 12. Як реалізується в пристроях для настроювання оптичних систем метод

подвійного зображення? В чому переваги цього методу в порівнянні з іншимивізуальними методами налагодження? Дати кількісну оцінку точностіпорівнювальних методів налагодження.

41

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова системаКонтрольні запитання та завдання (подовження)

13. Як і для чого використовується в пристроях для настроювання ОПС з

додаткове підсвічування?

14. Навести схеми пристроїв для настроювання оптичної системи ЛТУ за

результатами аналізу пучка випромінювання. Які вади має цей спосіб?

15. Для чого застосовуються методи і засоби захисту поверхонь оптичних

елементів ОПС від продуктів лазерної ерозії: механічні, струмінню газу, полями?.

16. Навести схеми організаційних шляхів захисту оптичних елементів від

продуктів лазерної ерозії. Розрахувати умови опромінювання для цих засобівзахисту.

17. Які чотири принципових методи налагодження відносного положення пучка

випромінювання та поверхні заготовки використовуються на практиці?

18. Яку мету переслідує автоматизація процесу налагодження відносного

положення пучка випромінювання та заготовки? Які чутливі датчики тасистеми використовуються в них? Які причини похибки положення заготовкиу каустиці променя за аналоговим методом налагодження?

19. Навести схеми вимірювання характеристик каустики пучка випромінювання

після ОПС, які використовують для налагодження відносного положенняпучка випромінювання та заготовки.

20. Які особливості застосування додаткового малопотужного випромінювання з

довжиною хвилі видимого діапазону при налагодженні відносного положення

пучка випромінювання та заготовки

42

Тема 7. Оптична налагоджувально-наблюдова системаКонтрольні запитання та завдання (подовження)

21. Проаналізувати методи налагодження відносного положення пучкавипромінювання та заготовки шляхом розмірного розташування оптичноїсистеми відносно останньої. Як використовуються мікроскопи в методіподвійного зображення? Яке можливе подальше вдосконалення останньогометоду?

22. Навести схеми організації операції з електрофізичними засобами захиступоверхні оптичних елементів від продуктів лазерної ерозії для металів, неметалів та немагнітних матеріалів.

23. Яка мета експериментальних досліджень різних методів позиціюваннязаготовки в каустиці пучка випромінювання (методу подвійного зображеннята мікроскопного)?

24. Оцінити (приблизно) кількісний та якісний склад похибки діаметральнихрозмірів отворів після лазерної обробки, яку вносять помилки відносногопозиціювання заготовки та ОПС.

25. Яким чином можна враховувати відмінність характеристик лінз із непрозорогоматеріалу (Ge, GaAs) при використанні додаткового випромінювання впереході налагодження відносного положення ОПС і заготовки?

26. Дати оцінку методів керування показниками процедури позиціюваннязаготовки відносно ОПС за результатами експериментальних досліджень.

27. Навести схему та особливості конструкції пристрою для керованого зміненняумов опромінення за простими законами.

43

Бібліографічний опис

7.1. Котляров В.П. Вопросы качества изготовления печатных форм методамилазерной технологии. // Технологія і техніка друкарства (ВПІ) НТУУ (КПІ). 2006.-№3. С.12-34

7.2. Пахомов И.Г., Цибуля А.Б. Расчет оптических систем лазерныхприборов. - М: Радиосвязь, 1986.- 152 с.

7.3. Турыгин И. А. Прикладная оптика. - М: Машиностроение, 1965. - 305 с.

7.4. Заявка Японії №57-31510, В23К 26/02, оп. 05.07.1982р.7.5. Патент 4.472.055 США, G01В 11/14, оп. 9.09.1984р.7.6. Заявка Японії №60-166185, В23К 26/02, оп. 29.08.1985р.7.7. Заявка Японії №59-87992, В23К 26/00, оп. 21.05.1984р.7.8. Заявка Японії №61-9986, В23К 26/02, оп. 17.01.1986р.7.9. Заявка Японії №61-115234, В23К 26/02, оп. 11.06.1986р.7.10. Заявка Японії № 61-186186, В23К 28/02, оп. 19.08.1986р.7.11. Заявка Японії № 59-147791, В23К 26/00, оп. 24.08.1984р.7.12. Заявка Японії № 56-28630, В23К 26/04, оп. 1981р.7.13. А. с. 224677 СРСР; МКІ3 В23К 26/00, оп. 1968р.7.14. Заявка Японії №59-32184, H01S 3/00, оп. 21.02.1984р.7.15. Заявка Японії №61-238489, В23К 26/06, оп. 23.10.1986р.7.16. Заявка Японії №59-61587, В23К 26/00, оп. 07.04.1984р.7.17. Заявка Японії № 58-154479, В23К 26/0, оп. 13.07.1983р.7.18. А.с. 1389141 СРСР, МКІ3 В23К 26/00. Спосіб юстировки лінз

лазерних технологічних установок [Текст] / В.П. Котляров, А.Г. Бобилєв (СРСР). - №4074991/25-27 ; заявл. 10.06.86 ; (без публ.)

7.19. А.с. 1455510 СРСР, МКІ3 В23К 26/00. Установка для лазерної обробки[Текст] / В.П. Котляров, М.І Анякін (СРСР). - №4263771/31 ; заявл. 14.056.87 ; (без публ.)

7.20. Заявка Японії № 56-49076, В23К 26/00, оп. 1981р.

44


7.21. Оптические приборы в машиностроении. Справочник / М.И. Апенко, И.П. Араев, В.А. Афанасьев и др. – М: Машиностроение, 1974.-238 с.

7.22. Заявка Японії № 56-119688, В23К 26/02, оп. 19.09.1981р.7.23. Заявка Японії №58-154480, В23К 26/00, оп. 13.09.1983р.7.24. А. с. 694330 СРСР, МКІ3 В23К 26/00. Пристрій для лазерної обробки

[Текст] / В.П. Котляров, В.С. Коваленко (СРСР). - №2630221/25-27 ; заявл. 19.06.78; (без публ.)

7.25. Патент 73872 Україна, МКІ3 G02B 27/40. Спосіб візуальногофокусування оптичних систем на об’єкт [Текст] / В.П.Котляров, О.М. Процак - № u 2012 03645 ; заявл. 26.03.2012 ; опубл.10.10.2012, бюл. №19. 3 с. : іл.

7.26. Новик Ф.С., Арсов Я.Б. Оптимизация процессов технологии металловметодами планирования экспериментов. – М: Машиностроение, 1980. – 304c.

7.27. Патент 2001313 ФРН, В23К 27/00, оп. 22.08.1974р.7.28. Заявка Японії № 54- 23160, В23К 26/00, оп. 11.08.1979р.7.29. Патент 2492705Франції, В23К 26/06 оп. 1982р.7.30. Позитивне рішення по заявці №4829301/10 (СРСР) Лазерна

технологічна установка з автоматичним фокусуванням об’єктиву. В.П.Котляров, В.С.Коваленко (СРСР)

7.31. Заявка Японії № 59-189088, В23К 26/00, оп. 26.10.1984р.

45


7.32. Патент 3826634 ФРН, В23К 26/00, оп. 05.08.1988р.7.33. Заявка Японії № 58-27922, С21D 1/09, оп. 18.02.1083р.7.34. Заявка Японії № 59-4509, В23К 26/02, оп. 13.03.1984р.7.35. А.с. 1202173 СРСР, МКІ3 В23К 26/00. Установка для лазерної обробки

[Текст] / В.П.Котляров. - №3752072/25-27 ; заявл. 13.6.1984р. (безпубл.)

7.36. Заявка Японії № 59-82184, В23К 26/00, оп. 12.05.1984р.7.37. Заявка Японії № 58 – 119484, В2ЗК 26/02, оп. 15.07.1983р.7.38. Заявка Японії № 55-12351 В23К, 26/14, оп. 01.04.1980р.7.39. Заявка Японії №59-178193, В23К 26/16,оп. 09.10.1984р.7.40. Заявка Японії № 56-12231, В23К 26/16, оп.1981р.7.41. Заявка Японії № 57-97888, В23К 26/16, оп.17.06.1982р.7.42. Заявка Японії № 56-38314, В23D 26/16, оп. 1981р.7.43. Патент 2214159 ФРН, В23R 15/00, оп. 13.03.1975р.7.44. Патент 2431899 Франції, В23К 26/00, оп 22.2.1980р.7.45. Заявка Японії №50-31314, В26Р 1/30, оп 09.10.1975р.)7.46. Заявка Японії №55-12352, В23К 26/19,оп. 01.04.1980р.7.47. Заявка Японії №51-3957, В26F 1/30, оп.06.02.1976р.7.48. Патент 2450662 Франції, В23К 26/14,оп. 1980р.7.49. Заявка Японії №49-22518, В26F 1/30,оп.08.06.1974р.7.50. Заявка Японії №50-31316, В26F 1/30, оп. 09.10.1975р.7.51. Обработка деталей лучом лазера / В.М. Суминов, Е.В. Промыслов,

А.К. Скворчевский, Б.Г. Кузин. - М.: Машиностроение, 1969. – 196с.7.52. Заявка Японії №51-7358, В26F 1/30, оп. 06.03.1976р

Documents

Презентація Лекції 11 12ltft.kpi.ua/documents/SELTO/SELTO-lec-11-12.pdf · Презентація 6 Лекції11_12 Лекції11_12 Тема 7. Оптичнаналагоджувально-наблюдовасистема